JP5378793B2 - 輻射線感受性組成物および画像形成可能な材料 - Google Patents
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Description
ラジカル重合性成分、
形成用輻射線への暴露によってラジカル重合性成分の重合を開始させるのに十分なラジカルを生成することができる開始剤組成物、および
ポリマーバインダー、
を含んでなる輻射線感受性組成物であって、
前記ポリマーバインダーが疎水性骨格を有し、以下のa)およびb)の繰り返し単位:
a)前記疎水性骨格に直接結合したペンダントシアノ基を有する繰り返し単位、および
b)ポリ(アルキレンオキシド)セグメントを含んでなる繰り返し単位、
の両方またはb)の繰り返し単位のみを含んでなり、
前記ラジカル重合性成分がカルボキシ基を含んでなることを特徴とする輻射線感受性組成物を提供する。
ラジカル重合性成分、
画像形成用輻射線への暴露によってラジカル重合性成分の重合を開始させるに十分なラジカルを生成することができる開始剤組成物、および
ポリマーバインダー、
を含んでなる画像形成可能な層を有し、
前記ポリマーバインダーは疎水性骨格を有し、以下のa)およびb)の繰り返し単位:
a)前記疎水性骨格に直接結合したペンダントシアノ基を有する繰り返し単位、および
b)ポリ(アルキレンオキシド)セグメントを含んでなる繰り返し単位、
の両方またはb)の繰り返し単位のみを含んでなり、
前記ラジカル重合性成分はカルボキシ基を含んでなる。
多官能イソシアネートと1種または2種以上のウレアウレタンまたはウレタンメタ(アクリレート)との反応から誘導されたラジカル重合性成分、
ハロニウム塩と、アニオン発色団を有する赤外線吸収化合物とを含んでなる開始剤組成物、および
離散粒子として存在するポリマーバインダー、
を含んでなる画像形成可能な層を有するネガ型の機上現像可能な印刷版前駆体であって、
前記ポリマーバインダーが疎水性骨格を有し、かつ、以下のa)およびb)の繰り返し単位:
a)前記疎水性骨格に直接結合したペンダントシアノ基を有する繰り返し単位、および
b)ペンダントポリ(エチレンオキシド)セグメントを含んでなる繰り返し単位、
の両方を含んでなり、
前記ラジカル重合性成分が、当該ラジカル重合性成分1グラムあたり10〜20mgKOHの酸価を提供するのに十分なカルボキシ基を含んでなることを特徴とするネガ型の印刷機上で現像可能な印刷版前駆体を含む。
A)上記の画像形成可能な要素を像様露光する工程、および
B)像様露光された画像形成可能な層を現像する工程、
を含む、ネガ型印刷版の製造方法も提供する。
本明細書で使用する場合に、「酸価」とは、本明細書で定義するラジカル重合性成分1グラム中のカルボキシ基を中和するのに必要なKOHのミリグラム数である。
本発明の一態様は、好適な電磁輻射線を使用して重合できるコーティングが必要な場合に有用な、特に、コーティングされ画像形成された組成物の未露光領域を除去するのが望ましい場合に有用な輻射線感受性組成物である。輻射線感受性組成物は、集積回路用の印刷回路板およびフォトマスクなどの画像形成可能な要素、好ましくは、以下に詳細に定義する平版印刷版前駆体および画像形成済印刷版などの印刷フォーム(printed forms)を製造するのに使用できる。
a)前記疎水性骨格に直接結合したペンダントシアノ基を有する繰り返し単位、および
b)ポリ(アルキレンオキシド)セグメントを含んでなるペンダント基を有する繰り返し単位。
A)アクリロニトリル、メタクリロニトリルまたはこれらの組み合わせ、
B)アクリル酸またはメタクリル酸のポリ(アルキレンオキシド)エステル、例えばポリ(エチレングリコール)メチルエーテルアクリレート、ポリ(エチレングリコール)メチルエステルメタクリレートまたはこれらの組み合わせ、および
C)必要に応じて、アクリル酸、メタクリル酸、スチレン、ヒドロキシスチレン、アクレートエステル、メタクリレートエステル、アクリルアミド、メタクリルアミドなどのモノマーまたはかかるモノマーの組み合わせ。
画像形成可能な要素は、好適な基材に上記したとおりの輻射線感受性組成物を好適に適用することにより形成される。この基材は、通常、輻射線感受性組成物の適用前に、以下に記載のとおりの種々の方法で処理またはコートされる。本発明の輻射線感受性組成物を含んでなる一層の画像形成層のみがあることが好ましい。接着性または親水性の向上のために基材を処理して「中間層」が提供された場合、適用された輻射線感受性組成物は「最上」層であると考えられる。
使用中、画像形成可能な要素は、輻射線感受性組成物に存在する輻射線吸収化合物に応じて、300〜1400nmの波長で、紫外線、可視光または赤外線などの輻射線の好適な供給源に暴露される。好ましくは、画像形成は、波長700〜1100nmの赤外線レーザーを使用して実施される。本発明の画像形成部材を露光するのに使用されるレーザーは、ダイオードレーザーシステムの信頼性および少ない維持管理のため、好ましくはダイオードレーザーであるが、ガスまたは固体状態レーザーなどの他のレーザーも使用できる。レーザー画像形成のための出力、強度および露光時間の組み合わせは、当業者には容易に分かるであろう。現在、市販のイメージセッターに使用される高性能レーザーまたはレーザーダイオードは、800〜850nmまたは1060〜1120nmの波長の赤外線を発する。
メチルエチルケトン(66.6g)、Desmodur(登録商標)N100(95.5g、0.5当量)、ヒドロキシエチルアクリレート(16.2g、0.135当量)、ペンタエリトリトールトリアクリレート(87.91g、0.213当量、Viscoat−300、日本、Osaka Chemicalから入手可能)、ヒドロキノン(0.0455g)、ジメチルアセトアミド(29.07g)およびヒドロキシ安息香酸(22.70g、0.165当量)を、加熱マントル、温度コントローラ、メカニカルスターラー、コンデンサーおよび窒素の入口を備えた四つ首500mlフラスコに入れた。室温で10分間攪拌後、反応混合物を40℃に加熱し、ジブチルスズジラウレート(0.1g)を加えると反応混合物は60℃に発熱した。処理の間、ジブチルスズジラウレート(0.8g)を2回に分けて加えた。反応の終了は、2275cm-1でのイソシアネート赤外吸収バンドの消失により決定した。得られた透明な溶液は、不揮発分60%で「F-」の動粘度(G.H’33)を有し、得られたラジカル重合性成分Aは、ラジカル重合性成分A1グラム当たり41.5mgKOHの酸価を有していた。MEK/DMACの比は80:20であった。
メチルエチルケトン(53.75g)、Desmodur(登録商標)N100(95.5g、0.5当量)、ヒドロキシエチルアクリレート(30.6g、0.255当量)、ペンタエリトリトールトリアクリレート(88.7g、0.215当量、Viscoat−300、日本、Osaka Chemicalから入手可能)およびヒドロキノン(0.043g)を、加熱マントル、温度コントローラ、メカニカルスターラー、コンデンサーおよび窒素の入口を備えた四つ首500mlフラスコに入れた。室温で10分間攪拌後、反応混合物を40℃に加熱し、ジブチルスズジラウレート(0.14g)を加えると反応混合物は63℃に発熱した。4時間後、滴定法により求められたNCOパーセントは理論どおりであった。その後、MEK(64.6g)、ジメチルアセトアミド(29.6g)およびヒドロキシ安息香酸(6.9g、0.0499当量)を加えた。処理の間、ジブチルスズジラウレート(0.34g)を2回に分けて加え、反応混合物を70℃に加熱した。反応の終了は、2275cm-1でのイソシアネート赤外吸収バンドの消失により決定した。得られた透明な溶液は、不揮発分60%で「B−」の動粘度(G.H’33)を有し、得られたラジカル重合性成分Bは、ラジカル重合性成分B1グラム当たり12.6mgKOHの酸価を有していた。MEK/DMACの比は80:20であった。
メチルエチルケトン(115.4g)、Desmodur(登録商標)N100(95.5g、0.5当量)、ヒドロキシエチルアクリレート(17.4g、0.145当量)、ペンタエリトリトールトリアクリレート(83.73g、0.203当量、Viscoat−300、日本、Osaka Chemicalから入手可能)、ヒドロキノン(0.0445g)、ジメチルアセトアミド(24.24g)およびグリコール酸(12.54g、0.165当量)を、加熱マントル、温度コントローラ、メカニカルスターラー、コンデンサーおよび窒素の入口を備えた四つ首500mlフラスコに入れた。室温で10分間攪拌後、反応混合物を40℃に加熱し、ジブチルスズジラウレート(0.1g)を加えると反応混合物は60℃に発熱した。処理の間、ジブチルスズジラウレート(0.6g)を2回に分けて加えた。反応の終了は、2275cm-1でのイソシアネート赤外吸収バンドの消失により決定した。得られた透明な溶液は、不揮発分60%で「H-」の動粘度(G.H’33)を有し、得られたラジカル重合性成分Cは、ラジカル重合性成分C1グラム当たり44.2mgKOHの酸価を有していた。MEK/DMACの比は83:17であった。
メチルエチルケトン(148.7g)、Desmodur(登録商標)N100(95.5g、0.5当量)、ヒドロキシエチルアクリレート(16.2g、0.135当量)、ペンタエリトリトールトリアクリレート(87.91g、0.213当量、Viscoat−300、日本、Osaka Chemicalから入手可能)およびヒドロキノン(0.0445g)を、加熱マントル、温度コントローラ、メカニカルスターラー、コンデンサーおよび窒素の入口を備えた四つ首500mlフラスコに入れた。室温で10分間攪拌後、反応混合物を40℃に加熱し、ジブチルスズジラウレート(0.13g)を加えると反応混合物は60℃に発熱した。2時間後、滴定法により求められたNCOパーセントは理論どおりであった。反応混合物を30℃に冷却し、ジメチルアセトアミド(33.4g)およびp−アミノ安息香酸(22.62g、0.0499当量)を加えた。処理の間、ジブチルスズジラウレート(0.2g)を2回に分けて加え、反応混合物を35℃に加熱した。反応の終了は、2275cm-1でのイソシアネート赤外吸収バンドの消失により決定した。得られた透明な溶液は、不揮発分60%で「J+」の動粘度(G.H’33)を有し、得られたラジカル重合性成分Dは、ラジカル重合性成分D1グラム当たり41.5mgKOHの酸価を有していた。MEK/DMACの比は82:18であった。
メチルエチルケトン(116.0g)、Desmodur(登録商標)N100(95.5g、0.5当量)、ヒドロキシエチルアクリレート(30g、0.25当量)、ペンタエリトリトールトリアクリレート(86.6g、0.21当量、Viscoat−300、日本、Osaka Chemicalから市販)およびヒドロキノン(0.043g)を、加熱マントル、温度コントローラ、メカニカルスターラー、コンデンサーおよび窒素の入口を備えた四つ首500mlフラスコに入れた。室温で10分間攪拌後、反応混合物を40℃に加熱し、ジブチルスズジラウレート(0.14g)を加えると反応混合物は60℃に発熱した。2時間後、滴定法により求められたNCOパーセントは理論どおりであった。反応混合物を35℃に冷却し、ジメチルアセトアミド(29.2g)およびp−アミノ安息香酸(6.86g、0.05当量)を加えた。処理の間、ブチルスズジラウレート(0.8g)を2回に分けて加え、反応混合物を45℃に加熱した。反応の終了は、2275cm-1でのイソシアネート赤外吸収バンドの消失により決定した。得られた透明な溶液は、不揮発分60%で「B+」の動粘度(G.H’33)を有し、得られたラジカル重合性成分Eは、ラジカル重合性成分E1グラム当たり12.8mgKOHの酸価を有していた。MEK/DMACの比は80:20であった。
乾燥したきれいな指を、画像形成可能な要素の輻射線感受性コーティングに3秒間押しつけた。画像形成可能な要素を垂直に上げ、指から落ちる前に到達した高さを測定した。画像形成可能な要素が指と共に上がった距離が長いほど、その粘性は高い。この試験は、粘性の改善を評価する手段として実施した。
以下の表1に示す輻射線感受性組成物を、処理済みアルミニウム基材に適用し、ラジカル重合性成分E(実施例1)またはB(実施例2)を含む1.0g/m2または1.5g/m2の乾燥コーティング重量を与えた。巻き線ロッドを使用して組成物を適用し、次いで、90℃に設定したコンベヤーオーブン中でおよそ45秒の滞留時間乾燥した。アルミニウム基材はブラシ砂目立てし、リン酸陽極酸化し、ポリ(アクリル酸)で後処理されたものであった。
以下の表2に示す輻射線感受性組成物を、処理済みアルミニウム基材に適用し、ラジカル重合性成分Dを含む1.0g/m2の乾燥コーティング重量を与えた。巻き線ロッドを使用して組成物を適用し、次いで、90℃に設定したRanarコンベヤーオーブン中でおよそ45秒の滞留時間乾燥した。アルミニウム基材は電気化学的砂目立てし、硫酸陽極酸化し、ポリ(ビニルホスホン酸)で後処理されたものであった。
以下の表3に示す輻射線感受性組成物を、処理済みアルミニウム基材に適用し、ラジカル重合性成分A(実施例4)またはラジカル重合性成分C(実施例5)を含む1.0g/m2の乾燥コーティング重量を与えた。巻き線ロッドを使用して組成物を適用し、次いで、90℃に設定したRanarコンベヤーオーブン中でおよそ45秒の滞留時間乾燥した。アルミニウム基材は電気化学的砂目立てし、硫酸陽極酸化し、ポリ(ビニルホスホン酸)で後処理されたものであった。
以下の表4に示す輻射線感受性組成物を、処理済みアルミニウム基材に適用し、1.0g/m2または1.5g/m2の乾燥コーティング重量を与えた。巻き線ロッドを使用して組成物を適用し、次いで、90℃に設定したRanarコンベヤーオーブン中でおよそ45秒の滞留時間乾燥した。アルミニウム基材はブラシ砂目立て処理し、リン酸陽極酸化し、ポリ(アクリル酸)で後処理されたものであった。
Claims (11)
- ラジカル重合性成分、
画像形成用輻射線への暴露によって前記ラジカル重合性成分の重合を開始させるのに十分なラジカルを生成することができる開始剤組成物、および
ポリマーバインダー、
を含んでなる輻射線感受性組成物であって、
前記ポリマーバインダーが繰り返し単位により形成された疎水性骨格を有し、当該繰り返し単位は以下のa)およびb)の繰り返し単位:
a)前記疎水性骨格に直接結合したペンダントシアノ基を有する繰り返し単位、および
b)ポリ(アルキレンオキシド)セグメントを含んでなる繰り返し単位、
の両方またはb)の繰り返し単位のみを含んでなり、
前記ラジカル重合性成分がカルボキシ基を含んでなることを特徴とする輻射線感受性組成物。 - 前記ラジカル重合性成分が、当該ラジカル重合性成分1グラムあたり5〜50mgKOHの酸価を提供するのに十分なカルボキシ基を含んでなる、請求項1に記載の組成物。
- 前記ラジカル重合性成分が、多官能イソシアネート化合物とカルボキシ基を含んでなる1種または2種以上のウレアウレタンまたはウレタン(メタ)アクリレートとの反応から誘導されたものである、請求項1または2に記載の組成物。
- 前記開始剤組成物がオニウム塩を含んでなる、請求項1〜3のいずれか一項に記載の組成物。
- 前記ポリマーバインダーが、ペンダントポリ(アルキレンオキシド)セグメントを含んでなるグラフトポリマーであるか、あるいは前記ポリマーバインダーが、少なくとも1つのポリ(アルキレンオキシド)ブロックと少なくとも1つの非ポリ(アルキレンオキシド)ブロックを有するブロックコポリマーである、請求項1〜4のいずれか一項に記載の組成物。
- 基材を含み、当該基材上に、請求項1〜5のいずれか一項に記載の輻射線感受性組成物を含んでなる画像形成可能な層を有する画像形成可能な要素。
- カーボンブラックまたはIR吸収染料である赤外線吸収化合物を前記輻射線感受性組成物にさらに含んでなる、請求項6に記載の要素。
- 紫外線感受性化合物と、ペンダントシアノ基を含んでなるポリマーバインダーとを前記輻射線感受性組成物にさらに含んでなる、請求項6に記載の要素。
- 前記画像形成可能な層が、前記ポリマーバインダーの離散粒子を含んでなる、請求項6〜8のいずれか一項に記載の要素。
- ネガ型印刷版の製造方法であって、
A)請求項6〜9のいずれか一項に記載の画像形成可能な要素を像様露光する工程、および
B)前記像様露光された画像形成可能な層を現像する工程、
を含む、ネガ型印刷版の製造方法。 - 工程AおよびBの一方または両方が印刷機上で実施される、請求項10に記載の方法。
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US7429445B1 (en) * | 2007-03-07 | 2008-09-30 | Eastman Kodak Company | Negative-working imageable elements and methods of use |
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US7763413B2 (en) * | 2007-10-16 | 2010-07-27 | Eastman Kodak Company | Methods for imaging and processing negative-working imageable elements |
JP5166016B2 (ja) * | 2007-12-28 | 2013-03-21 | 株式会社シンク・ラボラトリー | ネガ型感光性組成物 |
EP2098367A1 (en) | 2008-03-05 | 2009-09-09 | Eastman Kodak Company | Sensitizer/Initiator Combination for Negative-Working Thermal-Sensitive Compositions Usable for Lithographic Plates |
JP4997201B2 (ja) * | 2008-09-05 | 2012-08-08 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版の作製方法 |
US8034538B2 (en) | 2009-02-13 | 2011-10-11 | Eastman Kodak Company | Negative-working imageable elements |
US20100227269A1 (en) | 2009-03-04 | 2010-09-09 | Simpson Christopher D | Imageable elements with colorants |
US8318405B2 (en) | 2009-03-13 | 2012-11-27 | Eastman Kodak Company | Negative-working imageable elements with overcoat |
JP5292156B2 (ja) * | 2009-03-30 | 2013-09-18 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版及びその製版方法 |
US8257907B2 (en) | 2009-06-12 | 2012-09-04 | Eastman Kodak Company | Negative-working imageable elements |
US8247163B2 (en) | 2009-06-12 | 2012-08-21 | Eastman Kodak Company | Preparing lithographic printing plates with enhanced contrast |
JP5162555B2 (ja) * | 2009-09-28 | 2013-03-13 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版及びその製版方法 |
KR101570482B1 (ko) * | 2009-10-15 | 2015-11-20 | 삼성디스플레이 주식회사 | 박막 트랜지스터 표시판 및 그 제조 방법 |
JP2011148292A (ja) | 2009-12-25 | 2011-08-04 | Fujifilm Corp | 平版印刷版原版及びその製版方法 |
JP5541913B2 (ja) | 2009-12-25 | 2014-07-09 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版の作製方法 |
EP2339402A1 (en) | 2009-12-28 | 2011-06-29 | Fujifilm Corporation | Lithographic printing plate precursor and method of preparing lithographic printing plate |
JP5322963B2 (ja) | 2010-01-29 | 2013-10-23 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版及び平版印刷版の作製方法 |
JP5346845B2 (ja) | 2010-02-26 | 2013-11-20 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版の作製方法及び平版印刷版原版用現像液 |
EP2549331B1 (en) | 2010-03-19 | 2015-11-11 | FUJIFILM Corporation | Color developing photosensitive composition, lithographic printing original plate, and method for producing same |
EP2554381B1 (en) | 2010-03-30 | 2018-05-02 | FUJIFILM Corporation | Method for producing lithographic printing plate |
WO2011125913A1 (ja) | 2010-03-31 | 2011-10-13 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版処理用の現像液、該現像液を用いた平版印刷版の作製方法、及び、印刷方法 |
JP5572576B2 (ja) | 2010-04-30 | 2014-08-13 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版及びその製版方法 |
EP2383118B1 (en) | 2010-04-30 | 2013-10-16 | Fujifilm Corporation | Lithographic printing plate precursor and plate making method thereof |
JP5612531B2 (ja) | 2010-04-30 | 2014-10-22 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版用支持体、および平版印刷版原版 |
CN103068583B (zh) | 2010-08-27 | 2015-05-13 | 富士胶片株式会社 | 机上显影型平版印刷版原版和使用该原版的制版方法 |
JP2012073594A (ja) | 2010-08-31 | 2012-04-12 | Fujifilm Corp | 平版印刷版の作製方法 |
JP5789448B2 (ja) | 2010-08-31 | 2015-10-07 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版及びその製版方法 |
JP5656784B2 (ja) | 2010-09-24 | 2015-01-21 | 富士フイルム株式会社 | 重合性組成物及びそれを用いた平版印刷版原版、並びに平版印刷方法 |
CN102030855B (zh) * | 2010-11-21 | 2014-02-26 | 乐凯集团第二胶片厂 | 氨酯化不饱和水溶性乙烯基多元共聚物及其制备方法 |
JP5205505B2 (ja) | 2010-12-28 | 2013-06-05 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版及びその平版印刷方法 |
WO2012090639A1 (ja) * | 2010-12-28 | 2012-07-05 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版及び平版印刷方法 |
JP5205483B2 (ja) | 2011-02-04 | 2013-06-05 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版及び製版方法 |
EP3001249B1 (en) | 2011-02-28 | 2019-12-25 | FUJIFILM Corporation | Lithographic printing plate precursors and processes for preparing lithographic printing plates |
JP5211187B2 (ja) | 2011-02-28 | 2013-06-12 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版及び製版方法 |
JP5244987B2 (ja) | 2011-02-28 | 2013-07-24 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版及びその製版方法 |
JP5186574B2 (ja) | 2011-02-28 | 2013-04-17 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版及びその製版方法 |
WO2012133382A1 (ja) | 2011-03-28 | 2012-10-04 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版の製版方法 |
JP5301015B2 (ja) | 2011-07-25 | 2013-09-25 | 富士フイルム株式会社 | 感光性平版印刷版原版及び平版印刷版の作製方法 |
JP5743783B2 (ja) | 2011-07-27 | 2015-07-01 | 富士フイルム株式会社 | 感光性組成物、平版印刷版原版、及びポリウレタン |
CN103748518B (zh) | 2011-08-22 | 2016-11-23 | 富士胶片株式会社 | 平版印刷版原版和用于制备平版印刷版的方法 |
JP5432960B2 (ja) | 2011-08-24 | 2014-03-05 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版及び平版印刷版の作製方法 |
JP5514781B2 (ja) | 2011-08-31 | 2014-06-04 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版及びこれを用いた平版印刷版の作成方法 |
JP5401522B2 (ja) | 2011-09-15 | 2014-01-29 | 富士フイルム株式会社 | コーティング組成物、ならびに該組成物を用いた、画像形成材料、平版印刷版原版及び酸素遮断性フィルム |
BR112014007143A2 (pt) | 2011-09-26 | 2017-06-13 | Fujifilm Corp | processo para fabricar chapa de impressão litográfica |
EP2762974B1 (en) | 2011-09-26 | 2017-07-26 | Fujifilm Corporation | Method for producing lithographic printing plate |
JP5602195B2 (ja) | 2011-09-27 | 2014-10-08 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版及び平版印刷版の作製方法 |
JP5740275B2 (ja) | 2011-09-30 | 2015-06-24 | 富士フイルム株式会社 | 機上現像型の平版印刷版原版を用いる印刷方法 |
EP2818930B1 (en) | 2012-02-20 | 2018-08-22 | FUJIFILM Corporation | Method of concentrating plate-making process waste liquid, and method of recycling plate-making process waste liquid |
WO2013125323A1 (ja) | 2012-02-23 | 2013-08-29 | 富士フイルム株式会社 | 発色性組成物、発色性硬化組成物、平版印刷版原版及び製版方法、並びに発色性化合物 |
JP6379458B2 (ja) * | 2012-09-13 | 2018-08-29 | 日立化成株式会社 | パターンを有する樹脂層を製造する方法、及びそれに用いられる樹脂組成物 |
BR112015006206A2 (pt) | 2012-09-20 | 2017-07-04 | Fujifilm Corp | precursor de chapa de impressão litográfica e método de preparação da chapa |
WO2014050435A1 (ja) | 2012-09-26 | 2014-04-03 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版及び製版方法 |
WO2014050359A1 (ja) | 2012-09-26 | 2014-04-03 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版及び平版印刷版の製版方法 |
EP2735903B1 (en) | 2012-11-22 | 2019-02-27 | Eastman Kodak Company | Negative working lithographic printing plate precursors comprising a hyperbranched binder material |
JP5899371B2 (ja) | 2013-02-27 | 2016-04-06 | 富士フイルム株式会社 | 赤外線感光性発色組成物、赤外線硬化性発色組成物、平版印刷版原版及び製版方法 |
KR102284382B1 (ko) * | 2014-01-22 | 2021-08-03 | 디아이씨 가부시끼가이샤 | 경화성 조성물, 그 경화물, 성형품 및 디스플레이 부재 |
EP3101475B1 (en) | 2014-01-31 | 2018-03-21 | FUJIFILM Corporation | Infrared-sensitive color developing composition, lithographic printing original plate, plate making method for lithographic printing plate, and infrared-sensitive color developer |
EP3489026B1 (en) | 2014-02-04 | 2023-05-24 | FUJIFILM Corporation | Lithographic printing plate precursor |
WO2017150039A1 (ja) | 2016-02-29 | 2017-09-08 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版及び平版印刷版の製版方法 |
KR102247284B1 (ko) * | 2016-08-30 | 2021-05-03 | 후지필름 가부시키가이샤 | 감광성 조성물, 경화막, 광학 필터, 적층체, 패턴 형성 방법, 고체 촬상 소자, 화상 표시 장치 및 적외선 센서 |
CN109952536B (zh) | 2016-11-16 | 2022-07-08 | 富士胶片株式会社 | 辐射感光性组合物、平版印刷版原版及平版印刷版的制版方法 |
EP3590976A4 (en) | 2017-02-28 | 2020-03-25 | Fujifilm Corporation | CURABLE COMPOSITION, ORIGINAL PLATE FOR LITHOGRAPHIC PRINTING PLATE, AND METHOD FOR MANUFACTURING LITHOGRAPHIC PRINTING PLATE |
BR112019017433A2 (pt) | 2017-02-28 | 2020-04-07 | Fujifilm Corp | método para produzir chapa de impressão litográfica |
BR112019017946B8 (pt) | 2017-02-28 | 2023-03-21 | Fujifilm Corp | Métodos para produção de uma chapa de impressão litográfica do tipo revelação em máquina |
CN110691701A (zh) | 2017-05-31 | 2020-01-14 | 富士胶片株式会社 | 平版印刷版原版、平版印刷版原版制作用树脂组合物及平版印刷版的制作方法 |
CN110678335B (zh) | 2017-05-31 | 2021-11-16 | 富士胶片株式会社 | 平版印刷版原版、平版印刷版的制作方法、聚合物粒子及组合物 |
JP6956787B2 (ja) | 2017-06-12 | 2021-11-02 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版、平版印刷版の製版方法、有機ポリマー粒子、及び、感光性樹脂組成物 |
WO2019004471A1 (ja) | 2017-06-30 | 2019-01-03 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版、及び平版印刷版の作製方法 |
JP6621570B2 (ja) | 2017-07-13 | 2019-12-18 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版、及び、平版印刷版の作製方法 |
CN110998439B (zh) | 2017-07-25 | 2023-09-19 | 富士胶片株式会社 | 平版印刷版原版、平版印刷版的制作方法及显色组合物 |
JP6977065B2 (ja) | 2018-01-31 | 2021-12-08 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版、及び、平版印刷版の作製方法 |
EP3831613B1 (en) | 2018-07-31 | 2023-09-06 | FUJIFILM Corporation | Planographic printing plate precursor |
JPWO2020026957A1 (ja) | 2018-07-31 | 2021-08-19 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版、及び、捨て版原版 |
JP7065979B2 (ja) | 2018-08-31 | 2022-05-12 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版、平版印刷版の作製方法、平版印刷方法、及び、硬化性組成物 |
WO2020067374A1 (ja) | 2018-09-28 | 2020-04-02 | 富士フイルム株式会社 | 印刷用原版、印刷用原版積層体、印刷版の製版方法、及び印刷方法 |
CN112789178B (zh) | 2018-09-28 | 2023-10-20 | 富士胶片株式会社 | 印刷用原版、其层叠体、印刷版的制版方法及印刷方法 |
WO2020090996A1 (ja) | 2018-10-31 | 2020-05-07 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版、平版印刷版の作製方法、及び、平版印刷方法 |
WO2020090995A1 (ja) | 2018-10-31 | 2020-05-07 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版、平版印刷版の作製方法、及び、平版印刷方法 |
WO2020158288A1 (ja) | 2019-01-31 | 2020-08-06 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版、平版印刷版の作製方法、及び、平版印刷方法 |
WO2020158287A1 (ja) | 2019-01-31 | 2020-08-06 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版、平版印刷版の作製方法、及び、平版印刷方法 |
EP3904099A4 (en) | 2019-01-31 | 2022-03-02 | FUJIFILM Corporation | LITHOGRAPHIC PRINTING PLATE PRECURSOR, LITHOGRAPHIC PRINTING PLATE MAKING METHOD AND LITHOGRAPHIC PRINTING METHOD |
JPWO2020158139A1 (ja) | 2019-01-31 | 2021-10-14 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版、平版印刷版の作製方法、及び、平版印刷方法 |
WO2020262693A1 (ja) | 2019-06-28 | 2020-12-30 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版、平版印刷版の作製方法、及び、平版印刷方法 |
CN114096914A (zh) | 2019-06-28 | 2022-02-25 | 富士胶片株式会社 | 机上显影型平版印刷版原版、平版印刷版的制作方法及平版印刷方法 |
JP7293356B2 (ja) | 2019-06-28 | 2023-06-19 | 富士フイルム株式会社 | 機上現像型平版印刷版原版、平版印刷版の作製方法、及び、平版印刷方法 |
WO2020262686A1 (ja) | 2019-06-28 | 2020-12-30 | 富士フイルム株式会社 | 機上現像型平版印刷版原版、平版印刷版の作製方法、及び、平版印刷方法 |
EP3991986A4 (en) | 2019-06-28 | 2022-09-28 | FUJIFILM Corporation | ORIGINAL PLATE FOR AN ON-PRESS LITHOGRAPHIC PRINTING PLATE, METHOD OF MAKING A LITHOGRAPHIC PRINTING PLATE AND LITHOGRAPHIC PRINTING PROCESS |
JP7372324B2 (ja) | 2019-06-28 | 2023-10-31 | 富士フイルム株式会社 | 機上現像型平版印刷版原版、平版印刷版の作製方法、及び、平版印刷方法 |
CN114096421B (zh) | 2019-06-28 | 2023-09-15 | 富士胶片株式会社 | 平版印刷版原版、平版印刷版的制作方法及平版印刷方法 |
JP7282885B2 (ja) | 2019-06-28 | 2023-05-29 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版、平版印刷版の作製方法、及び、平版印刷方法 |
CN118046659A (zh) | 2019-09-30 | 2024-05-17 | 富士胶片株式会社 | 平版印刷版原版、平版印刷版的制作方法及平版印刷方法 |
EP4039488A4 (en) | 2019-09-30 | 2023-03-29 | FUJIFILM Corporation | PLANTOGRAPH MASTER PLATE, PROCESS FOR MAKING A PLANTOGRAPH PLATE AND PLANTOGRAPH PRINTING PROCESS |
EP4039476A4 (en) | 2019-09-30 | 2023-05-03 | FUJIFILM Corporation | LITHOGRAPHIC PRINTING PLATE ORIGINAL PLATE, PROCESS FOR MAKING A LITHOGRAPHIC PRINTING PLATE AND LITHOGRAPHIC PRINTING PROCESS |
CN114845875A (zh) | 2019-12-27 | 2022-08-02 | 富士胶片株式会社 | 平版印刷方法 |
CN115151425A (zh) | 2020-02-28 | 2022-10-04 | 富士胶片株式会社 | 平版印刷版原版、平版印刷版的制作方法及平版印刷方法 |
CN116723941A (zh) | 2020-12-25 | 2023-09-08 | 富士胶片株式会社 | 负型平版印刷版原版的层叠体及负型平版印刷版的制作方法 |
WO2023032868A1 (ja) | 2021-08-31 | 2023-03-09 | 富士フイルム株式会社 | 機上現像型平版印刷版原版、及び印刷版の作製方法 |
CN113942289B (zh) * | 2021-10-26 | 2023-02-28 | 浙江康尔达新材料股份有限公司 | 一种用于光敏阴图型平版印刷版的可成像组合物及其制版方法 |
Family Cites Families (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4228232A (en) | 1979-02-27 | 1980-10-14 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Photopolymerizable composition containing ethylenically unsaturated oligomers |
US5919600A (en) | 1997-09-03 | 1999-07-06 | Kodak Polychrome Graphics, Llc | Thermal waterless lithographic printing plate |
JP3618292B2 (ja) | 2000-11-10 | 2005-02-09 | 日本カーバイド工業株式会社 | 印刷層を有する再帰反射性シート |
US7261998B2 (en) | 2001-04-04 | 2007-08-28 | Eastman Kodak Company | Imageable element with solvent-resistant polymeric binder |
US6899994B2 (en) * | 2001-04-04 | 2005-05-31 | Kodak Polychrome Graphics Llc | On-press developable IR sensitive printing plates using binder resins having polyethylene oxide segments |
US6582882B2 (en) | 2001-04-04 | 2003-06-24 | Kodak Polychrome Graphics Llc | Imageable element comprising graft polymer |
US7172850B2 (en) | 2002-04-10 | 2007-02-06 | Eastman Kodak Company | Preparation of solvent-resistant binder for an imageable element |
US6730457B2 (en) | 2002-07-05 | 2004-05-04 | Kodak Polychrome Graphics Llc | Digital waterless lithographic printing plate having high resistance to water-washable inks |
JP2004198781A (ja) * | 2002-12-19 | 2004-07-15 | Konica Minolta Holdings Inc | 感光性組成物及び平版印刷版材料、並びに平版印刷版材料の処理方法、画像形成方法 |
US7368215B2 (en) | 2003-05-12 | 2008-05-06 | Eastman Kodak Company | On-press developable IR sensitive printing plates containing an onium salt initiator system |
JP2005059446A (ja) * | 2003-08-15 | 2005-03-10 | Fuji Photo Film Co Ltd | 平版印刷版原版及び平版印刷方法 |
-
2005
- 2005-08-03 US US11/196,124 patent/US7153632B1/en not_active Expired - Fee Related
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Publication number | Publication date |
---|---|
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