JP5374724B2 - 極端紫外光源装置 - Google Patents
極端紫外光源装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP5374724B2 JP5374724B2 JP2012094543A JP2012094543A JP5374724B2 JP 5374724 B2 JP5374724 B2 JP 5374724B2 JP 2012094543 A JP2012094543 A JP 2012094543A JP 2012094543 A JP2012094543 A JP 2012094543A JP 5374724 B2 JP5374724 B2 JP 5374724B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- laser
- laser beam
- ultraviolet light
- pulse
- extreme ultraviolet
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Landscapes
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- X-Ray Techniques (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Description
図1は、本発明の第1の実施形態に係るEUV光源装置の構成を示す概略図である。本実施形態に係るEUV光源装置は、レーザビームをターゲット物質に照射して励起させることによりEUV光を生成するレーザ励起プラズマ(LPP)方式を採用している。
さらに、上記の実施形態及び変形例の内の2つ以上を組み合わせることによって、ほぼ一定の強度を有する単一パルス又はパルス列を実現するようにしても良い。
Claims (3)
- ターゲットにレーザビームを照射することにより極端紫外光を発生するレーザ生成プラズマ型極端紫外光源装置であって、
極端紫外光の生成が行われるチャンバと、
前記チャンバ内の所定の位置に液体又は固体のターゲットを供給するターゲット供給手段と、
時間と共に強度が増加するパルスレーザビームを時間と共に減少する増幅率で増幅して強度が略均一の単一パルスレーザビーム又はパルス列レーザビームを生成し、前記ターゲット供給手段によって供給されるターゲットに該レーザビームを照射することによりプラズマを生成するレーザビーム生成部と、
を具備する極端紫外線光源装置。 - 前記レーザビーム生成部が、時間と共に強度が増加するパルスレーザビームを出力する発振段レーザ装置と、前記発振段レーザ装置から出力されるパルスレーザビームを時間と共に減少する増幅率で増幅する少なくとも1段の増幅器を含む増幅段装置とを含む、請求項1記載の極端紫外線光源装置。
- 前記プラズマから放射される極端紫外光を集光して出射するコレクタミラーをさらに具備する、請求項1又は2記載の極端紫外線光源装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2012094543A JP5374724B2 (ja) | 2012-04-18 | 2012-04-18 | 極端紫外光源装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2012094543A JP5374724B2 (ja) | 2012-04-18 | 2012-04-18 | 極端紫外光源装置 |
Related Parent Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2007039811A Division JP5358060B2 (ja) | 2007-02-20 | 2007-02-20 | 極端紫外光源装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2012146683A JP2012146683A (ja) | 2012-08-02 |
JP5374724B2 true JP5374724B2 (ja) | 2013-12-25 |
Family
ID=46790000
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2012094543A Active JP5374724B2 (ja) | 2012-04-18 | 2012-04-18 | 極端紫外光源装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5374724B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP7239491B2 (ja) * | 2017-05-30 | 2023-03-14 | エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ. | 放射源 |
Family Cites Families (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS59219979A (ja) * | 1983-05-30 | 1984-12-11 | Hitachi Ltd | レ−ザ光源装置 |
US5003543A (en) * | 1990-01-19 | 1991-03-26 | California Jamar, Incorporated | Laser plasma X-ray source |
JP2647598B2 (ja) * | 1992-03-27 | 1997-08-27 | 動力炉・核燃料開発事業団 | レーザーシステムの出力制御方法 |
JP4111487B2 (ja) * | 2002-04-05 | 2008-07-02 | ギガフォトン株式会社 | 極端紫外光源装置 |
FR2859545B1 (fr) * | 2003-09-05 | 2005-11-11 | Commissariat Energie Atomique | Procede et dispositif de lithographie par rayonnement dans l'extreme utraviolet |
JP2006128157A (ja) * | 2004-10-26 | 2006-05-18 | Komatsu Ltd | 極端紫外光源装置用ドライバレーザシステム |
-
2012
- 2012-04-18 JP JP2012094543A patent/JP5374724B2/ja active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2012146683A (ja) | 2012-08-02 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5358060B2 (ja) | 極端紫外光源装置 | |
JP5179776B2 (ja) | 極端紫外光源用ドライバレーザ | |
US7317196B2 (en) | LPP EUV light source | |
US8158960B2 (en) | Laser produced plasma EUV light source | |
JP5100990B2 (ja) | 極端紫外光源装置用ドライバーレーザ及びlpp型極端紫外光源装置 | |
US7518787B2 (en) | Drive laser for EUV light source | |
KR102480871B1 (ko) | 극자외 광원 | |
JP6408578B2 (ja) | 極端紫外光源 | |
JP2007529903A (ja) | Lppのeuv光源 | |
JP2013239723A (ja) | レーザシステム | |
JPWO2014119198A1 (ja) | レーザ装置及び極端紫外光生成装置 | |
JP2013084971A (ja) | 極端紫外光源用ドライバレーザ | |
JP5374724B2 (ja) | 極端紫外光源装置 | |
JP7261683B2 (ja) | 極端紫外光生成システム及び電子デバイスの製造方法 | |
EP0792530A1 (en) | Low cost, high average power, high brightness solid state laser | |
WO2016027346A1 (ja) | 極端紫外光生成システムおよび極端紫外光生成方法 | |
JP2013127975A (ja) | 極端紫外光源装置 | |
JP2000111699A (ja) | 軟x線光源装置 | |
JP2022026279A (ja) | 極端紫外光生成システム、及び電子デバイスの製造方法 | |
Rocca et al. | Demonstration of saturated high repetition rate tabletop soft x-ray lasers at wavelengths down to 13.2 nm | |
JP5242758B2 (ja) | 極端紫外光源装置用ドライバーレーザ及びlpp型極端紫外光源装置 | |
JP5474891B2 (ja) | 光源装置及びそれを用いた露光装置 | |
Ozaki et al. | High-intensity high-order harmonic generation for attosecond autocorrelation measurements | |
Luther et al. | Saturated 13.2 nm high repetition rate laser in nickel-like Cd and isoelectronic scaling down to 10.9 nm | |
Dunn et al. | Overview of Tabletop X-ray Laser Development at the Lawrence Livermore National Laboratory |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20120509 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20120509 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20130806 |
|
A711 | Notification of change in applicant |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A711 Effective date: 20130830 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20130902 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5374724 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |