JPS59219979A - レ−ザ光源装置 - Google Patents
レ−ザ光源装置Info
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- JPS59219979A JPS59219979A JP9408583A JP9408583A JPS59219979A JP S59219979 A JPS59219979 A JP S59219979A JP 9408583 A JP9408583 A JP 9408583A JP 9408583 A JP9408583 A JP 9408583A JP S59219979 A JPS59219979 A JP S59219979A
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/23—Arrangements of two or more lasers not provided for in groups H01S3/02 - H01S3/22, e.g. tandem arrangements of separate active media
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- Electromagnetism (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Lasers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の利用分野〕
本発明はレーザ光源装置に係υ、特に半導体のレーザ加
工などに好適々レーザパルスの１パルスごとの出力の安
定性を高くすることのできるレーザ光源装置に関する。
工などに好適々レーザパルスの１パルスごとの出力の安
定性を高くすることのできるレーザ光源装置に関する。
従来より半導体などのレーザ加工プロセスなどの高品質
化にともない、レーザパルスの１パルスごとの出力の安
定性が重要になっている。
化にともない、レーザパルスの１パルスごとの出力の安
定性が重要になっている。
第１図は従来のこの種のレーザ光源装置の一例を示すブ
ロック図で、以下各図面を通じ同一符号または記号は同
一または相当部分を示すものとし図中の１はレーザ電源
、２はレーザ発振器、３はレーザ光である。第１図にお
いて、レーザ電源１によシレーザ発振器２が駆動されて
、レーザ光３が出力する。しかしながら、この従来装置
では、レーザ発振器２の励起状態のほか、レーザ発振器
２の共振器ミラーと光増幅部からなる光学的共振空胴の
熱や振動などによる変形、咬たはよでれなどによる共振
条件の変化のだめ、えられるレーザ光３のレーザ出力は
変動する。このため、茜安定な作業条件を必要とする半
導体などのレーザ加工プロセスなどに利用する場合には
、このレーザ出力の変動は加工品？Ｃ−低下させる原因
となるなどの欠点があった。
ロック図で、以下各図面を通じ同一符号または記号は同
一または相当部分を示すものとし図中の１はレーザ電源
、２はレーザ発振器、３はレーザ光である。第１図にお
いて、レーザ電源１によシレーザ発振器２が駆動されて
、レーザ光３が出力する。しかしながら、この従来装置
では、レーザ発振器２の励起状態のほか、レーザ発振器
２の共振器ミラーと光増幅部からなる光学的共振空胴の
熱や振動などによる変形、咬たはよでれなどによる共振
条件の変化のだめ、えられるレーザ光３のレーザ出力は
変動する。このため、茜安定な作業条件を必要とする半
導体などのレーザ加工プロセスなどに利用する場合には
、このレーザ出力の変動は加工品？Ｃ−低下させる原因
となるなどの欠点があった。
つぎに、第２図は従来のレーザ光源装置の他の−ｆｌＪ
’ｅ示すブロック図で、図中の４はハーフミラ−１５
は光検出器、６は演ｐ−制御部である。第２図において
、レーザ電源１によシレーザ発振器２が駆動されて、レ
ーザ光３が出力する。ついで、このレーザ光３の出力は
、その一部分を反射するハーフ樗う−４によってその一
部分が反射されて光検出器５に入シ、ここで見られたレ
ーザパワーを示す電気信号が演算制御部６に入ってレー
ザ光３の実際のレーザ出力が算定される。そして、この
レーザ光３の出力が所定の出力をこえている場合には、
演算制御部６からレーザ電源１を制御してレーザ発振器
２への電源入力を減らし、また逆の場合には電源入力を
増やして、レーザ発振器２からのレーザ光３の出力のハ
ーフミラ−４を透過する部分が所要の出力になるように
している。しかしながら、この従来装置でも、レーザ発
振器２のレーザ光３のレーザパワーが光検出器５により
測定された時点におけるレーザ光３の出力のハーフミラ
−４を透過した部分はその１ま先に進んでレーザ光３を
使用する部分に送られるから、この時点におけるレーザ
光３の出力を制御することは不可能であって、そのあと
に続くレーザ光３のレーザ出力を制御できるだけである
。このため、やはシ高品質が要求される半導体などのレ
ーザ加工プロセスなどに使用した場合には、レーザ出力
が変動したことケ知った時点ではすでに品質不良の加工
プロセスが進行してしまい、そのあとにレーザ出力の制
御がかかつて高品質の加工プロセスに戻るにすきないな
どの欠点があった。
’ｅ示すブロック図で、図中の４はハーフミラ−１５
は光検出器、６は演ｐ−制御部である。第２図において
、レーザ電源１によシレーザ発振器２が駆動されて、レ
ーザ光３が出力する。ついで、このレーザ光３の出力は
、その一部分を反射するハーフ樗う−４によってその一
部分が反射されて光検出器５に入シ、ここで見られたレ
ーザパワーを示す電気信号が演算制御部６に入ってレー
ザ光３の実際のレーザ出力が算定される。そして、この
レーザ光３の出力が所定の出力をこえている場合には、
演算制御部６からレーザ電源１を制御してレーザ発振器
２への電源入力を減らし、また逆の場合には電源入力を
増やして、レーザ発振器２からのレーザ光３の出力のハ
ーフミラ−４を透過する部分が所要の出力になるように
している。しかしながら、この従来装置でも、レーザ発
振器２のレーザ光３のレーザパワーが光検出器５により
測定された時点におけるレーザ光３の出力のハーフミラ
−４を透過した部分はその１ま先に進んでレーザ光３を
使用する部分に送られるから、この時点におけるレーザ
光３の出力を制御することは不可能であって、そのあと
に続くレーザ光３のレーザ出力を制御できるだけである
。このため、やはシ高品質が要求される半導体などのレ
ーザ加工プロセスなどに使用した場合には、レーザ出力
が変動したことケ知った時点ではすでに品質不良の加工
プロセスが進行してしまい、そのあとにレーザ出力の制
御がかかつて高品質の加工プロセスに戻るにすきないな
どの欠点があった。
本発明の目的は、上記した従来技術の欠点をなくシ、特
に高品質の半導体などのレーザ加工プロセスなどに利用
できるレーザパルスの１パルスごとの出力の安定性の高
い制御が実行されるレーザ光源装置全提供するにある。
に高品質の半導体などのレーザ加工プロセスなどに利用
できるレーザパルスの１パルスごとの出力の安定性の高
い制御が実行されるレーザ光源装置全提供するにある。
本発明は、レーザ発振器のレーザ出力の一部分を光分離
手段を介し取り出して光検出器によりレーザ出力を測定
するとともに、レーザ出力の残シ部分を光遅延回路に入
れて遅延させておき、その間に上記涌検出器によシ測定
したレーザ出力と所定出力の比較演算を演算制御部によ
シ行ない、この演算制御部からの上記比較演算にもとづ
く制御信号によシ調整されたレーザ増幅器もしくはレー
ザ増幅器と透過光量調整器を介し上記光遅延回路で遅延
された上記レーザ出力の残シ部分を取シ出して所要出力
をうるようにしたことを特徴とする増幅器つき光遅延方
式の１７−ザ光源装置である。
手段を介し取り出して光検出器によりレーザ出力を測定
するとともに、レーザ出力の残シ部分を光遅延回路に入
れて遅延させておき、その間に上記涌検出器によシ測定
したレーザ出力と所定出力の比較演算を演算制御部によ
シ行ない、この演算制御部からの上記比較演算にもとづ
く制御信号によシ調整されたレーザ増幅器もしくはレー
ザ増幅器と透過光量調整器を介し上記光遅延回路で遅延
された上記レーザ出力の残シ部分を取シ出して所要出力
をうるようにしたことを特徴とする増幅器つき光遅延方
式の１７−ザ光源装置である。
以下、本発明の実施例を第３図と第４図によυ説明する
。
。
第３図は本発明による増幅器つき光遅延方式のレーザ光
源装置の一実施例を示すブロック図である。第３図にお
いて、１は駆動用のレーザ電源、２はレーザ電源１によ
シ駆動されるレーザ発振器、３はレーザ発振器２から出
力するレーザ光、４はレーザ光３’ｌｆ２つの光路に分
離する光分離手段であるたとえばハーフミラ−１５はハ
ーフミラ−４によυ分離した一方の部分である反射部分
のレーザ光を受光してレーザパワーを測定するだめの光
検出器、６は光検出器５により測定したレーザパワーか
ら実際のレーザ光３のレーザ出力全算定しあらかじめ設
定した所定レーザ出力の設定値と比較演算を行ないその
比を界出してその比に対応した制御信号を出力する比較
演算回路つき演算制御部、７は演算制御部６からの制御
信号によ多制御されるレーザ増幅器用電源、８はさきの
レーザ光３の光分離手段でちるノ・−フミラー４によυ
分離した他方の残り部分である透過部分金入力して所定
時間だけ遅延させる光遅延回路、９は仁の光遅延回路８
の後段に設けられこの光遅延回路８から所定時間だけ遅
延して出力するレーザ光をさきの演算制御部６により決
定した所要の増幅率を与えるべき上記制御信号により制
御されたレーザ増幅器用電源７を介し所要の増幅率で作
動して所要出力まで増幅するレーザ増幅器である。なお
上記の光遅延回路８としては、複数のミラーを組み合せ
だもの、光フプイバ中にレーザ光を通すもの、プリズム
中ｆｆ１ｌＪ）返し限界角以上で全反射させるものなど
、種々のものを一用いて構成することができる。
源装置の一実施例を示すブロック図である。第３図にお
いて、１は駆動用のレーザ電源、２はレーザ電源１によ
シ駆動されるレーザ発振器、３はレーザ発振器２から出
力するレーザ光、４はレーザ光３’ｌｆ２つの光路に分
離する光分離手段であるたとえばハーフミラ−１５はハ
ーフミラ−４によυ分離した一方の部分である反射部分
のレーザ光を受光してレーザパワーを測定するだめの光
検出器、６は光検出器５により測定したレーザパワーか
ら実際のレーザ光３のレーザ出力全算定しあらかじめ設
定した所定レーザ出力の設定値と比較演算を行ないその
比を界出してその比に対応した制御信号を出力する比較
演算回路つき演算制御部、７は演算制御部６からの制御
信号によ多制御されるレーザ増幅器用電源、８はさきの
レーザ光３の光分離手段でちるノ・−フミラー４によυ
分離した他方の残り部分である透過部分金入力して所定
時間だけ遅延させる光遅延回路、９は仁の光遅延回路８
の後段に設けられこの光遅延回路８から所定時間だけ遅
延して出力するレーザ光をさきの演算制御部６により決
定した所要の増幅率を与えるべき上記制御信号により制
御されたレーザ増幅器用電源７を介し所要の増幅率で作
動して所要出力まで増幅するレーザ増幅器である。なお
上記の光遅延回路８としては、複数のミラーを組み合せ
だもの、光フプイバ中にレーザ光を通すもの、プリズム
中ｆｆ１ｌＪ）返し限界角以上で全反射させるものなど
、種々のものを一用いて構成することができる。
この構成による動作を説明すると、まずレーザ電源１に
よりレーザ発振器２が態動され、レーザ発振器２からレ
ーザ光３が出力する。このレーザ光３は光分離手段であ
るノーーフミラー４によりその一部分たとえば１チ部分
が反射されて光検出器５に入る一方、その残シ部分たと
えば９９％部分はハーフミラ−４金透過して光遅延回路
８に入力する。なお、このレーザ発振器２のレーザ光３
のレーザ出力は、たとえば所要出力よυも少し低い出力
になるようにレーザ電源１からの電源入力によシ設定す
ることができる。ついで、レーザ光３の一部分を受光し
た光検出器５はその受光レーザパワーを測定し電気信号
として演算制御部６に送る。
よりレーザ発振器２が態動され、レーザ発振器２からレ
ーザ光３が出力する。このレーザ光３は光分離手段であ
るノーーフミラー４によりその一部分たとえば１チ部分
が反射されて光検出器５に入る一方、その残シ部分たと
えば９９％部分はハーフミラ−４金透過して光遅延回路
８に入力する。なお、このレーザ発振器２のレーザ光３
のレーザ出力は、たとえば所要出力よυも少し低い出力
になるようにレーザ電源１からの電源入力によシ設定す
ることができる。ついで、レーザ光３の一部分を受光し
た光検出器５はその受光レーザパワーを測定し電気信号
として演算制御部６に送る。
すると演算制御部６はこの入力電気信号の示すレーザパ
ワーから実際のレーザ光３のレーザ出力を求め自体内の
比較演算回路によｋ）あらかじめ設定された所定レーザ
出力の設定値と比較濱ｎを行ないその比を算出するとと
もに、たとえばそのハーフミラ−４の透過部分の所要出
力より低い分を増加させるべきレーザ増幅器９の所要の
増幅率を決定してこれに対応する制御１１１信号をレー
ザ増幅器用電源７に送り、このときレーザ増幅器９を連
続励起中のレーザ増幅器用電源７のレーザ増幅器９への
電源入力を調整する。これによシレーザ増幅器９は所要
の増幅率に調整されこの増幅率で作動可能状態になると
ともに、この時点でレーザ増幅器９が所要の増幅率で作
動可能状態となるまでの所定時間だけ遅延して光遅延（
ロ）路９から出力するレーザ光ｔ／Ｆｉ要の増幅率で所
要出力まで増幅したのち、この所要出力となってレーザ
増幅器９から出力するレーザ光はこれ全使用してたとえ
ばレーザ加工などを行な５部分へ送られる。
ワーから実際のレーザ光３のレーザ出力を求め自体内の
比較演算回路によｋ）あらかじめ設定された所定レーザ
出力の設定値と比較濱ｎを行ないその比を算出するとと
もに、たとえばそのハーフミラ−４の透過部分の所要出
力より低い分を増加させるべきレーザ増幅器９の所要の
増幅率を決定してこれに対応する制御１１１信号をレー
ザ増幅器用電源７に送り、このときレーザ増幅器９を連
続励起中のレーザ増幅器用電源７のレーザ増幅器９への
電源入力を調整する。これによシレーザ増幅器９は所要
の増幅率に調整されこの増幅率で作動可能状態になると
ともに、この時点でレーザ増幅器９が所要の増幅率で作
動可能状態となるまでの所定時間だけ遅延して光遅延（
ロ）路９から出力するレーザ光ｔ／Ｆｉ要の増幅率で所
要出力まで増幅したのち、この所要出力となってレーザ
増幅器９から出力するレーザ光はこれ全使用してたとえ
ばレーザ加工などを行な５部分へ送られる。
このようにして本実施例の増幅器つき光遅延方式のレー
ザ光源装置によれば、レーザ発振器からのレーザ光を一
時遅延させておき、その間に測定したレーザ出力に応じ
て調整されたレーザ増幅器で上記の遅延されたレーザ光
を／Ｆｉ要出力出力増幅できるから、たとえばレーザパ
ルスの１パルスごとの出力の安定性の高い制伽が可能と
なシ、高品質の半導体などのレーザ加工プロセスなどに
利用できる。さらに増幅器を付加することにより、たと
えば利得全２に調整した場合にはレーザ発振器の出力が
半分近くに低下してもレーザ加工プロセスなどに直接影
響を与えないようにできる効果が見られる。
ザ光源装置によれば、レーザ発振器からのレーザ光を一
時遅延させておき、その間に測定したレーザ出力に応じ
て調整されたレーザ増幅器で上記の遅延されたレーザ光
を／Ｆｉ要出力出力増幅できるから、たとえばレーザパ
ルスの１パルスごとの出力の安定性の高い制伽が可能と
なシ、高品質の半導体などのレーザ加工プロセスなどに
利用できる。さらに増幅器を付加することにより、たと
えば利得全２に調整した場合にはレーザ発振器の出力が
半分近くに低下してもレーザ加工プロセスなどに直接影
響を与えないようにできる効果が見られる。
つぎに、第４図は本発明による増幅器つき光遅延方式の
レーザ光源装置の他の実施例を示すブロック図である。
レーザ光源装置の他の実施例を示すブロック図である。
第４図において、１０は演算制御部６からの制御信号に
よυ制御される透過光Ｄ３４整器用電源、１１はレーザ
増幅器９の後段に配置されこのレーザ増幅器９の出力を
さきの演算制＃部６により決定したＰＪｉＷの透過率を
与える上記の制御信号によ多制御された透過光量調整器
用電源１０ｉ介し所要の透過率でｒＪ［要出力まで低下
させる透過光量調整器、１２はレーザ光吸収コーンであ
る。なお、本実施例のレーザ増幅器９は自体増幅率をあ
らかじめ定められた数段階たとえば増幅率が１．１゜１
．２ 、１．３ 、１．４ 、１．５ 、１．７ 、２
．０の７段に設定できるようなものでよい。また、演算
制御部６は光検出器５によシ測定したレーザパワーから
実際のレーザ光３のレーザ出力全算定しあらかじめ設定
した所定レーザ出力の値と比較演算ヲ行ないその比を算
出し、その結果に応じてレーザ増幅器９のあらかじめ定
められた数段階の増幅率のうち所要のレーザ出力より大
きく増幅できるような値を選定し、これに対応してレー
ザ増幅器９を選定した値の増幅率で作動させるべき制御
信号をレーザ増幅器用電源７に送るとともに、その選定
した増幅率で増幅させたときにえられるべきレーザ増幅
器９の出力と所要出力との比較演算を行ないその比を算
出し、これによりレーザ増幅器９のレーザ出力を所要出
力壕で低下させるべき透過光量調整器１１の所要の透過
率を決定して、これに対応し透過光量調整器１１を所要
の透過率に設定させるべき制御信号を透過光量調整器用
電源１０に送る役目をする。
よυ制御される透過光Ｄ３４整器用電源、１１はレーザ
増幅器９の後段に配置されこのレーザ増幅器９の出力を
さきの演算制＃部６により決定したＰＪｉＷの透過率を
与える上記の制御信号によ多制御された透過光量調整器
用電源１０ｉ介し所要の透過率でｒＪ［要出力まで低下
させる透過光量調整器、１２はレーザ光吸収コーンであ
る。なお、本実施例のレーザ増幅器９は自体増幅率をあ
らかじめ定められた数段階たとえば増幅率が１．１゜１
．２ 、１．３ 、１．４ 、１．５ 、１．７ 、２
．０の７段に設定できるようなものでよい。また、演算
制御部６は光検出器５によシ測定したレーザパワーから
実際のレーザ光３のレーザ出力全算定しあらかじめ設定
した所定レーザ出力の値と比較演算ヲ行ないその比を算
出し、その結果に応じてレーザ増幅器９のあらかじめ定
められた数段階の増幅率のうち所要のレーザ出力より大
きく増幅できるような値を選定し、これに対応してレー
ザ増幅器９を選定した値の増幅率で作動させるべき制御
信号をレーザ増幅器用電源７に送るとともに、その選定
した増幅率で増幅させたときにえられるべきレーザ増幅
器９の出力と所要出力との比較演算を行ないその比を算
出し、これによりレーザ増幅器９のレーザ出力を所要出
力壕で低下させるべき透過光量調整器１１の所要の透過
率を決定して、これに対応し透過光量調整器１１を所要
の透過率に設定させるべき制御信号を透過光量調整器用
電源１０に送る役目をする。
なお、この透過光量調整器１１としては、電圧により光
の通過できる偏向方向を変えるポッケルスセルなどを使
用することができる。
の通過できる偏向方向を変えるポッケルスセルなどを使
用することができる。
この構成による動作を説明すると、レーザ電源１により
レーザ発振器２が駆動されてレーザ光３が出力する。こ
のレーザ光３は光分離手段であるハーフミラ−４により
一部分たとえば１ｑ６部分が反射されて光検出器５に入
る一方、残＃）部分たとえば９９チ部分は透過して光遅
延回路８に入力する。
レーザ発振器２が駆動されてレーザ光３が出力する。こ
のレーザ光３は光分離手段であるハーフミラ−４により
一部分たとえば１ｑ６部分が反射されて光検出器５に入
る一方、残＃）部分たとえば９９チ部分は透過して光遅
延回路８に入力する。
ついで、光検出器５は受光レーザパワーを測定し電気信
号として演算制御部６に送る。すると演算制御部６は受
信レーザパワーから実際のレーザ光３のレーザ出力を求
め自体内の比較演算回路によりあらかじめ設定された所
定出力と比較してその比を算出し、その結果から実際の
レーザ光３のレーザ出力が所定出力より低いと判定した
場合にはレーザ出力を所定出力よシ大きくすべきレーザ
増幅器９の数段階の増幅率の値を選定し、これに対応し
た制御信号をレーザ増幅器用電源７に送る。
号として演算制御部６に送る。すると演算制御部６は受
信レーザパワーから実際のレーザ光３のレーザ出力を求
め自体内の比較演算回路によりあらかじめ設定された所
定出力と比較してその比を算出し、その結果から実際の
レーザ光３のレーザ出力が所定出力より低いと判定した
場合にはレーザ出力を所定出力よシ大きくすべきレーザ
増幅器９の数段階の増幅率の値を選定し、これに対応し
た制御信号をレーザ増幅器用電源７に送る。
この場合、レーザ増幅器９の増幅率がたとえば１．１
、１．２ 、１．３ 、１．４ 、１．５ 、１．７
、２．０の７段の値に設定可能で通常は通常のレーザ出
力に見合ってたとえば１．４の値に設定されているとす
れば、レーザ光３の実際のレーザ出力の所定出力より低
い程度に応じて増幅後のレーザ出力が所要出力よシも大
きくなるべき増幅率の値たとえば１．７の値に選定する
。これによりレーザ増幅器９を連続励起中のし〜ザ増幅
器用電源７からレーザ増幅器９への電源入力を調整して
、レーザ増幅器９は選定された増幅率の値たとえば１．
４の値に自体増幅率を調整され、このうか定した増幅率
で作動口■能状態となる。一方、演算制御部６はさきの
レーザ増幅器９の増幅率を選定すると同時に、その選定
した増幅率で増幅させたときにえられるべきレーザ増幅
器９の出力と所要用−力の比較演算を行ないその比をａ
−出し、これよりレーザ増幅器９の出力を所要出力まで
低下させるべき透過光量調整器１１の所要の透過率を決
定して、これに対応し透過光量調整器１１を所要の透過
率に設定させるべき制御Ｘｌ信号を透過光量調整器用電
源１０に送る。これによシ透過光量調整器用電源１０か
ら透過光量調整器１１への電源入力を調整して、透過光
量調整器１１は所要の透過率に調整され、この所要の透
過率で動作可能状態となる。つぎに、このようなレーザ
増幅器９および透過光景調整器１１がともに所要の条件
で作動可能状態になる寸での所定時間だけ遅延してさき
の光遅延回路８から出力するレーザ光は、上記のレーザ
増幅器９に送られて選定された値の増幅率で所要出力よ
り大きな所定値にまで増幅されたのち、後段の透過光量
調整器１１に入って設定値に調整された所要の透過率で
所要出力まで低下され、これによシ正確な所要出力のレ
ーザ光がえられるうまた、さきの演算制御部６によシ実
際のレーザ光３の出力が所定出力よシ高いと判定した場
合には、その差の値に応じて必要があれば演算制御部６
によりレーザ増幅器用電源７を制御してレーザ増幅器９
の数段階の増幅率の値を通常のたとえば１．４の値から
たとえば１．１の値まで落し、なお所要出力よシは大き
なレーザ増幅器９の出力になるようにレーザ増幅器９の
増幅率を所定の増幅率に調整するとともに、同じく演算
制御部６によシ透過光景調整器用電源１０を制御して透
過光量調整器１１の透過率を所要の値に調整する。つい
でこのような所定の条件でレーザ増幅器９および透過光
景調整器１１が作動状態になるまでの所定時間だけ遅延
して光遅延回路８によシ出力するレーザ光は、レーザ増
幅器９により選定した所定の増幅率で増幅されたのち、
透過光量調整器１１によシ所要の透過率で透過光量が調
整され、これよシ正確な所要出力のレーザ光がえられて
これを使用するレーザ加ニブＯセスなどの部分に送られ
る。
、１．２ 、１．３ 、１．４ 、１．５ 、１．７
、２．０の７段の値に設定可能で通常は通常のレーザ出
力に見合ってたとえば１．４の値に設定されているとす
れば、レーザ光３の実際のレーザ出力の所定出力より低
い程度に応じて増幅後のレーザ出力が所要出力よシも大
きくなるべき増幅率の値たとえば１．７の値に選定する
。これによりレーザ増幅器９を連続励起中のし〜ザ増幅
器用電源７からレーザ増幅器９への電源入力を調整して
、レーザ増幅器９は選定された増幅率の値たとえば１．
４の値に自体増幅率を調整され、このうか定した増幅率
で作動口■能状態となる。一方、演算制御部６はさきの
レーザ増幅器９の増幅率を選定すると同時に、その選定
した増幅率で増幅させたときにえられるべきレーザ増幅
器９の出力と所要用−力の比較演算を行ないその比をａ
−出し、これよりレーザ増幅器９の出力を所要出力まで
低下させるべき透過光量調整器１１の所要の透過率を決
定して、これに対応し透過光量調整器１１を所要の透過
率に設定させるべき制御Ｘｌ信号を透過光量調整器用電
源１０に送る。これによシ透過光量調整器用電源１０か
ら透過光量調整器１１への電源入力を調整して、透過光
量調整器１１は所要の透過率に調整され、この所要の透
過率で動作可能状態となる。つぎに、このようなレーザ
増幅器９および透過光景調整器１１がともに所要の条件
で作動可能状態になる寸での所定時間だけ遅延してさき
の光遅延回路８から出力するレーザ光は、上記のレーザ
増幅器９に送られて選定された値の増幅率で所要出力よ
り大きな所定値にまで増幅されたのち、後段の透過光量
調整器１１に入って設定値に調整された所要の透過率で
所要出力まで低下され、これによシ正確な所要出力のレ
ーザ光がえられるうまた、さきの演算制御部６によシ実
際のレーザ光３の出力が所定出力よシ高いと判定した場
合には、その差の値に応じて必要があれば演算制御部６
によりレーザ増幅器用電源７を制御してレーザ増幅器９
の数段階の増幅率の値を通常のたとえば１．４の値から
たとえば１．１の値まで落し、なお所要出力よシは大き
なレーザ増幅器９の出力になるようにレーザ増幅器９の
増幅率を所定の増幅率に調整するとともに、同じく演算
制御部６によシ透過光景調整器用電源１０を制御して透
過光量調整器１１の透過率を所要の値に調整する。つい
でこのような所定の条件でレーザ増幅器９および透過光
景調整器１１が作動状態になるまでの所定時間だけ遅延
して光遅延回路８によシ出力するレーザ光は、レーザ増
幅器９により選定した所定の増幅率で増幅されたのち、
透過光量調整器１１によシ所要の透過率で透過光量が調
整され、これよシ正確な所要出力のレーザ光がえられて
これを使用するレーザ加ニブＯセスなどの部分に送られ
る。
このようにして本実施例の増幅器つき光遅延方式のレー
ザ光源装置によれば、さらに増幅器のたとえば後段に透
過光量調整器を配置することにより、増ｖＪ本が連続可
変のレーザ増幅器を必要とせず増幅率が複数段に選定可
能なレーザ増幅器および透過光量調整器によシ、光遅延
回路によυ遅延したレーザ光を正確な所要出力まで調整
できるから、たとえばレーザパルスの１パルスごとの出
力の安定性の高い制御が可能となシ、高品質のレーザ加
工プロセスなどに利用できる。
ザ光源装置によれば、さらに増幅器のたとえば後段に透
過光量調整器を配置することにより、増ｖＪ本が連続可
変のレーザ増幅器を必要とせず増幅率が複数段に選定可
能なレーザ増幅器および透過光量調整器によシ、光遅延
回路によυ遅延したレーザ光を正確な所要出力まで調整
できるから、たとえばレーザパルスの１パルスごとの出
力の安定性の高い制御が可能となシ、高品質のレーザ加
工プロセスなどに利用できる。
以上の説明からあきらかなように、本発明の増幅器つき
光遅延方式のレーザ光源装置によれば、レーザ発振器の
出力を一時遅延させておき、その間に徂（ｊ定したレー
ザ出力に応じて所要出力になるよう調整することができ
るため、正確な安定したレーザ出力がえられ、竹にレー
ザパルスの１パルスごとの出力の安定性の高い制御が実
行可能となって、微細かつ高品質性が要求される半導体
などのレーザ加工プロセスをはじめ各種のレーザ利用分
野に効果的に適用することができる。
光遅延方式のレーザ光源装置によれば、レーザ発振器の
出力を一時遅延させておき、その間に徂（ｊ定したレー
ザ出力に応じて所要出力になるよう調整することができ
るため、正確な安定したレーザ出力がえられ、竹にレー
ザパルスの１パルスごとの出力の安定性の高い制御が実
行可能となって、微細かつ高品質性が要求される半導体
などのレーザ加工プロセスをはじめ各種のレーザ利用分
野に効果的に適用することができる。
第１図は従来のレーザ光源装置の一例を示すブロック図
、第２図は同じく他の例を示すブロック図、第３図は本
発明によるレーザ光源装置の一実施例を示すブロック図
、第４図は同じく他の実施例を示すブロック図である。 １・・・レーザ電源、２・・・レーザ発振器、３・・・
レーザ光、４・・・光分離手段であるハーフミラ−１５
・・・光検出器、６・・・演算制御部、７・・・レーザ
増幅器用電源、８・・・光遅延回路、９・・・レーザ増
幅器、１ｏ・・・透過光量調整器用電源、１１・・・透
過光量調整器。 代理人 弁理士 秋 本 正 突上；、 １
ｔ、１ ５．・２−ｉ、−ａ Ｓ。・３１１
、第２図は同じく他の例を示すブロック図、第３図は本
発明によるレーザ光源装置の一実施例を示すブロック図
、第４図は同じく他の実施例を示すブロック図である。 １・・・レーザ電源、２・・・レーザ発振器、３・・・
レーザ光、４・・・光分離手段であるハーフミラ−１５
・・・光検出器、６・・・演算制御部、７・・・レーザ
増幅器用電源、８・・・光遅延回路、９・・・レーザ増
幅器、１ｏ・・・透過光量調整器用電源、１１・・・透
過光量調整器。 代理人 弁理士 秋 本 正 突上；、 １
ｔ、１ ５．・２−ｉ、−ａ Ｓ。・３１１
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ レーザ発振器と、該レーザ発振器からのレーザ元金
２つに分離する光分離手段と、該光分離手段により分離
された一方のレーザ光を受光してレーザ出力を測定する
光検出器と、上記光分離手段によシ分離された他方のレ
ーザ光を入力して所定時間遅延せしめる光遅延回路と、
上記光検出器によシ測定されたレーザ出力よシ所要増幅
率を決定する演算制御部と、該演η、制御部により決定
された上記所要増幅率で上記光遅延回路から所定時間遅
延して出力するレーザ光を所侠出力まで増幅して出力す
るレーザ増幅器からなるレーザ光源装置。 ２ レーザ発振器と、該レーザ発振器からのレーザ光を
２つに分離する光分内（を手段と、該光分離手段によシ
分離された一方のレーザ光を受光してレーザ出力を測定
する光検出器と、上記光分離手段により分離された他方
のレーザ光を入力して所定時間遅延せしめる光遅延回路
と、上記光検出器により測定されたレーザ出力よシ所定
増幅率および所要透過重金決定する演算制御部と、該演
算制御部により決定された上記所定増幅率および所要透
過率で上記光遅延回路から所定時間遅延して出力するレ
ーザ元金直列にそれぞれ増幅および透過して所要出力の
レーザ元金出力するレーザ増幅器および透過光量調整器
からなるレーザ光源装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9408583A JPS59219979A (ja) | 1983-05-30 | 1983-05-30 | レ−ザ光源装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9408583A JPS59219979A (ja) | 1983-05-30 | 1983-05-30 | レ−ザ光源装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS59219979A true JPS59219979A (ja) | 1984-12-11 |
| JPH0416031B2 JPH0416031B2 (ja) | 1992-03-19 |
Family
ID=14100626
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9408583A Granted JPS59219979A (ja) | 1983-05-30 | 1983-05-30 | レ−ザ光源装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS59219979A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63191663U (ja) * | 1987-05-29 | 1988-12-09 | ||
| JP2012146683A (ja) * | 2012-04-18 | 2012-08-02 | Komatsu Ltd | 極端紫外光源装置 |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP5286249B2 (ja) | 2009-12-29 | 2013-09-11 | 株式会社島精機製作所 | 度山カム装置 |
| JP2013108184A (ja) | 2011-11-17 | 2013-06-06 | Shima Seiki Mfg Ltd | 度違い装置を備えた横編機 |
-
1983
- 1983-05-30 JP JP9408583A patent/JPS59219979A/ja active Granted
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63191663U (ja) * | 1987-05-29 | 1988-12-09 | ||
| JP2012146683A (ja) * | 2012-04-18 | 2012-08-02 | Komatsu Ltd | 極端紫外光源装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0416031B2 (ja) | 1992-03-19 |
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