JP5358979B2 - X線評価用試料の作製方法 - Google Patents
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Description
表面側に測定部位を有する基材の裏面側を削って測定に使用するX線が透過する厚さにする第1の工程と、
前記基材の裏面側に前記第1の工程で前記基材から削った部分よりも多くのX線を吸収するX線吸収膜を形成する第2の工程と、
前記測定部位に対応する位置に、前記X線吸収膜の開口部を形成する第3の工程と
を有することを特徴とするX線評価用試料の作製方法。
表面側に測定部位を有する基材の裏面側を削って測定に使用するX線が透過する厚さにする工程と、
前記基材の裏面側に、前記測定部位に対応する位置に開口部が設けられたX線吸収膜を貼り付ける工程と、
を有することを特徴とするX線評価用試料の作製方法。
一方の面側に測定部位を有する基材と、
前記基材の他方の面側に形成され、前記基材よりもX線透過率が低い材料からなるX線吸収膜と、
前記X線吸収膜の前記測定部位に対応する領域に形成されて前記基材が露出する開口部と、
前記基材及び前記X線吸収膜を貫通する参照光用穴と
を有することを特徴とするX線評価用試料。
12…薄膜、
13…測定部位、
20…試料、
21…ワッシャー、
23…X線吸収膜、
24,42a…参照光用穴、
25,41a…物体光用開口部、
30…検出器、
41,42…金属板。
Claims (3)
- X線評価用試料の作製方法において、
表面側に測定部位を有する基材の裏面側を削って測定に使用するX線が透過する厚さにする第1の工程と、
前記基材の裏面側に前記第1の工程で前記基材から削った部分よりも多くのX線を吸収するX線吸収膜を形成する第2の工程と、
前記測定部位に対応する位置に、前記X線吸収膜の開口部を形成する第3の工程と
を有し、
前記第2の工程又は前記第3の工程の後に、前記測定部位を有する前記基材の表面側から前記基材及び前記X線吸収膜を貫通する参照光用穴を形成する工程を有することを特徴とするX線評価用試料の作製方法。 - 前記第1の工程では、前記基材を透過した後のX線の強度が、前記基材に入射するX線の強度の10%以上となる厚さまで前記基材を削ることを特徴とする請求項1に記載のX線評価用試料の作製方法。
- X線評価用試料の作製方法において、
表面側に測定部位を有する基材の裏面側を削って測定に使用するX線が透過する厚さにする工程と、
前記基材の裏面側に、前記測定部位に対応する位置に開口部が設けられたX線吸収膜を貼り付ける工程と、
を有することを特徴とするX線評価用試料の作製方法。
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