JP5358908B2 - カラーフィルタ製造装置、カラーフィルタ製造方法、乾燥装置、乾燥方法、表示装置の製造装置、表示装置の製造方法 - Google Patents
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Description
本発明は、カラーフィルタ製造装置及び製造方法に関する。詳細には、着色層の加熱乾燥を行うカラーフィルタ製造装置及び製造方法に関する。
近年、パーソナルコンピュータや携帯電話の普及に伴い、高精細かつ軽薄な表示装置が必要とされる。表示装置は、例えば、ＬＣＤ（液晶ディスプレイパネル）、ＰＤＰ（プラズマディスプレイパネル）、有機ＥＬ（ＥｌｅｃｔｒｏＬｕｍｉｎｅｓｃｅｎｔ Ｄｉｓｐｌａｙ）である。これらの表示装置の構成部材として、カラーフィルタが用いられる。
カラーフィルタにおける着色層の形成方法として、インクジェット法、染色法、顔料分散法、電着法、印刷法等の各種方法がある。
インクジェット法では、基板上にパターン形成されたインク受容層にインクを付与することにより、着色層が形成される。あるいは、基板上に遮光部により画設された開口部にインクを塗布することにより、着色層が形成される。インク受容層あるいはインクを乾燥及び硬化させるためには、加熱工程が必要となる。例えば、ホットプレートを用いて加熱することにより、プリベイク（乾燥工程）及びポストベイク（硬化工程）が行われる。一般に、吐出安定性を確保するために遅乾性溶媒（例えば、沸点２５０℃）がインクの主溶剤として用いられる。加熱により溶剤を気化（揮発）させることによりプリベイクが行われる。
インクジェット法では、基板上にパターン形成されたインク受容層にインクを付与することにより、着色層が形成される。あるいは、基板上に遮光部により画設された開口部にインクを塗布することにより、着色層が形成される。インク受容層あるいはインクを乾燥及び硬化させるためには、加熱工程が必要となる。例えば、ホットプレートを用いて加熱することにより、プリベイク（乾燥工程）及びポストベイク（硬化工程）が行われる。一般に、吐出安定性を確保するために遅乾性溶媒（例えば、沸点２５０℃）がインクの主溶剤として用いられる。加熱により溶剤を気化（揮発）させることによりプリベイクが行われる。
また、減圧環境下において加熱乾燥を行うことにより、乾燥時間の短縮化を図るカラーフィルタの製造方法が提案されている（例えば、［特許文献１］参照。）。
しかしながら、減圧環境下で加熱乾燥を行う場合、溶剤の気化成分が減圧室（減圧チャンバ）の上蓋等の内面に付着して結露が生じ、結露した液滴が落下して基板上に付着し、混色や色ムラ等の欠陥が生じるという問題点がある。
本発明は、以上の問題点に鑑みてなされたものであり、加熱工程で発生した結露の滴下に起因する混色あるいは色ムラ等の欠陥の発生を防止し、歩留まりを向上させることを可能とするカラーフィルタ製造装置及び製造方法を提供することを目的とする。
前述した目的を達成するために第１の発明は、基板にインクを付与して着色層を形成するカラーフィルタ製造装置であって、前記基板を収容し、上内面の少なくとも一部が撥水化処理された容器と、加熱処理により前記基板の着色層に含まれる溶媒成分を気化させる加熱部と、前記容器の上内面の少なくとも一部を、水平方向に沿った状態と、水平方向に対して傾斜させた状態とに変形可能な傾斜手段と、を具備することを特徴とするカラーフィルタ製造装置である。
カラーフィルタ製造装置は、基板を容器に収容し、基板を加熱することにより当該基板の着色層に含まれる溶媒成分（水分や溶剤成分やバインダ）を気化させる。容器内面（上蓋の内側等）は撥水化処理され、当該容器内面への気化成分の付着が抑制される。撥水化処理としては、例えば、表面への撥水剤コーティング処理や表面凹凸化処理を施すことが望ましい。尚、「基板にインクを付与して着色層を形成」は、基板に形成されたインク受容層にインクを付与して着色層を形成する場合や、基板に形成された開口部にインクを塗布して着色層を形成する場合を含む。
これにより、気化成分が結露となることを抑制できる。気化成分が結露となり液滴となって落下することを防止できるので、液滴が基板の着色層に付着することがない。従って、混色や色ムラ等の欠陥を防止することができる。
また、結露が生じた場合には、容器上内面の傾斜により結露を容易に移動させて収集することが可能になる。従って、結露除去作業の迅速化を図ることができる。
また、結露が生じた場合には、容器上内面の傾斜により結露を容易に移動させて収集することが可能になる。従って、結露除去作業の迅速化を図ることができる。
第２の発明は、基板にインクを付与して着色層を形成するカラーフィルタ製造装置であって、前記基板を収容し、上内面の少なくとも一部が親水化処理された容器と、加熱処理により前記基板の着色層に含まれる溶媒成分を気化させる加熱部と、前記容器の上内面の少なくとも一部を、水平方向に沿った状態と、水平方向に対して傾斜させた状態とに変形可能な傾斜手段と、を具備することを特徴とするカラーフィルタ製造装置である。
カラーフィルタ製造装置は、基板を容器に収容し、基板を加熱することにより当該基板の着色層に含まれる溶媒成分（水分や溶剤成分やバインダ）を気化させる。容器内面（上蓋の内側等）は親水化処理され、容器内面に付着した結露は濡れ広がる。
これにより、容器内面に結露が濡れ広がる分、液滴となるまでの許容結露量が大きくなるため、液滴が基板の着色層に落下しにくくなり、混色や色ムラ等の欠陥を防止することができる。また、結露除去作業の頻度を軽減して基板乾燥処理の効率化を図ることができる。
カラーフィルタ製造装置は、基板を容器に収容し、基板を加熱することにより当該基板の着色層に含まれる溶媒成分（水分や溶剤成分やバインダ）を気化させる。蓋部材等の容器上内面は、水平方向に対して傾斜可能な構成を有し、傾斜角度を任意に変更可能である。
これにより、結露の付着した面を傾斜させて液化成分を収集する収集手段に結露を移動させ、容易に収集することができる。また、基板上で気化成分が結露となり液滴となって落下することを防止できるので、液滴が基板上の着色層に付着することがない。従って、混色や色ムラ等の欠陥を防止することができる。
尚、最初から蓋部材等の容器上内面を傾斜させてもよいし、加熱工程時に水平方向として、その後の結露収集工程時に傾斜させてもよい。加熱工程時に蓋部材等の容器上内面を水平方向とすることにより、基板の上方空間の容積の偏りをなくして着色層に含まれる溶媒成分を均一に気化させて着色層の形状を均一化させることができる。また、予め蓋部材等の容器上内面を傾斜させる場合であっても、基板の上方空間の容積が均一になるように蓋部材を配置することが望ましい。
また、容器の上内面を複数の蓋部材で構成し、当該複数の蓋部材をそれぞれ液化成分を収集する収集手段の方向に傾斜させる構成にしても良い。
このように、複数の蓋部材をそれぞれの液化成分を収集する収集手段の方向（例えば、２方向）に傾斜させることにより、複数の収集手段に結露を迅速に収集することができる。また、複数の蓋部材をそれぞれの液化成分を収集する収集手段の方向（例えば、一つ置きに互い違いの方向）に傾斜させ、基板の上方空間の容積の偏りを小さくすることができる。従って、大気中の溶媒飽和度の偏りを軽減し、着色層に含まれる溶媒成分を均一に気化させて着色層の表面形状を均一にすることができる。
このように、複数の蓋部材をそれぞれの液化成分を収集する収集手段の方向（例えば、２方向）に傾斜させることにより、複数の収集手段に結露を迅速に収集することができる。また、複数の蓋部材をそれぞれの液化成分を収集する収集手段の方向（例えば、一つ置きに互い違いの方向）に傾斜させ、基板の上方空間の容積の偏りを小さくすることができる。従って、大気中の溶媒飽和度の偏りを軽減し、着色層に含まれる溶媒成分を均一に気化させて着色層の表面形状を均一にすることができる。
収集手段は、着色層からの気化成分が液化して容器の内面に付着した液化成分を収集する。収集手段としては、例えば、掻取機構、払拭機構、吸引機構、ブロー機構等を有する収集治具や収集部材や収集装置を用いることができる。
このように、液化成分を収集手段によって収集することにより、結露が液滴となって基板上に落下することを防止できるので、液滴が基板の着色層に付着することがない。従って、混色や色ムラ等の欠陥を防止することができる。
このように、液化成分を収集手段によって収集することにより、結露が液滴となって基板上に落下することを防止できるので、液滴が基板の着色層に付着することがない。従って、混色や色ムラ等の欠陥を防止することができる。
また、着色層の加熱乾燥を減圧環境下で行うようにしてもよい。このように、減圧環境下で加熱乾燥を行うことにより、乾燥時間の短縮及び着色層の表面形状の改善を図ることができる。
第３の発明は、基板にインクを付与して着色層を形成するカラーフィルタ製造方法であって、前記基板を上内面の少なくとも一部が撥水化処理された容器に収容する基板収容ステップと、加熱処理により前記容器内の基板の着色層に含まれる溶媒成分を気化させる加熱ステップと、前記容器の上内面において前記着色層からの気化成分が液化した液化成分を撥水させる撥水ステップと、前記容器の上内面の少なくとも一部を、水平方向に沿った状態から、水平方向に対して傾斜させる傾斜ステップと、前記容器の上内面の少なくとも一部を、水平方向に対して傾斜した状態から、水平方向に沿った状態に戻すステップと、を具備することを特徴とするカラーフィルタ製造方法である。
第４の発明は、基板にインクを付与して着色層を形成するカラーフィルタ製造方法であって、前記基板を上内面の少なくとも一部が親水化処理された容器に収容する基板収容ステップと、加熱処理により前記容器内の基板の着色層に含まれる溶媒成分を気化させる加熱ステップと、前記容器の上内面において前記着色層からの気化成分が液化した液化成分を濡れ広げさせる親水化ステップと、前記容器の上内面の少なくとも一部を、水平方向に沿った状態から、水平方向に対して傾斜させる傾斜ステップと、前記容器の上内面の少なくとも一部を、水平方向に対して傾斜した状態から、水平方向に沿った状態に戻すステップと、を具備することを特徴とするカラーフィルタ製造方法である。
第３の発明〜４の発明は、基板にインクを付与して着色層を形成するカラーフィルタ製造方法に関する発明である。
第５の発明は、基板にインクを付与して形成される着色層を乾燥する乾燥装置であって、前記基板を収容し、上内面の少なくとも一部が撥水化処理された容器と、加熱処理により前記基板の着色層に含まれる溶媒成分を気化させる加熱部と、前記容器の上内面の少なくとも一部を、水平方向に沿った状態と、水平方向に対して傾斜させた状態とに変形可能な傾斜手段と、を具備することを特徴とする乾燥装置である。
第６の発明は、基板にインクを付与して形成される着色層を乾燥する乾燥装置であって、前記基板を収容し、上内面の少なくとも一部が親水化処理された容器と、加熱処理により前記基板の着色層に含まれる溶媒成分を気化させる加熱部と、前記容器の上内面の少なくとも一部を、水平方向に沿った状態と、水平方向に対して傾斜させた状態とに変形可能な傾斜手段と、を具備することを特徴とする乾燥装置である。
第５の発明〜６の発明は、基板にインクを付与して形成される着色層を乾燥する乾燥装置に関する発明である。
第７の発明は、基板にインクを付与して形成される着色層を乾燥する乾燥方法であって、前記基板を上内面の少なくとも一部が撥水化処理された容器に収容する基板収容ステップと、加熱処理により前記容器内の基板の着色層に含まれる溶媒成分を気化させる加熱ステップと、前記容器の上内面において前記着色層からの気化成分が液化した液化成分を撥水させる撥水ステップと、前記容器の上内面の少なくとも一部を、水平方向に沿った状態から、水平方向に対して傾斜させる傾斜ステップと、前記容器の上内面の少なくとも一部を、水平方向に対して傾斜した状態から、水平方向に沿った状態に戻すステップと、を具備することを特徴とする乾燥方法である。
第８の発明は、基板にインクを付与して形成される着色層を乾燥する乾燥方法であって、前記基板を上内面の少なくとも一部が親水化処理された容器に収容する基板収容ステップと、加熱処理により前記容器内の基板の着色層に含まれる溶媒成分を気化させる加熱ステップと、前記容器の上内面において前記着色層からの気化成分が液化した液化成分を濡れ広げさせる親水化ステップと、前記容器の上内面の少なくとも一部を、水平方向に沿った状態から、水平方向に対して傾斜させる傾斜ステップと、前記容器の上内面の少なくとも一部を、水平方向に対して傾斜した状態から、水平方向に沿った状態に戻すステップと、を具備することを特徴とする乾燥方法である。
第７の発明〜８の発明は、基板にインクを付与して形成される着色層を乾燥する乾燥方法に関する発明である。
第９の発明は、基板にインクを付与して着色層が形成されたカラーフィルタを備える表示装置の製造装置であって、前記基板を収容し、上内面の少なくとも一部が撥水化処理された容器と、加熱処理により前記基板の着色層に含まれる溶媒成分を気化させる加熱部と、前記容器の上内面の少なくとも一部を、水平方向に沿った状態と、水平方向に対して傾斜させた状態とに変形可能な傾斜手段と、を具備することを特徴とする表示装置の製造装置である。
第１０の発明は、基板にインクを付与して着色層が形成されたカラーフィルタを備える表示装置の製造装置であって、前記基板を収容し、上内面の少なくとも一部が親水化処理された容器と、加熱処理により前記基板の着色層に含まれる溶媒成分を気化させる加熱部と、前記容器の上内面の少なくとも一部を、水平方向に沿った状態と、水平方向に対して傾斜させた状態とに変形可能な傾斜手段と、を具備することを特徴とする表示装置の製造装置である。
第９の発明〜１０の発明は、基板にインクを付与して着色層が形成されたカラーフィルタを備える表示装置の製造装置に関する発明である。
第１１の発明は、基板にインクを付与して着色層が形成されたカラーフィルタを備える表示装置の製造方法であって、前記基板を上内面の少なくとも一部が撥水化処理された容器に収容する基板収容ステップと、加熱処理により前記容器内の基板の着色層に含まれる溶媒成分を気化させる加熱ステップと、前記容器の上内面において前記着色層からの気化成分が液化した液化成分を撥水させる撥水ステップと、前記容器の上内面の少なくとも一部を、水平方向に沿った状態から、水平方向に対して傾斜させる傾斜ステップと、前記容器の上内面の少なくとも一部を、水平方向に対して傾斜した状態から、水平方向に沿った状態に戻すステップと、を具備することを特徴とする表示装置の製造方法である。
第１２の発明は、基板にインクを付与して着色層が形成されたカラーフィルタを備える表示装置の製造方法であって、前記基板を上内面の少なくとも一部が親水化処理された容器に収容する基板収容ステップと、加熱処理により前記容器内の基板の着色層に含まれる溶媒成分を気化させる加熱ステップと、前記容器の上内面において前記着色層からの気化成分が液化した液化成分を濡れ広げさせる親水化ステップと、前記容器の上内面の少なくとも一部を、水平方向に沿った状態から、水平方向に対して傾斜させる傾斜ステップと、前記容器の上内面の少なくとも一部を、水平方向に対して傾斜した状態から、水平方向に沿った状態に戻すステップと、を具備することを特徴とする表示装置の製造方法である。
第１１の発明〜１２の発明は、基板にインクを付与して着色層が形成されたカラーフィルタを備える表示装置の製造方法に関する発明である。
本発明によれば、加熱工程で発生した結露の滴下に起因する混色あるいは色ムラ等の欠陥の発生を防止し、歩留まりを向上させることを可能とするカラーフィルタ製造装置及び製造方法を提供することができる。
以下、添付図面を参照しながら、本発明に係るカラーフィルタ製造装置及び製造方法の好適な実施形態について詳細に説明する。なお、以下の説明及び添付図面において、略同一の機能構成を有する構成要素については、同一の符号を付することにより重複説明を省略することにする。
（１．カラーフィルタ製造装置１の構成）
最初に、図１を参照しながら、カラーフィルタ製造装置１の構成について説明する。
図１は、カラーフィルタ製造装置１の構成図である。
最初に、図１を参照しながら、カラーフィルタ製造装置１の構成について説明する。
図１は、カラーフィルタ製造装置１の構成図である。
カラーフィルタ製造装置１は、制御部２、基板３が載置される吸着テーブル４、インクジェットヘッド５、移動部６、アライメントカメラ７、減圧加熱装置８から構成される。
カラーフィルタ製造装置１は、基板３に対してインクジェットヘッド５からインクを吐出してパターニングを行い、カラーフィルタを製造する装置である。
カラーフィルタ製造装置１は、基板３に対してインクジェットヘッド５からインクを吐出してパターニングを行い、カラーフィルタを製造する装置である。
基板３は、ガラス基板やフィルム基板である。
吸着テーブル４は、基板３を吸着して固定するテーブルである。基板の吸着は、例えば、吸着テーブル４と基板３との間の空気を減圧あるいは真空にすることにより行われる。この場合、吸着テーブルには、空気を吸引するための小孔（図示しない）が設けられ、吸着の際には当該孔を通じて真空ポンプ（図示しない）等により空気の吸引が行われる。
吸着テーブル４は、基板３を吸着して固定するテーブルである。基板の吸着は、例えば、吸着テーブル４と基板３との間の空気を減圧あるいは真空にすることにより行われる。この場合、吸着テーブルには、空気を吸引するための小孔（図示しない）が設けられ、吸着の際には当該孔を通じて真空ポンプ（図示しない）等により空気の吸引が行われる。
インクジェットヘッド５は、着色剤等を含むインクを吐出する装置である。インクジェットヘッド５は、基板３上に形成されたインク受容層にインクを付与したり、遮光部により画設された開口部にインクを塗布する。
移動部６は、吸着テーブル４及びインクジェットヘッド５の移動及び位置決めを行う装置である。尚、移動機構としては、汎用のガイド機構や移動用アクチュエータを用いることができる。例えば、移動用アクチュエータとして、ステップモータ、サーボモータ、リニアモータを用い、ガイド機構として、直線移動機構、エアースライドを用いることができる。
アライメントカメラ７は、基板３の位置座標を検出するために、基板３の所定箇所（基板上に形成されるアライメントマーク等）を撮像するカメラである。
移動部６は、吸着テーブル４及びインクジェットヘッド５の移動及び位置決めを行う装置である。尚、移動機構としては、汎用のガイド機構や移動用アクチュエータを用いることができる。例えば、移動用アクチュエータとして、ステップモータ、サーボモータ、リニアモータを用い、ガイド機構として、直線移動機構、エアースライドを用いることができる。
アライメントカメラ７は、基板３の位置座標を検出するために、基板３の所定箇所（基板上に形成されるアライメントマーク等）を撮像するカメラである。
減圧加熱装置８は、減圧環境下で加熱を行う装置である。減圧加熱装置８は、減圧部９及び加熱部１０を備える。減圧加熱装置８は、基板３に対して減圧環境下で加熱を行い、インクが付与されたインク受容層あるいや塗布されたインクを乾燥及び硬化させる。減圧加熱装置８の詳細については後述する。
制御部２は、演算処理や各装置の動作制御を行う装置である。制御部２は、ＣＰＵ（中央演算処理装置）やメモリを備える。制御部２は、アライメントカメラ７による撮像画像に基づいて基板３の位置座標を算出し、移動部６を介してインクジェットヘッド５及び基板３の移動及び位置決めを行う。また、制御部２は、インクジェットヘッド５におけるインク吐出タイミングを制御する。
（２．カラーフィルタ製造方法）
次に、図２及び図３を参照しながら、カラーフィルタ製造方法について説明する。
次に、図２及び図３を参照しながら、カラーフィルタ製造方法について説明する。
（２−１．インク受容層にインクを付与するカラーフィルタ製造方法）
図２は、インク受容層にインクを付与して着色層を形成するカラーフィルタ製造方法を示す図である。
図２は、インク受容層にインクを付与して着色層を形成するカラーフィルタ製造方法を示す図である。
図２（ａ）に示すように、基板３に遮光層２１及びインク受容層２２が形成される。遮光層２１は、光を透過させない層である。遮光層２１は、着色層を画設するブラックマトリクスあるいはブラックストライプである。遮光層２１に関しては、インク受容層２２の上に形成するようにしてもよい。インク受容層２２は、インク付与により着色される着色媒体である。
図２（ｂ）に示すように、フォトマスク２４を用いて光２３を照射してパターン露光が行われる。インク受容層２２にネガ型の樹脂組成物が用いられる場合、露光部分のインク受容層２２は、インク受容能を失って非着色域２５となる。露光部分以外のインク受容層２２は、着色域２６となる。
図２（ｂ）に示すように、フォトマスク２４を用いて光２３を照射してパターン露光が行われる。インク受容層２２にネガ型の樹脂組成物が用いられる場合、露光部分のインク受容層２２は、インク受容能を失って非着色域２５となる。露光部分以外のインク受容層２２は、着色域２６となる。
図２（ｃ）に示すように、インクジェットヘッド５からインク２７が吐出される。インク２７は、染料あるいは顔料等の着色剤を含有する。インク受容層２２の着色域２６にインク２７が付与されて着色される。インク２７は、インク受容層２２の着色域２６に吸収されて拡散する。着色された着色域２６と着色されない非着色域２５とからなる着色層２８が形成される。この段階では、着色層２８は、水分や溶剤成分を含み、湿潤状態（ウェット状態）である。
図２（ｄ）に示すように、着色層２８が形成された基板３は、減圧加熱装置８に搬送される。減圧加熱装置８は、基板３を減圧環境下で加熱し、着色層２８に含まれる水分や溶剤成分を除去して乾燥させる。その後、減圧加熱装置８は、基板３をさらに高温で加熱して着色層２８全体を硬化させる。
図２（ｅ）に示すように、着色層２８上に保護層２９が形成される。
図２（ｄ）に示すように、着色層２８が形成された基板３は、減圧加熱装置８に搬送される。減圧加熱装置８は、基板３を減圧環境下で加熱し、着色層２８に含まれる水分や溶剤成分を除去して乾燥させる。その後、減圧加熱装置８は、基板３をさらに高温で加熱して着色層２８全体を硬化させる。
図２（ｅ）に示すように、着色層２８上に保護層２９が形成される。
以上の過程を経て、基板３に形成されるインク受容層２２にインク２７を付与することにより、カラーフィルタが製造される。
（２−２．開口部にインクを塗布するカラーフィルタ製造方法）
図３は、開口部にインクを塗布して着色層を形成するカラーフィルタ製造方法を示す図である。
図３は、開口部にインクを塗布して着色層を形成するカラーフィルタ製造方法を示す図である。
図３（ａ）に示すように、基板３に遮光層３１が形成される。遮光層３１は、隔壁部である。遮光層３１により、各画素に対応する開口部が形成される。
図３（ｂ）に示すように、インクジェットヘッド５からインク３２が吐出される。インク３２は、染料あるいは顔料等の着色剤を含有する。開口部にインク３２が塗布され、着色層３３が形成される。この段階では、着色層３３は、水分や溶剤成分を含み、湿潤状態（ウェット状態）である。
図３（ｃ）に示すように、着色層３３が形成された基板３は、減圧加熱装置８に搬送される。減圧加熱装置８は、基板３を減圧環境下で加熱し、着色層３３に含まれる水分や溶剤成分を除去して乾燥させる。その後、減圧加熱装置８は、基板３をさらに高温で加熱して着色層３３全体を硬化させる。
図３（ｄ）に示すように、着色層３３上に保護層３４を形成してもよい。
図３（ｂ）に示すように、インクジェットヘッド５からインク３２が吐出される。インク３２は、染料あるいは顔料等の着色剤を含有する。開口部にインク３２が塗布され、着色層３３が形成される。この段階では、着色層３３は、水分や溶剤成分を含み、湿潤状態（ウェット状態）である。
図３（ｃ）に示すように、着色層３３が形成された基板３は、減圧加熱装置８に搬送される。減圧加熱装置８は、基板３を減圧環境下で加熱し、着色層３３に含まれる水分や溶剤成分を除去して乾燥させる。その後、減圧加熱装置８は、基板３をさらに高温で加熱して着色層３３全体を硬化させる。
図３（ｄ）に示すように、着色層３３上に保護層３４を形成してもよい。
以上の過程を経て、基板３に形成される開口部にインク３２を塗布することにより、カラーフィルタが製造される。
（３．減圧加熱装置８）
次に、図４を参照しながら、減圧加熱装置８について説明する。
図４は、減圧加熱装置８の構成図である。
次に、図４を参照しながら、減圧加熱装置８について説明する。
図４は、減圧加熱装置８の構成図である。
減圧加熱装置８は、基板３を収容するチャンバ４１に減圧部９と加熱部１０とが設けられて構成される。減圧部９は、チャンバ４１内の空気を吸引する減圧装置である。減圧部９は、例えば、真空ポンプである。加熱部１０は、チャンバ４１内の基板３を加熱する装置である。加熱部１０は、例えば、ホットプレート、電熱線、ランプ、赤外線放射装置である。尚、図４の着色層４５は、図２の着色層２８及び図３の着色層３３に相当する。
減圧加熱装置８は、減圧部９によりチャンバ４１内の空気を吸引して減圧する。減圧加熱装置８は、加熱部１０により基板３の着色層４５を加熱する。着色層４５から水分や溶剤が気化して気化成分５１が生じる。気化成分５１は、チャンバ４１内に蒸散し、チャンバ４１上部では温度低下により結露５３となってチャンバ４１内の蓋４７に付着する。
（４．蓋４７の加工）
次に、図５〜図１０を参照しながら、減圧加熱装置８のチャンバ４１内の蓋４７の加工について説明する。
次に、図５〜図１０を参照しながら、減圧加熱装置８のチャンバ４１内の蓋４７の加工について説明する。
（４−１．第１の実施の形態）
図５を参照しながら、第１の実施の形態に係る蓋４７ａ及び蓋４７ｂについて説明する。蓋４７ａ及び蓋４７ｂの表面には、結露５３の付着を防止するための撥水化処理（撥水剤コーティング処理や凹凸化処理）が施される。
図５を参照しながら、第１の実施の形態に係る蓋４７ａ及び蓋４７ｂについて説明する。蓋４７ａ及び蓋４７ｂの表面には、結露５３の付着を防止するための撥水化処理（撥水剤コーティング処理や凹凸化処理）が施される。
図５（ａ）は、蓋４７ａを示す図である。
蓋４７ａの表面には撥水剤コーティング処理が施される。蓋４７ａの表面は、撥水剤６１がコーティングされる。撥水剤６１としては、例えば、フッ素樹脂やシリコン樹脂を用いることができる。具体的には、フッ素樹脂：ＥＧＣ−１７２０（住友スリーエム社製）、テフロン（登録商標）ＡＦ（デュポン社製）、シリコン樹脂：ＫＦ−９６（信越化学工業社製）を用いることができる。
蓋４７ａの表面には撥水剤コーティング処理が施される。蓋４７ａの表面は、撥水剤６１がコーティングされる。撥水剤６１としては、例えば、フッ素樹脂やシリコン樹脂を用いることができる。具体的には、フッ素樹脂：ＥＧＣ−１７２０（住友スリーエム社製）、テフロン（登録商標）ＡＦ（デュポン社製）、シリコン樹脂：ＫＦ−９６（信越化学工業社製）を用いることができる。
図５（ｂ）は、蓋４７ｂを示す図である。
蓋４７ｂの表面には凹凸化処理が施される。蓋４７ｂの表面は、荒らされて凹凸部６３が形成される。
蓋４７ｂの表面には凹凸化処理が施される。蓋４７ｂの表面は、荒らされて凹凸部６３が形成される。
このように、蓋４７に撥水剤コーティング処理または凹凸化処理等の撥水化処理を行うことにより、蓋４７との摩擦係数が低下するので付着した結露５３が移動しやすい状態となる。
尚、撥水剤コーティング処理または凹凸化処理等の撥水化処理は、蓋４７に限定されず、チャンバ４１内部の他の内壁に施すこともできる。
尚、撥水剤コーティング処理または凹凸化処理等の撥水化処理は、蓋４７に限定されず、チャンバ４１内部の他の内壁に施すこともできる。
第１の実施の形態では、蓋４７が撥水性を有するので付着した結露５３を容易に移動させて収集し、結露５３が滴下して基板３の着色層４５に付着することを防ぐことができる。従って、着色層４５の混色や色ムラ等の欠陥を防止することができる。また、結露５３を迅速に収集できるので結露収集の時間短縮を図る効果がある。
（４−２．第２の実施の形態）
次に、図６を参照しながら、第２の実施の形態に係る蓋４７ｃについて説明する。
図６（ａ）は、親水剤６５がコーティングされた蓋４７ｃを示す図である。
図６（ｂ）は、蓋４７ｃの表面に濡れ広がる結露５３を示す図である。
次に、図６を参照しながら、第２の実施の形態に係る蓋４７ｃについて説明する。
図６（ａ）は、親水剤６５がコーティングされた蓋４７ｃを示す図である。
図６（ｂ）は、蓋４７ｃの表面に濡れ広がる結露５３を示す図である。
蓋４７ｃの表面には、結露５３を濡れ広がらせるための親水化処理が施される。蓋４７ｃの表面は、親水剤６５がコーティングされる。親水剤６５としては、例えば、親水性ポリマーや光触媒を用いることができる。光触媒コーティングは、経年劣化しても再度復元することが可能である。
蓋４７ｃに、結露５３が付着すると（図６（ａ））、結露５３は蓋４７ｃの表面に濡れ広がる（図６（ｂ））。
尚、親水化処理は、蓋４７ｃに限定されず、チャンバ４１内部の他の内壁に施すこともできる。また、親水剤６５としては、例えば、親水性ポリマーや光触媒を用いることができる。具体的には、親水性ポリマー：ゴーセノールＫＬ−０５（日本合成化学工業社製）、光触媒：ダイヤコートＬＣ８０（三菱マテリアル社製）を用いることができる。
蓋４７ｃに、結露５３が付着すると（図６（ａ））、結露５３は蓋４７ｃの表面に濡れ広がる（図６（ｂ））。
尚、親水化処理は、蓋４７ｃに限定されず、チャンバ４１内部の他の内壁に施すこともできる。また、親水剤６５としては、例えば、親水性ポリマーや光触媒を用いることができる。具体的には、親水性ポリマー：ゴーセノールＫＬ−０５（日本合成化学工業社製）、光触媒：ダイヤコートＬＣ８０（三菱マテリアル社製）を用いることができる。
このように、第２の実施の形態では、容器内面に結露が濡れ広がる分、液滴となるまでの許容結露量が大きくなるため、液滴が基板の着色層に落下しにくくなり、混色や色ムラ等の欠陥を抑制することができる。また、結露除去作業の頻度を軽減して基板乾燥処理の効率化を図ることができる。
（４−３．第３の実施の形態）
次に、図７を参照しながら、第３の実施の形態に係る蓋４７ｄについて説明する。
図７は、水平方向に対して傾斜可能に構成された蓋４７ｄを備える減圧加熱装置８ｄを示す図である。図７（ａ）は傾斜前を示し、図７（ｂ）は、傾斜後を示す。
次に、図７を参照しながら、第３の実施の形態に係る蓋４７ｄについて説明する。
図７は、水平方向に対して傾斜可能に構成された蓋４７ｄを備える減圧加熱装置８ｄを示す図である。図７（ａ）は傾斜前を示し、図７（ｂ）は、傾斜後を示す。
減圧加熱装置８ｄは、蓋４７ｄを支持する支持部６９−１及び支持部６９−２を備える。支持部６９−１及び支持部６９−２は、伸縮あるいは移動することにより、蓋４７ｄを傾斜させる。
減圧加熱装置８ｄは、加熱部１０により基板３の着色層４５を加熱する。着色層４５から気化して生じる気化成分は、チャンバ４１内に蒸散し温度低下により結露５３となって蓋４７ｄに付着する（図７（ａ））。
減圧加熱装置８ｄは、加熱部１０により基板３の着色層４５を加熱する。着色層４５から気化して生じる気化成分は、チャンバ４１内に蒸散し温度低下により結露５３となって蓋４７ｄに付着する（図７（ａ））。
減圧加熱装置８ｄは、支持部６９−１及び支持部６９−２を駆動して蓋４７ｄを所定の角度（例えば、水平方向に対して０度〜２７０度）に傾斜させる。蓋４７ｄに付着した結露５３は、蓋４７ｄの傾斜面に沿って、斜め下方向に移動し、液化成分を収集する収集冶具であるトレイ６７に収集される（図７（ｂ））。
結露５３が収集されて除去されると、減圧加熱装置８ｄは、再び支持部６９−１及び支持部６９−２を駆動して蓋４７ｄを水平に戻し、順次基板３を収容して当該基板３の着色層４５の乾燥処理を行う。減圧加熱装置８ｄは、例えば、所定の数の基板３の乾燥処理が終了する毎に液化成分除去を行うようにしても良い。また、減圧加熱装置８ｄは、付着する結露５３の量を検知し、結露５３が所定量に達する毎に収集して除去するようにしても良い。
尚、減圧加熱装置８ｄは、トレイ６７に収集した結露５３を廃棄し、次の結露５３除去のタイミングに備えることが望ましい。
尚、減圧加熱装置８ｄは、トレイ６７に収集した結露５３を廃棄し、次の結露５３除去のタイミングに備えることが望ましい。
このように、第３の実施の形態では、減圧加熱装置８ｄは、結露５３が液滴となって基板３に落下する前に、蓋４７ｄを傾斜させることにより結露５３を収集冶具（例えば、トレイ６７）に収集して除去する。従って、結露５３の収集を効率的に行うことができる。また、結露５３が滴下して基板３の着色層４５に付着することを防ぎ、着色層４５の混色や色ムラ等の欠陥を防止することができる。
（４−４．第４の実施の形態）
次に、図８を参照しながら、第４の実施の形態に係る蓋４７ｅについて説明する。
図８は、水平方向に対して２方向に傾斜可能に構成された蓋４７ｅを備える減圧加熱装置８ｅを示す図である。図８（ａ）は傾斜前を示し、図８（ｂ）は、傾斜後を示す。
第３の実施の形態では、蓋４７ｄを１方向に傾斜させるものとして説明したが、蓋４７を複数の蓋部材で構成してそれぞれ異なる方向に傾斜させるようにしてもよい。
次に、図８を参照しながら、第４の実施の形態に係る蓋４７ｅについて説明する。
図８は、水平方向に対して２方向に傾斜可能に構成された蓋４７ｅを備える減圧加熱装置８ｅを示す図である。図８（ａ）は傾斜前を示し、図８（ｂ）は、傾斜後を示す。
第３の実施の形態では、蓋４７ｄを１方向に傾斜させるものとして説明したが、蓋４７を複数の蓋部材で構成してそれぞれ異なる方向に傾斜させるようにしてもよい。
蓋４７ｅは、２つの蓋部材７２−１及び蓋部材７２−２から構成される。減圧加熱装置８ｅは、蓋部材７２−１を支持する支持部７１−１及び蓋部材７２−２を支持する７１−２を備える。支持部７１−１は、伸縮あるいは移動することにより、蓋部材７２−１を傾斜させる。支持部７１−２は、伸縮あるいは移動することにより、蓋部材７２−２を傾斜させる。蓋部材７２−１と蓋部材７２−２とは、異なる方向に傾斜させられる。
減圧加熱装置８ｅは、支持部７１−１及び支持部７１−２を駆動して蓋部材７２−１と蓋部材７２−２とを異なる方向に傾斜させる。蓋４７ｅに付着した結露５３は、蓋４７ｅの蓋部材７２−１及び蓋部材７２−２の傾斜面に沿って、斜め下方向に移動し、トレイ７３−１及びトレイ７３−２に収集される（図８（ｂ））。
このように、第４の実施の形態では、減圧加熱装置８ｅは、結露５３が液滴となって基板３に落下する前に、蓋４７ｅを構成する複数の蓋部材を異なる方向に傾斜させることにより結露５３を複数の収集冶具（例えば、トレイ７３−１及びトレイ７３−２）に収集して除去する。従って、結露５３の収集を迅速に行うことができる。また、結露５３が滴下して基板３の着色層４５に付着することを防ぎ、着色層４５の混色や色ムラ等の欠陥を防止することができる。
（４−５．第５の実施の形態）
次に、図９及び図１０を参照しながら、第５の実施の形態に係る蓋４７ｆについて説明する。
図９は、複数方向に傾斜可能な蓋４７ｆを備える減圧加熱装置８ｆを示す図である。図９（ａ）は傾斜前を示し、図９（ｂ）は、傾斜後を示す。
図１０は、蓋４７ｆの構成を示す図である。図１０（ａ）は傾斜前を示し、図１０（ｂ）は、傾斜後を示す。
第４の実施の形態では、蓋４７ｅを２方向に傾斜させるものとして説明したが、蓋４７ｅの分割数、分割形状、傾斜方向は２分割２方向に限定されるものではない。
次に、図９及び図１０を参照しながら、第５の実施の形態に係る蓋４７ｆについて説明する。
図９は、複数方向に傾斜可能な蓋４７ｆを備える減圧加熱装置８ｆを示す図である。図９（ａ）は傾斜前を示し、図９（ｂ）は、傾斜後を示す。
図１０は、蓋４７ｆの構成を示す図である。図１０（ａ）は傾斜前を示し、図１０（ｂ）は、傾斜後を示す。
第４の実施の形態では、蓋４７ｅを２方向に傾斜させるものとして説明したが、蓋４７ｅの分割数、分割形状、傾斜方向は２分割２方向に限定されるものではない。
蓋４７ｆは、複数の蓋部材７９−１、７９−２、…から構成される。減圧加熱装置８ｆは、蓋部材７９−１を支持する支持部７５−１、蓋部材７９−２を支持する支持部７５−２、…を備える。支持部７５−１、７５−２、…は、それぞれ、伸縮あるいは移動することにより、蓋部材７９−１、７９−２、…を傾斜させる。蓋部材７９−１、７９−２、…は、一つ置きに交互に左右方向に傾斜させられる。
減圧加熱装置８ｆは、支持部７５−１、７５−２、…を駆動して、蓋部材７９−１、７９−２、…を所定の角度の傾斜を持たせる。蓋４７ｆに付着した結露５３は、蓋部材７９−１、７９−２、…の傾斜面に沿って、斜め下方向に移動し、トレイ７７−１及び７７−２に収集される（図９（ｂ））。
このように、第５の実施の形態では、減圧加熱装置８ｆは、結露５３が液滴となって基板３に落下する前に、蓋４７ｆを構成する複数の蓋部材を一つ置きに交互に左右に傾斜させることにより結露５３を複数の収集冶具（トレイ７７−１及びトレイ７７−２）に収集して除去する。従って、結露５３の収集を迅速に行うことができる。また、結露５３が滴下して基板３の着色層４５に付着することを防ぎ、着色層４５の混色や色ムラ等の欠陥を防止することができる。
さらに、複数の蓋部材をそれぞれの収集冶具の方向（例えば、一つ置きに互い違いの方向）に傾斜させ、基板の上方空間の容積の偏りを小さくすることができる。従って、大気中の溶媒飽和度の偏りを軽減し、着色層に含まれる溶媒成分を均一に気化させて着色層の表面形状を均一化することができる。
（５．結露除去処理）
次に、図１１〜図１４を参照しながら、結露（液化成分）を収集して除去する結露除去処理機構について説明する。結露除去処理機構として、掻取機構８１、払拭機構８４、吸引機構８６、ブロー機構９０を取り上げて説明する。
次に、図１１〜図１４を参照しながら、結露（液化成分）を収集して除去する結露除去処理機構について説明する。結露除去処理機構として、掻取機構８１、払拭機構８４、吸引機構８６、ブロー機構９０を取り上げて説明する。
（５−１．掻取機構８１）
図１１は、減圧加熱装置８の結露５３を収集する掻取機構８１を示す図である。掻取機構８１は、ブレード８２およびトレイ８３を備える。掻取機構８１はＡ方向に移動しながら、ブレード８２で蓋４７に付着する結露５３を掻き取りトレイ８３に収集する。
図１１は、減圧加熱装置８の結露５３を収集する掻取機構８１を示す図である。掻取機構８１は、ブレード８２およびトレイ８３を備える。掻取機構８１はＡ方向に移動しながら、ブレード８２で蓋４７に付着する結露５３を掻き取りトレイ８３に収集する。
（５−２．払拭機構８４）
図１２は、減圧加熱装置８の結露５３を収集する払拭機構８４を示す図である。払拭機構８４は、ワイパー材８５を備える。払拭機構８４はＡ方向に移動しながら、ワイパー材８５で蓋４７に付着する結露５３を払拭して収集する。
図１２は、減圧加熱装置８の結露５３を収集する払拭機構８４を示す図である。払拭機構８４は、ワイパー材８５を備える。払拭機構８４はＡ方向に移動しながら、ワイパー材８５で蓋４７に付着する結露５３を払拭して収集する。
（５−３．吸引機構８６）
図１３は、減圧加熱装置８の結露５３を収集する吸引機構８６を示す図である。吸引機構８６は、ノズル８７、ポンプ８８、およびトレイ８９を備える。吸引機構８６はＡ方向に移動しながら、ポンプ８８によりノズル８７から蓋４７に付着する結露５３をＢ方向に吸引し、トレイ８９に収集する。
図１３は、減圧加熱装置８の結露５３を収集する吸引機構８６を示す図である。吸引機構８６は、ノズル８７、ポンプ８８、およびトレイ８９を備える。吸引機構８６はＡ方向に移動しながら、ポンプ８８によりノズル８７から蓋４７に付着する結露５３をＢ方向に吸引し、トレイ８９に収集する。
（５−４．ブロー機構９０）
図１４は、減圧加熱装置８の結露５３を収集するブロー機構９０を示す図である。ブロー機構９０は、ノズル９１、コンプレッサ９２、およびトレイ９３を備える。ブロー機構９０はＡ方向に移動しながら、ノズル９１からＢ方向にエアを吹き出し、蓋４７に付着する結露５３を吹き飛ばしてトレイ６９に収集する。
図１４は、減圧加熱装置８の結露５３を収集するブロー機構９０を示す図である。ブロー機構９０は、ノズル９１、コンプレッサ９２、およびトレイ９３を備える。ブロー機構９０はＡ方向に移動しながら、ノズル９１からＢ方向にエアを吹き出し、蓋４７に付着する結露５３を吹き飛ばしてトレイ６９に収集する。
このように、第１乃至第５の実施の形態に、上記結露５３を除去する機能（掻取機構８１、払拭機構８４、吸引機構８６、ブロー機構９０等）のいずれかを組み合わせて動作させることで、結露の収集及び除去を迅速かつ効率的に行うことができる。
（６．表示装置１０１の製造）
図１５は、表示装置１０１を示す図である。ここでは、表示装置１０１として液晶ディスプレイパネルを挙げて説明する。
基板１０２は、カラーフィルタ製造装置１により製造されたカラーフィルタである。基板１０２には、液晶封入空間を確保するためのスペーサ１０６が形成される。基板１０３は、ＴＦＴ（Ｔｈｉｎ Ｆｉｌｍ Ｔｒａｎｓｉｓｔｏｒ）等のアレイ基板である。基板１０２と基板１０３とを貼り合わせ、基板の周辺部分にシール材１０４を設け、基板間に液晶１０７を封入することにより、表示装置１０１が製造される。
図１５は、表示装置１０１を示す図である。ここでは、表示装置１０１として液晶ディスプレイパネルを挙げて説明する。
基板１０２は、カラーフィルタ製造装置１により製造されたカラーフィルタである。基板１０２には、液晶封入空間を確保するためのスペーサ１０６が形成される。基板１０３は、ＴＦＴ（Ｔｈｉｎ Ｆｉｌｍ Ｔｒａｎｓｉｓｔｏｒ）等のアレイ基板である。基板１０２と基板１０３とを貼り合わせ、基板の周辺部分にシール材１０４を設け、基板間に液晶１０７を封入することにより、表示装置１０１が製造される。
（７．その他）
以上詳細に説明したように、減圧加熱装置の上蓋に好適な加工を行うことにより、着色層からの気化成分の結露の除去を容易に行うことが可能になる。即ち、結露が滴下して着色層へ付着することを防止し、混色や色ムラ等の欠陥を防いでカラーフィルタ製造における歩留まりの向上に効果がある。
また、本実施の形態の蓋と、結露除去処理機構とを組み合わせることにより、結露の収集及び除去を迅速かつ効率的に行うことができる。
以上詳細に説明したように、減圧加熱装置の上蓋に好適な加工を行うことにより、着色層からの気化成分の結露の除去を容易に行うことが可能になる。即ち、結露が滴下して着色層へ付着することを防止し、混色や色ムラ等の欠陥を防いでカラーフィルタ製造における歩留まりの向上に効果がある。
また、本実施の形態の蓋と、結露除去処理機構とを組み合わせることにより、結露の収集及び除去を迅速かつ効率的に行うことができる。
尚、減圧乾燥装置に加熱部を設けるものとして説明したが、減圧部を備えない乾燥装置に加熱部を設けた場合に本実施の形態を適用しても良い。但し、減圧環境下で加熱した場合には、乾燥時間の短縮や着色層形状の均一化を実現することができる。特に、面付け周縁部では、他の部分より形状変化が大きいが、減圧環境下で加熱乾燥及び加熱硬化させることにより、面付け周縁部の着色層の表面形状を均一化することができる。
また、インクの吐出は、インクジェットヘッドに限られず、例えば、ディスペンサ等を用いることもできる。
また、インクの吐出は、インクジェットヘッドに限られず、例えば、ディスペンサ等を用いることもできる。
また、基板を減圧加熱装置に収容したまま結露の収集処理及び除去処理を行ってもよいし、基板を減圧加熱装置から取り出してから結露の収集処理及び除去処理を行ってもよい。また、第３の実施の形態〜第５の実施の形態では、蓋４７を傾斜させたまま乾燥処理を行ってもよいし、蓋４７を水平方向に戻して乾燥処理を行うようにしてもよい。
また、第１の実施の形態〜第５の実施の形態について説明したが、これらを適宜組み合わせてカラーフィルタ製造装置や減圧乾燥装置等を構成するようにしてもよい。
また、第１の実施の形態〜第５の実施の形態について説明したが、これらを適宜組み合わせてカラーフィルタ製造装置や減圧乾燥装置等を構成するようにしてもよい。
以上、添付図面を参照しながら、本発明にかかるカラーフィルタ製造装置及び製造方法の好適な実施形態について説明したが、本発明はかかる例に限定されない。当業者であれば、本願で開示した技術的思想の範疇内において、各種の変更例または修正例に想到し得ることは明らかであり、それらについても当然に本発明の技術的範囲に属するものと了解される。
１………カラーフィルタ製造装置
２………制御部
３………基板
４………吸着テーブル
５………インクジェットヘッド
６………移動部
７………アライメントカメラ
８、８ｄ、８ｅ、８ｆ………減圧加熱装置
９………減圧部
１０………加熱部
２１、３１………遮光層
２２………インク受容層
２３………光
２４………フォトマスク
２５………非着色域
２６………着色域
２７、３２………インク
２８、３３、４５………着色層
２９、３４………保護層
４１………チャンバ
４７、４７ａ、４７ｂ、４７ｃ、４７ｄ、４７ｅ、４７ｆ………蓋
５１………気化成分
５３………結露
６１………撥水剤
６３………凹凸部
６５………親水剤
６７、７３−１、７３−２、７７−１、７７−２、８３、８９、９３………トレイ
６９−１、６９−２、７１−１、７１−２、７５−１、７５−２………支持部
７２−１、７２−２、７９−１〜７９−６………蓋部材
８１………掻取機構
８２………ブレード
８４………払拭機構
８５………ワイパー材
８６………吸引機構
８７、９１………ノズル
８８………ポンプ
９０………ブロー機構
９２………コンプレッサ
１０１………表示装置
１０２………カラーフィルタ基板
１０３………アレイ基板
１０４………シール材
１０６………スペーサ
１０７………液晶
２………制御部
３………基板
４………吸着テーブル
５………インクジェットヘッド
６………移動部
７………アライメントカメラ
８、８ｄ、８ｅ、８ｆ………減圧加熱装置
９………減圧部
１０………加熱部
２１、３１………遮光層
２２………インク受容層
２３………光
２４………フォトマスク
２５………非着色域
２６………着色域
２７、３２………インク
２８、３３、４５………着色層
２９、３４………保護層
４１………チャンバ
４７、４７ａ、４７ｂ、４７ｃ、４７ｄ、４７ｅ、４７ｆ………蓋
５１………気化成分
５３………結露
６１………撥水剤
６３………凹凸部
６５………親水剤
６７、７３−１、７３−２、７７−１、７７−２、８３、８９、９３………トレイ
６９−１、６９−２、７１−１、７１−２、７５−１、７５−２………支持部
７２−１、７２−２、７９−１〜７９−６………蓋部材
８１………掻取機構
８２………ブレード
８４………払拭機構
８５………ワイパー材
８６………吸引機構
８７、９１………ノズル
８８………ポンプ
９０………ブロー機構
９２………コンプレッサ
１０１………表示装置
１０２………カラーフィルタ基板
１０３………アレイ基板
１０４………シール材
１０６………スペーサ
１０７………液晶
Claims (28)
- 基板にインクを付与して着色層を形成するカラーフィルタ製造装置であって、
前記基板を収容し、上内面の少なくとも一部が撥水化処理された容器と、
加熱処理により前記基板の着色層に含まれる溶媒成分を気化させる加熱部と、
前記容器の上内面の少なくとも一部を、水平方向に沿った状態と、水平方向に対して傾斜させた状態とに変形可能な傾斜手段と、
を具備することを特徴とするカラーフィルタ製造装置。 - 基板にインクを付与して着色層を形成するカラーフィルタ製造装置であって、
前記基板を収容し、上内面の少なくとも一部が親水化処理された容器と、
加熱処理により前記基板の着色層に含まれる溶媒成分を気化させる加熱部と、
前記容器の上内面の少なくとも一部を、水平方向に沿った状態と、水平方向に対して傾斜させた状態とに変形可能な傾斜手段と、
を具備することを特徴とするカラーフィルタ製造装置。 - 前記傾斜手段は、前記容器の上内面を構成する複数の蓋部材をそれぞれ液化成分を収集する収集手段の方向に傾斜させることを特徴とする請求項１または請求項２のいずれかに記載のカラーフィルタ製造装置。
- 前記容器の上内面は、複数の蓋部材を並べて構成され、
前記傾斜手段は、複数の前記蓋部材の、並び方向に直交する方向における傾斜を、隣り合う前記蓋部材で互い違いの方向とすることを特徴とする請求項１から請求項３までのいずれかに記載のカラーフィルタ製造装置。 - 前記着色層からの気化成分が液化して前記容器の上内面に付着した液化成分を収集する収集手段を具備することを特徴とする請求項１から請求項４までのいずれかに記載のカラーフィルタ製造装置。
- 前記容器内の減圧を行う減圧部を具備することを特徴とする請求項１から請求項５までのいずれかに記載のカラーフィルタ製造装置。
- 基板にインクを付与して着色層を形成するカラーフィルタ製造方法であって、
前記基板を上内面の少なくとも一部が撥水化処理された容器に収容する基板収容ステップと、
加熱処理により前記容器内の基板の着色層に含まれる溶媒成分を気化させる加熱ステップと、
前記容器の上内面において前記着色層からの気化成分が液化した液化成分を撥水させる撥水ステップと、
前記容器の上内面の少なくとも一部を、水平方向に沿った状態から、水平方向に対して傾斜させる傾斜ステップと、
前記容器の上内面の少なくとも一部を、水平方向に対して傾斜した状態から、水平方向に沿った状態に戻すステップと、
を具備することを特徴とするカラーフィルタ製造方法。 - 基板にインクを付与して着色層を形成するカラーフィルタ製造方法であって、
前記基板を上内面の少なくとも一部が親水化処理された容器に収容する基板収容ステップと、
加熱処理により前記容器内の基板の着色層に含まれる溶媒成分を気化させる加熱ステップと、
前記容器の上内面において前記着色層からの気化成分が液化した液化成分を濡れ広げさせる親水化ステップと、
前記容器の上内面の少なくとも一部を、水平方向に沿った状態から、水平方向に対して傾斜させる傾斜ステップと、
前記容器の上内面の少なくとも一部を、水平方向に対して傾斜した状態から、水平方向に沿った状態に戻すステップと、
を具備することを特徴とするカラーフィルタ製造方法。 - 前記傾斜ステップは、前記容器の上内面を構成する複数の蓋部材をそれぞれ液化成分を収集する収集手段の方向に傾斜させることを特徴とする請求項７または請求項８のいずれかに記載のカラーフィルタ製造方法。
- 前記容器の上内面は、複数の蓋部材を並べて構成され、
前記傾斜ステップでは、複数の前記蓋部材の、並び方向に直交する方向における傾斜を、隣り合う前記蓋部材で互い違いの方向とすることを特徴とする請求項７から請求項９までのいずれかに記載のカラーフィルタ製造方法。 - 前記着色層からの気化成分が液化して前記容器の上内面に付着した液化成分を収集する収集ステップを具備することを特徴とする請求項７から請求項１０までのいずれかに記載のカラーフィルタ製造方法。
- 前記容器内の減圧を行う減圧ステップを具備することを特徴とする請求項７から請求項１１までのいずれかに記載のカラーフィルタ製造方法。
- 基板にインクを付与して形成される着色層を乾燥する乾燥装置であって、
前記基板を収容し、上内面の少なくとも一部が撥水化処理された容器と、
加熱処理により前記基板の着色層に含まれる溶媒成分を気化させる加熱部と、
前記容器の上内面の少なくとも一部を、水平方向に沿った状態と、水平方向に対して傾斜させた状態とに変形可能な傾斜手段と、
を具備することを特徴とする乾燥装置。 - 基板にインクを付与して形成される着色層を乾燥する乾燥装置であって、
前記基板を収容し、上内面の少なくとも一部が親水化処理された容器と、
加熱処理により前記基板の着色層に含まれる溶媒成分を気化させる加熱部と、
前記容器の上内面の少なくとも一部を、水平方向に沿った状態と、水平方向に対して傾斜させた状態とに変形可能な傾斜手段と、
を具備することを特徴とする乾燥装置。 - 前記傾斜手段は、前記容器の上内面を構成する複数の蓋部材をそれぞれ液化成分を収集する収集冶具の方向に傾斜させることを特徴とする請求項１３または請求項１４のいずれかに記載の乾燥装置。
- 前記容器の上内面は、複数の蓋部材を並べて構成され、
前記傾斜手段は、複数の前記蓋部材の、並び方向に直交する方向における傾斜を、隣り合う前記蓋部材で互い違いの方向とすることを特徴とする請求項１３から請求項１５までのいずれかに記載の乾燥装置。 - 前記着色層からの気化成分が液化して前記容器の上内面に付着した液化成分を収集する収集手段を具備することを特徴とする請求項１３から請求項１６までのいずれかに記載の乾燥装置。
- 前記容器内の減圧を行う減圧部を具備することを特徴とする請求項１３から請求項１７までのいずれかに記載の乾燥装置。
- 基板にインクを付与して形成される着色層を乾燥する乾燥方法であって、
前記基板を上内面の少なくとも一部が撥水化処理された容器に収容する基板収容ステップと、
加熱処理により前記容器内の基板の着色層に含まれる溶媒成分を気化させる加熱ステップと、
前記容器の上内面において前記着色層からの気化成分が液化した液化成分を撥水させる撥水ステップと、
前記容器の上内面の少なくとも一部を、水平方向に沿った状態から、水平方向に対して傾斜させる傾斜ステップと、
前記容器の上内面の少なくとも一部を、水平方向に対して傾斜した状態から、水平方向に沿った状態に戻すステップと、
を具備することを特徴とする乾燥方法。 - 基板にインクを付与して形成される着色層を乾燥する乾燥方法であって、
前記基板を上内面の少なくとも一部が親水化処理された容器に収容する基板収容ステップと、
加熱処理により前記容器内の基板の着色層に含まれる溶媒成分を気化させる加熱ステップと、
前記容器の上内面において前記着色層からの気化成分が液化した液化成分を濡れ広げさせる親水化ステップと、
前記容器の上内面の少なくとも一部を、水平方向に沿った状態から、水平方向に対して傾斜させる傾斜ステップと、
前記容器の上内面の少なくとも一部を、水平方向に対して傾斜した状態から、水平方向に沿った状態に戻すステップと、
を具備することを特徴とする乾燥方法。 - 前記傾斜ステップは、前記容器の上内面を構成する複数の蓋部材をそれぞれ液化成分を収集する収集冶具の方向に傾斜させることを特徴とする請求項１９または請求項２０のいずれかに記載の乾燥方法。
- 前記容器の上内面は、複数の蓋部材を並べて構成され、
前記傾斜ステップでは、複数の前記蓋部材の、並び方向に直交する方向における傾斜を、隣り合う前記蓋部材で互い違いの方向とすることを特徴とする請求項１９から請求項２１までのいずれかに記載の乾燥方法。 - 前記着色層からの気化成分が液化して前記容器の上内面に付着した液化成分を収集する収集ステップを具備することを特徴とする請求項１９から請求項２２までのいずれかに記載の乾燥方法。
- 前記容器内の減圧を行う減圧ステップを具備することを特徴とする請求項１９から請求項２３までのいずれかに記載の乾燥方法。
- 基板にインクを付与して着色層が形成されたカラーフィルタを備える表示装置の製造装置であって、
前記基板を収容し、上内面の少なくとも一部が撥水化処理された容器と、
加熱処理により前記基板の着色層に含まれる溶媒成分を気化させる加熱部と、
前記容器の上内面の少なくとも一部を、水平方向に沿った状態と、水平方向に対して傾斜させた状態とに変形可能な傾斜手段と、
を具備することを特徴とする表示装置の製造装置。 - 基板にインクを付与して着色層が形成されたカラーフィルタを備える表示装置の製造装置であって、
前記基板を収容し、上内面の少なくとも一部が親水化処理された容器と、
加熱処理により前記基板の着色層に含まれる溶媒成分を気化させる加熱部と、
前記容器の上内面の少なくとも一部を、水平方向に沿った状態と、水平方向に対して傾斜させた状態とに変形可能な傾斜手段と、
を具備することを特徴とする表示装置の製造装置。 - 基板にインクを付与して着色層が形成されたカラーフィルタを備える表示装置の製造方法であって、
前記基板を上内面の少なくとも一部が撥水化処理された容器に収容する基板収容ステップと、
加熱処理により前記容器内の基板の着色層に含まれる溶媒成分を気化させる加熱ステップと、
前記容器の上内面において前記着色層からの気化成分が液化した液化成分を撥水させる撥水ステップと、
前記容器の上内面の少なくとも一部を、水平方向に沿った状態から、水平方向に対して傾斜させる傾斜ステップと、
前記容器の上内面の少なくとも一部を、水平方向に対して傾斜した状態から、水平方向に沿った状態に戻すステップと、
を具備することを特徴とする表示装置の製造方法。 - 基板にインクを付与して着色層が形成されたカラーフィルタを備える表示装置の製造方法であって、
前記基板を上内面の少なくとも一部が親水化処理された容器に収容する基板収容ステップと、
加熱処理により前記容器内の基板の着色層に含まれる溶媒成分を気化させる加熱ステップと、
前記容器の上内面において前記着色層からの気化成分が液化した液化成分を濡れ広げさせる親水化ステップと、
前記容器の上内面の少なくとも一部を、水平方向に沿った状態から、水平方向に対して傾斜させる傾斜ステップと、
前記容器の上内面の少なくとも一部を、水平方向に対して傾斜した状態から、水平方向に沿った状態に戻すステップと、
を具備することを特徴とする表示装置の製造方法。
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