JP5337943B2 - 固体電解コンデンサおよびその製造方法 - Google Patents
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Description
皮膜処理がされていない未皮膜処理リード線を陽極箔と陰極箔との各々に接続するステップと、
セパレータを介して前記陽極箔と前記陰極箔とを巻回するステップと、
前記陽極箔と前記陰極箔との間で固体電解質を形成してコンデンサ素子を作製するステップと、
前記固体電解質を形成したコンデンサ素子を有底筒状の外装ケースに収納し、封口ゴムを取り付けて組立を行うステップと、
前記未皮膜処理リード線に皮膜処理をするステップと、からなることである。
前記未皮膜処理リード線は、下地皮膜形成処理と前記下地皮膜形成処理の後に行う仕上げ皮膜形成処理との双方がされていないリード線であり、
前記皮膜処理をするステップは、前記下地皮膜形成処理と前記仕上げ皮膜形成処理との双方を行うステップであるものが好ましい。
前記未皮膜処理リード線は、下地皮膜形成処理がされているリード線であり、
前記皮膜処理をするステップは、前記下地皮膜形成処理の後に行う仕上げ皮膜形成処理を行うステップであるものが好ましい。
前記固体電解質を形成するステップは、熱処理を施して導電性高分子を形成するステップであるものがより好ましい。
図1は、本発明の実態の形態に係る固体電解コンデンサ1の構造を示す断面図である。
図5は、本発明の実施の形態に係る固体電解コンデンサ1の製造工程を示すフローチャートである。以下、固体電解コンデンサ1の製造工程について、図5を参照して説明する。
図6は、本発明の実施の形態に係る固体電解コンデンサの製造工程におけるステップS21のメッキ処理の工程を示すフローチャートである。以下では、メッキ処理の具体的な工程について、図6を参照して説明する。
次に、本発明のより具体的な例を、実施例、従来例1、および従来例2を用いて説明する。
この実施例においては、上述した図5および図6の処理工程に従って、まず、リード線外部接続部にメッキ処理が施されていない無メッキの銅線を使用してコンデンサ素子を形成し、セパレータの炭化処理時に300℃で熱処理を行い、組立後のメッキ処理を行って、固体電解コンデンサを作製した。
この従来例1においては、メッキ処理により高融点である銀をリード線外部接続部にコーティングした銅線をリード線外部接続部に使用し、300℃で熱処理を行い、組み立てた後にメッキ処理をせずに固体電解コンデンサを作製した。
この従来例2においては、メッキ処理により低融点である錫をリード線外部接続部にコーティングした銅線をリード線外部接続部に使用し、300℃で熱処理を行い、組み立てた後にメッキ処理をせずに固体電解コンデンサを作製した。
10 コンデンサ素子
12 陽極箔
13 陰極箔
14 セパレータ
15 固体電解質
16 陽極リード線
17 陰極リード線
20 メッキ未処理リード線(未皮膜処理リード線)
28 リード線外部接続部
Claims (5)
- 皮膜処理がされていない未皮膜処理リード線を陽極箔と陰極箔との各々に接続するステップと、
セパレータを介して前記陽極箔と前記陰極箔とを巻回するステップと、
前記陽極箔と前記陰極箔との間で固体電解質を形成してコンデンサ素子を作製するステップと、
前記固体電解質を形成したコンデンサ素子を有底筒状の外装ケースに収納し、封口ゴムを取り付けて組立を行うステップと、
前記未皮膜処理リード線に皮膜処理をするステップと、からなることを特徴とする固体電解コンデンサの製造方法。 - 前記未皮膜処理リード線は、下地皮膜形成処理と前記下地皮膜形成処理の後に行う仕上げ皮膜形成処理との双方がされていないリード線であり、
前記皮膜処理をするステップは、前記下地皮膜形成処理と前記仕上げ皮膜形成処理との双方を行うステップであることを特徴とする請求項1に記載の固体電解コンデンサの製造方法。 - 前記未皮膜処理リード線は、下地皮膜形成処理がされているリード線であり、
前記皮膜処理をするステップは、前記下地皮膜形成処理の後に行う仕上げ皮膜形成処理を行うステップであることを特徴とする請求項1に記載の固体電解コンデンサの製造方法。 - 前記固体電解質を形成するステップは、熱処理を施して導電性高分子を形成するステップであることを特徴とする請求項2または3に記載の固体電解コンデンサの製造方法。
- セパレータを介して陽極箔と陰極箔とが巻回された固体電解コンデンサであって、
前記陽極箔及び前記陰極箔は、皮膜処理がされたリード線を有し、
前記リード線の皮膜処理がされた箇所において、はんだ濡れ性のゼロクロス時間が0.65秒以下であることを特徴とする固体電解コンデンサ。
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