JP5325162B2 - 半導体装置 - Google Patents
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Description
第1の方向に延びており、かつ、前記第1の方向に直交する第2の方向において同一ピッチで配置された3個以上のゲートパターンを有する、標準セルと、
前記標準セルに、前記第1の方向において隣り合うダイオードセルとを備え、
前記標準セルが有する前記各ゲートパターンは、前記ダイオードセルとの間のセル境界近傍で終端しており、各終端部が、前記第1方向において互いに同じ位置にあり、かつ、前記第2の方向における幅が互いに同一であり、
前記ダイオードセルは、
ダイオードとして機能する少なくとも1つの拡散層と、
前記セル境界近傍において、前記標準セルが有する前記各ゲートパターンの終端部に対向するように配置された、ゲートパターンからなる複数の対向終端部とを備えている。
図1は第1の実施形態に係る半導体装置のレイアウトパターンの簡略図である。図1では、ゲートパターン、拡散領域、コンタクトとメタル配線のレイアウトを示しており、セル境界を実線で示している(他の図も同様)。なお、ゲートパターンとは、トランジスタのゲート電極に使われる層に形成されたパターンを指し、ポリシリコンなどの材料を用いて製造される。トランジスタはゲートパターンと拡散領域によって構成され、ゲートパターンの拡散領域に挟まれた部分がトランジスタのゲートとして機能する。図1に示すように、標準セルC1は、第1の方向としてのY方向(図の上下方向)に延びており、かつ、第2の方向としてのX方向(図の左右方向)において同一ピッチで配置されたゲートパターンG1,G2,G3を有している。ゲートパターンG1,G2,G3の幅はL1,間隔はS1であり、ゲートパターンG2はトランジスタT1を形成している。トランジスタを面積効率良く配置するため、ゲートパターンG1,G2,G3の幅L1と間隔S1は、通常、最小寸法で設定される。なお、標準セルC1については、ゲートパターンと拡散領域のみのレイアウトを示しており、コンタクトとメタル配線は省略している(他の図も同様)。
図3は第2の実施形態に係る半導体装置のレイアウトパターンの簡略図である。図3の構成は図1とほぼ同様であるが、ダイオードセルC2内のゲートパターン形状および拡散領域形状が少し異なっている。すなわち、図3では、ダイオードセルC2が有するゲートパターンG4,G5,G6は、標準セルC1が有するゲートパターンG1,G2,G3とX方向において同一ピッチで配置されており、それぞれが有する対向終端部eo1,eo2,eo3がY方向において互いに同じ位置にあり、かつ、X方向における幅が互いに同一である。また、ゲートパターン同士の間に、拡散領域D1〜D5がX方向において同一ピッチで配置されており、その終端部のY方向における位置およびX方向の幅が互いに同一である。同様に、拡散領域D6〜D10が、ゲートパターン同士の間に、X方向において同一ピッチで配置されており、その終端部のY方向における位置およびX方向の幅が互いに同一である。そして、拡散領域D1〜D10は上層のメタル配線で互いに接続されており、入力接続端子INを備えることによって、ダイオードセルC2は保護ダイオードとしての機能を実現する。
図5は第3の実施形態に係る半導体装置のレイアウトパターンの簡略図である。図5の構成は図1とほぼ同様であるが、ダイオードセルC2内の拡散領域形状が少し異なっている。すなわち、図5では、図1の拡散領域D1〜D4が互いに接続された形の、ゲートパターンG4,G5,G6を挟んだ連続した拡散領域D11が形成されている。同様に、図1の拡散領域D5〜D8が互いに接続された形の、ゲートパターンG4,G5,G6を挟んだ連続した拡散領域D12が形成されている。拡散領域D11,D12に挟まれたゲートパターンG4,G5,G6はトランジスタのゲートとして機能する。そして、ゲートG4,G5,G6上に配置されるコンタクトと拡散領域D11,D12上に配置されるコンタクトとを上層のメタル配線で接続して同一ノードとし、入力接続端子INを設けることによって、ダイオードセルC2は保護ダイオードとしての機能を実現する。
図9は第4の実施形態に係る半導体装置のレイアウトパターンの簡略図である。図9の構成は、図7とほぼ同様であり、終端部領域R1において、終端部e1,e2,e3と対向終端部eo1,eo2,eo3とに関して同じ形状規則性が保たれている。ただし、ダイオードC2の内部構成が、図7とは異なっている。
C2 ダイオードセル
G1,G2,G3 ゲートパターン
G4,G5,G6 ゲートパターン
G7 ゲートパターン(第2のゲートパターン)
G8,G9 ダミーパターン
8a パターン本体
8b 突出部
e1,e2,e3 終端部
eo1,eo2,eo3 対向終端部
D1〜D12 拡散層
Claims (8)
- 第1の方向に延びており、かつ、前記第1の方向に直交する第2の方向において同一ピッチで配置された3個以上のゲートパターンを有する、標準セルと、
前記標準セルに、前記第1の方向において隣り合うダイオードセルとを備え、
前記標準セルが有する前記各ゲートパターンは、前記ダイオードセルとの間のセル境界近傍で終端しており、各終端部が、前記第1方向において互いに同じ位置にあり、かつ、前記第2の方向における幅が互いに同一であり、
前記ダイオードセルは、
ダイオードとして機能する少なくとも1つの拡散層と、
前記セル境界近傍において、前記標準セルが有する前記各ゲートパターンの終端部に対向するように配置された、ゲートパターンからなる複数の対向終端部とを備えている
ことを特徴とする半導体装置。 - 請求項1において、
前記ダイオードセルは、
前記第1の方向に延びており、かつ、前記複数の対向終端部をそれぞれ有する複数のゲートパターンを備えている
ことを特徴とする半導体装置。 - 請求項2において、
前記ダイオードセルは、
前記第2の方向に延びており、かつ、当該ダイオードセル内に格子型のゲートパターンが形成されるように、前記複数のゲートパターンとそれぞれ接続された第2のゲートパターンを備えている
ことを特徴とする半導体装置。 - 請求項2において、
前記ダイオードセルが有する前記複数のゲートパターンは、
前記標準セルが有する前記各ゲートパターンと前記第2の方向において同一ピッチで配置されており、前記複数の対向終端部が前記第1の方向において互いに同じ位置にあり、かつ、前記第2の方向における幅が互いに同一である
ことを特徴とする半導体装置。 - 請求項4において、
前記ダイオードセルが有する拡散層は、
前記複数のゲートパターン同士の間に、前記第2の方向において同一ピッチで配置されており、かつ、前記第2の方向における幅が互いに同一である
ことを特徴とする半導体装置。 - 請求項1〜5のうちいずれか1項において、
前記ダイオードセルが有するゲートパターンは、ダミーパターンである
ことを特徴とする半導体装置。 - 請求項2において、
前記ダイオードセルは、前記複数のゲートパターンのうちの少なくとも1つを挟むように、前記拡散層が配置されており、この前記拡散層に挟まれたゲートパターンが、トランジスタのゲートとして機能する
ことを特徴とする半導体装置。 - 請求項1において、
前記ダイオードセルは、
前記複数の対向終端部のうち少なくとも一部を構成するダミーパターンを備え、
前記ダミーパターンは、前記第2の方向に延びるパターン本体と、前記パターン本体から前記第1の方向において前記標準セルに向けて突出した2個以上の突出部とを備えたものであり、
前記各突出部が、前記対向終端部を構成している
ことを特徴とする半導体装置。
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