JP5311148B2 - 導電膜の製造方法とそれによって製造される導電膜、ならびに導体配線の製造方法とそれによって製造される導体配線 - Google Patents
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前記合金微粒子、および高分子分散剤を含む金属コロイド溶液を調製する工程、および
前記金属コロイド溶液を用いて、スピンコート塗布法によって導電膜を形成する工程、
を含むことを特徴とする導電膜の製造方法である。
また請求項2記載の発明は、前記請求項1に記載の製造方法によって製造されたことを特徴とする導電膜である。
前記合金微粒子、および高分子分散剤を含む金属コロイド溶液を調製する工程、および
前記金属コロイド溶液を用いて、スクリーン印刷法、またはディスペンサー塗布法によって導体配線を形成する工程、
を含むことを特徴とする導体配線の製造方法である。
さらに請求項4記載の発明は、前記請求項3に記載の製造方法によって製造されたことを特徴とする導体配線である。
本発明の導電膜、または導体配線の製造方法のうち合金微粒子の形成工程では、マレイン酸から誘導される繰り返し単位を含み、活性基としてカルボキシル基を有し、かつ、分子量が4000〜30000である高分子分散剤の存在下、液相の反応系中で、2種以上の金属のイオンを、還元剤の作用によって還元して、上記2種以上の金属の合金からなる、一次粒子径が200nm以下の合金微粒子として析出させる。
金属コロイド溶液は、前記形成工程で形成した合金微粒子を、その形成に使用した高分子分散剤とともに、分散媒としての、水、または水と水溶性有機溶媒との混合溶媒等に分散させて調製することができる。後述するように前記金属コロイド溶液が、合金微粒子を、析出させた液相から完全に分離する工程を経ることなしに調製される場合は、液相中に、合金微粒子の形成時に使用した、活性基としてカルボキシル基を有し、かつ、分子量が4000〜30000である高分子分散剤が含まれているため、殆ど必要ないが、合金微粒子を、従来同様に、一旦、ロ別、洗浄、乾燥、解砕等の各工程を経て粉末状とした後、分散媒中に分散させて金属コロイド溶液を調製する場合は、上記の高分子分散剤の少なくとも一部が、洗浄工程で失われることもあるので、その場合には、必要に応じて、失われた分の高分子分散剤に代わって、合金微粒子の分散剤、および金属コロイド溶液の粘度調整剤として機能する第2の分散剤を、補充の意味で、金属コロイド溶液に添加してもよい。
前記金属コロイド溶液を、次に導電膜の形成工程において、スピンコート塗布法によって塗布することにより、本発明の導電膜を製造することができる。前記金属コロイド溶液は、前記スピンコート塗布法に適した、比較的低粘度であることが好ましい。製造された導電膜は、前記コロイド溶液中に含まれる合金微粒子の形状が球状ないし粒状で揃っていると共に、粒度分布がシャープで、しかも一次粒子径が小さいことから、その構造や導電性の均一性に優れている。
前記金属コロイド溶液を、次に導体配線の形成工程において、スクリーン印刷法やディスペンサー塗布法によってパターン形成することにより、本発明の導体配線を製造することができる。前記金属コロイド溶液は、前記スクリーン印刷法やディスペンサー塗布法に適した、比較的高粘度であることが好ましい。製造された導電膜は、前記コロイド溶液中に含まれる合金微粒子の形状が球状ないし粒状で揃っていると共に、粒度分布がシャープで、しかも一次粒子径が小さいことから、その構造や導電性の均一性に優れている。
2種の金属化合物としての、硝酸銀(I)と硝酸パラジウム(II)硝酸溶液とを純水に溶解させ、アンモニア水を加えて液のpHを10に調整し、次いで、高分子分散剤としてのマレイン酸共重合体〔中京油脂(株)製のセルナD−735、分子量:15000、酸価:80mgKOH/g〕を加えて完全に溶解させた後、還元剤としてのガラクトース〔和光純薬工業(株)製〕を純水に溶解した溶液を添加して、液相の反応系を調製した。反応系における、上記各成分の濃度は、硝酸銀(I):25g/リットル、硝酸パラジウム(II):1.9g/リットル、マレイン酸共重合体:20g/リットル(実施例1)、5g/リットル(実施例2)、ガラクトース:50g/リットルとした。また、銀イオンとパラジウムイオンとの配合比率(原子数比)は95:5であった。
マレイン酸共重合体として、日本化成(株)製のクロバックス400−21S(分子量:9000、酸価:100〜200mgKOH/g)を使用すると共に、その濃度を20g/リットル(実施例3)、または10g/リットル(実施例4)とし、かつ液のpHを9としたこと以外は実施例1、2と同様にして、液相の反応系中に、合金微粒子をコロイド状に析出させた。そして、実施例1、2と同様にして、合金微粒子の粒度分布を測定したところ、実施例3は24nmの位置に、また、実施例4は180nmの位置に、それぞれ鋭いピークが見られた。
Claims (4)
- 2種以上の金属のイオンを、液相の反応系中で、マレイン酸から誘導される繰り返し単位を含み、活性基としてカルボキシル基を有するとともに分子量が4000〜30000である高分子分散剤の存在下、還元剤の作用によって還元して、上記2種以上の金属の合金からなる、一次粒子径が200nm以下の合金微粒子として析出させる工程、
前記合金微粒子、および高分子分散剤を含む金属コロイド溶液を調製する工程、および
前記金属コロイド溶液を用いて、スピンコート塗布法によって導電膜を形成する工程、
を含むことを特徴とする導電膜の製造方法。 - 前記請求項1に記載の製造方法によって製造されたことを特徴とする導電膜。
- 2種以上の金属のイオンを、液相の反応系中で、マレイン酸から誘導される繰り返し単位を含み、活性基としてカルボキシル基を有するとともに分子量が4000〜30000である高分子分散剤の存在下、還元剤の作用によって還元して、上記2種以上の金属の合金からなる、一次粒子径が200nm以下の合金微粒子として析出させる工程、
前記合金微粒子、および高分子分散剤を含む金属コロイド溶液を調製する工程、および
前記金属コロイド溶液を用いて、スクリーン印刷法、またはディスペンサー塗布法によって導体配線を形成する工程、
を含むことを特徴とする導体配線の製造方法。 - 前記請求項3に記載の製造方法によって製造されたことを特徴とする導体配線。
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