JP5309312B2 - マイクロチップ、マイクロチップデバイス及びマイクロチップを用いた蒸発操作方法 - Google Patents
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Description
11…基板
12…微細加工溝(溝、プール部)
12a…溝(プール部)
13…流路
14…中板(側壁)
15…カバー上板(蓋)
18…導入路
19…排出路
20…ヒータ(加熱機構)
21…真空吸引機構
22…流体制御機構
Claims (25)
- 内部に気相の流路を有するマイクロチップにおいて、
前記気相の流路の底部のプール部に毛管力を利用して液相を分散させると共に、分散させた液相を溜め、
前記プール部に溜められた液相の少なくとも一部を蒸発させ、
気相の排出口と液相の排出口を兼用するマイクロチップ。 - 前記プール部は、前記気相の流路の底面に形成される溝からなることを特徴とする請求項1に記載のマイクロチップ。
- 前記溝は、並列に配列された複数本の溝からなることを特徴とする請求項2に記載のマイクロチップ。
- 前記マイクロチップは、前記溝が加工される基板と、基板の上面に設けられる側壁と、側壁の上面に設けられる蓋と、を備え、
前記基板、前記側壁及び前記蓋によって、前記気相の流路が構成されることを特徴とする請求項2又は3に記載のマイクロチップ。 - 内部に気相の流路を有するマイクロチップにおいて、
前記気相の流路の底部のプール部に毛管力を利用して液相を分散させると共に、分散させた液相を溜め、
前記プール部に溜められた液相の少なくとも一部を蒸発させ、
前記液相は、溶質が溶媒に溶けた溶液からなり、
前記プール部に溜められた前記溶媒を蒸発させ、前記溶質を前記プール部に乾固させるマイクロチップ。 - 前記液相に極性溶媒を用いる場合、前記気相の流路の少なくとも一部に疎水処理をすることを特徴とする請求項1ないし5のいずれかに記載のマイクロチップ。
- 前記液相に極性溶媒を用いる場合、前記プール部の少なくとも一部に親水処理をすることを特徴とする請求項1ないし6のいずれかに記載のマイクロチップ。
- 前記液相に無極性溶媒を用いる場合、前記気相の流路の少なくとも一部に親水処理をすることを特徴とする請求項1ないし5のいずれかに記載のマイクロチップ。
- 前記液相に無極性溶媒を用いる場合、前記プール部の少なくとも一部に疎水処理をすることを特徴とする請求項1ないし5および8のいずれかに記載のマイクロチップ。
- 内部に気相の流路を有し、前記気相の流路の底部のプール部に毛管力を利用して液相を分散させると共に、分散させた液相を溜め、前記プール部に溜められた液相の少なくとも一部を蒸発させ、気相の排出口と液相の排出口を兼用するマイクロチップと、
気相を前記気相の流路に、液相を前記プール部に導くための導入路と、
気相を前記気相の流路から、液相を前記プール部から排出するための排出路と、
を備えるマイクロチップデバイス。 - 前記プール部は、前記気相の流路の底面に形成される溝からなることを特徴とする請求項10に記載のマイクロチップデバイス。
- 前記マイクロチップデバイスはさらに、
前記マイクロチップの前記導入路に気相又は液相を供給する流体制御機構を備え、
前記気相の流路に気相を流しながら、前記プール部に溜められた液相を蒸発させることを特徴とする請求項10又は11に記載のマイクロチップデバイス。 - 前記マイクロチップデバイスはさらに、
前記マイクロチップの少なくとも一部を加熱する加熱機構を備え、
前記マイクロチップの少なくとも一部を加熱しながら、前記プール部に溜められた液相を蒸発させることを特徴とする請求項10又は11に記載のマイクロチップデバイス。 - 前記マイクロチップデバイスはさらに、
前記マイクロチップの前記気相の流路内の気相を吸引する真空吸引機構を備え、
前記気相の流路内の気相を吸引しながら、前記プール部に溜められた液相を蒸発させることを特徴とする請求項10又は11に記載のマイクロチップデバイス。 - 内部に気相の流路を有し、前記気相の流路の底部のプール部に毛管力を利用して液相を分散させると共に、分散させた液相を溜め、気相の排出口と液相の排出口を兼用するマイクロチップを用い、
前記プール部に溜められた液相の少なくとも一部を蒸発させるマイクロチップを用いた蒸発操作方法。 - 前記プール部は、前記気相の流路の底面に形成される溝からなることを特徴とする請求項15に記載のマイクロチップを用いた蒸発操作方法。
- 前記気相の流路に気相を導入し、前記気相の流路に気相を流しながら、前記プール部に溜められた液相を蒸発させることを特徴とする請求項15又は16に記載のマイクロチップを用いた蒸発操作方法。
- 前記マイクロチップの少なくとも一部を加熱しながら、前記プール部に溜められた液相を蒸発させることを特徴とする請求項15又は16に記載のマイクロチップを用いた蒸発操作方法。
- 前記マイクロチップの前記気相の流路内の気相を吸引しながら、前記プール部に溜められた液相を蒸発させることを特徴とする請求項15又は16に記載のマイクロチップを用いた蒸発操作方法。
- 内部に気相の流路を有し、前記気相の流路の底部のプール部に毛管力を利用して液相を分散させると共に、分散させた液相を溜め、気相の排出口と液相の排出口を兼用するマイクロチップを用い、
前記プール部に溜められた放射性化学物質溶液を蒸発させるマイクロチップを用いた放射性化学物質溶液の製造方法。 - 内部に気相の流路を有し、前記気相の流路の底部のプール部に毛管力を利用して液相を分散させると共に、分散させた液相を溜めるマイクロチップを用い、
前記プール部に溜められた放射性化学物質溶液を蒸発乾固させるマイクロチップを用いた放射性化学物質溶液の製造方法。 - 内部に気相の流路を有し、前記気相の流路の底部のプール部に毛管力を利用して液相を分散させると共に、分散させた液相を溜め、気相の排出口と液相の排出口を兼用するマイクロチップを用い、
前記プール部に溜められた放射性化学物質溶液より溶媒を除去するマイクロチップを用いた放射性化学物質溶液の製造方法。 - 内部に気相の流路を有し、前記気相の流路の底部のプール部に毛管力を利用して液相を分散させると共に、分散させた液相を溜めるマイクロチップを用い、
前記プール部に溜められた放射性化学物質溶液より溶媒を除去し、
前記プール部に新たに溶媒又は溶液を導入し、前記プール部に溜められた放射性化学物質を溶媒交換するマイクロチップを用いた放射性化学物質溶液の製造方法。 - 内部に気相の流路を有し、前記気相の流路の底部のプール部に毛管力を利用して液相を分散させると共に、分散させた液相を溜めるマイクロチップを用い、
前記プール部に溜められた放射性化学物質溶液より溶媒を除去し、
前記プール部に新たに溶液を導入し、前記プール部に溜められた放射性化学物質と新たに導入された前記溶液とを反応させるマイクロチップを用いた放射性化学物質溶液の製造方法。 - 内部に気相の流路を有し、前記気相の流路の底部のプール部に毛管力を利用して液相を分散させると共に、分散させた液相を溜め、気相の排出口と液相の排出口を兼用するマイクロチップを用い、
前記プール部に溜められた放射性化学物質溶液を蒸留させるマイクロチップを用いた放射性化学物質溶液の製造方法。
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