JP4523386B2 - マイクロチャンネル内表面の部分化学修飾方法とマイクロチャンネル構造体 - Google Patents
マイクロチャンネル内表面の部分化学修飾方法とマイクロチャンネル構造体 Download PDFInfo
- Publication number
- JP4523386B2 JP4523386B2 JP2004333789A JP2004333789A JP4523386B2 JP 4523386 B2 JP4523386 B2 JP 4523386B2 JP 2004333789 A JP2004333789 A JP 2004333789A JP 2004333789 A JP2004333789 A JP 2004333789A JP 4523386 B2 JP4523386 B2 JP 4523386B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- channel
- aqueous solution
- pressure
- contact portion
- microchannel
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 74
- 238000007385 chemical modification Methods 0.000 title claims description 30
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 claims description 63
- 239000000243 solution Substances 0.000 claims description 54
- 239000003153 chemical reaction reagent Substances 0.000 claims description 45
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 40
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 23
- 239000012530 fluid Substances 0.000 claims description 22
- 230000002209 hydrophobic effect Effects 0.000 claims description 15
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims description 14
- 239000002904 solvent Substances 0.000 claims description 14
- 230000009471 action Effects 0.000 claims description 9
- 239000012071 phase Substances 0.000 claims description 9
- 238000009826 distribution Methods 0.000 claims description 7
- 238000001816 cooling Methods 0.000 claims description 5
- 239000008346 aqueous phase Substances 0.000 claims description 4
- 238000005192 partition Methods 0.000 claims description 4
- 241000023320 Luma <angiosperm> Species 0.000 claims 2
- OSWPMRLSEDHDFF-UHFFFAOYSA-N methyl salicylate Chemical compound COC(=O)C1=CC=CC=C1O OSWPMRLSEDHDFF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- 238000002715 modification method Methods 0.000 claims 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 40
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 8
- YTJSFYQNRXLOIC-UHFFFAOYSA-N octadecylsilane Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCC[SiH3] YTJSFYQNRXLOIC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 8
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 6
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000004677 Nylon Substances 0.000 description 3
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 3
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 3
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 3
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 3
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229920001778 nylon Polymers 0.000 description 3
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 3
- 238000000059 patterning Methods 0.000 description 3
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 3
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 3
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 3
- 238000009834 vaporization Methods 0.000 description 3
- 230000008016 vaporization Effects 0.000 description 3
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000008859 change Effects 0.000 description 2
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 2
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 2
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 2
- 229920006284 nylon film Polymers 0.000 description 2
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 2
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 2
- 238000006722 reduction reaction Methods 0.000 description 2
- 238000000638 solvent extraction Methods 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- RBTBFTRPCNLSDE-UHFFFAOYSA-N 3,7-bis(dimethylamino)phenothiazin-5-ium Chemical compound C1=CC(N(C)C)=CC2=[S+]C3=CC(N(C)C)=CC=C3N=C21 RBTBFTRPCNLSDE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- 238000013459 approach Methods 0.000 description 1
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001540 azides Chemical class 0.000 description 1
- UWCPYKQBIPYOLX-UHFFFAOYSA-N benzene-1,3,5-tricarbonyl chloride Chemical compound ClC(=O)C1=CC(C(Cl)=O)=CC(C(Cl)=O)=C1 UWCPYKQBIPYOLX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 1
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 238000002788 crimping Methods 0.000 description 1
- WMPOZLHMGVKUEJ-UHFFFAOYSA-N decanedioyl dichloride Chemical compound ClC(=O)CCCCCCCCC(Cl)=O WMPOZLHMGVKUEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N dichloromethane Substances ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 1
- 238000001312 dry etching Methods 0.000 description 1
- IMBKASBLAKCLEM-UHFFFAOYSA-L ferrous ammonium sulfate (anhydrous) Chemical compound [NH4+].[NH4+].[Fe+2].[O-]S([O-])(=O)=O.[O-]S([O-])(=O)=O IMBKASBLAKCLEM-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 239000012456 homogeneous solution Substances 0.000 description 1
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 1
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 1
- 150000002484 inorganic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000003993 interaction Effects 0.000 description 1
- 238000010406 interfacial reaction Methods 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 229960000907 methylthioninium chloride Drugs 0.000 description 1
- 238000004452 microanalysis Methods 0.000 description 1
- 238000001000 micrograph Methods 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 229920006254 polymer film Polymers 0.000 description 1
- LJCNRYVRMXRIQR-OLXYHTOASA-L potassium sodium L-tartrate Chemical compound [Na+].[K+].[O-]C(=O)[C@H](O)[C@@H](O)C([O-])=O LJCNRYVRMXRIQR-OLXYHTOASA-L 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- 239000000725 suspension Substances 0.000 description 1
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 1
- 238000011144 upstream manufacturing Methods 0.000 description 1
- 238000001039 wet etching Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Micromachines (AREA)
- Degasification And Air Bubble Elimination (AREA)
- Extraction Or Liquid Replacement (AREA)
- Physical Or Chemical Processes And Apparatus (AREA)
Description
<1>少なくとも二つのチャンネルが任意の領域において並行接触して接触部分を形成しており、この接触部分では各チャンネルを流れる流体の界面が形成されるマイクロチャンネル構造において、一つのチャンネルの内表面のみを化学修飾する方法であって、化学修飾される第一チャンネル内に修飾試薬含有溶液を導入し、第一チャンネル内の修飾試薬含有溶液の液圧と、第一チャンネルと並行接触して接触部分を形成する化学修飾されない第二チャンネル内の気圧が平衡を保つ状態で静置し、次いで第二チャンネル内を加圧とすることにより過剰の修飾試薬含有溶液を第一チャンネル内から排出することを特徴とするマイクロチャンネル内表面の部分化学修飾方法。
<2>第一チャンネルの深さを第二チャンネルの深さよりも浅いものとし、毛細管現象により第一チャンネルに修飾試薬含有溶液を導入することにより、第一チャンネル内の修飾試薬含有溶液の液圧と第二チャンネル内の気圧を平衡に保つことを特徴とする前記第1の部分化学修飾方法。
<3>第一チャンネルの深さを第二チャンネルの深さよりも浅いものとし、毛細管現象により第一チャンネル内に修飾試薬含有溶液を導入した後、第二チャンネル内の気圧を制御することにより、第一チャンネル内の修飾試薬含有溶液の液圧と第二チャンネル内の気圧を平衡に保つことを特徴とする前記第1の部分化学修飾方法。
<4>第二チャンネルに空気を導入することにより第二チャンネル内を加圧とし、過剰の修飾試薬含有溶液を第一チャンネル内から排出することを特徴とする請求項1から3のいずれかの部分化学修飾方法。
<5>前記第2から4のいずれかの部分化学修飾方法により内表面を化学修飾されたマイクロチャンネル構造を有するマイクロチャンネル構造体であって、少なくとも、化学修飾された内表面を有する第一チャンネルと、第一チャンネルよりも深く、化学修飾されない第二チャンネルを有し、第一チャンネルと第二チャンネルは任意の領域において並行接触する接触部分を有することを特徴とするマイクロチャンネル構造体。
<6>前記第2から4のいずれかの部分化学修飾方法により内表面を化学修飾されたマイクロチャンネル構造を有するマイクロチャンネル構造体であって、少なくとも、疎水性の内表面を有する第一チャンネルと、第一チャンネルよりも深く、親水性の内表面を有する第二チャンネルを有し、第一チャンネルと第二チャンネルは任意の領域において並行接触する接触部分を有することを特徴とするマイクロチャンネル構造体。
<7>前記第6のマイクロチャンネル構造体において、第二チャンネルに水性溶液を導入し、この水性溶液を、ヤング−ラプラスの式により求められる破化点以下の圧力を維持するような流速で流すことにより、接触部分において水性溶液に含有されている、もしくは水性溶液において発生する気泡を第一チャンネルに排出させることを特徴とする水性溶液からの気泡除去方法。
<8>前記第6のマイクロチャンネル構造体において、第二チャンネルに溶存気体を含有する水性溶液を導入し、第一チャンネルに溶存気体を分配できる気体を導入し、水性溶液および気体をそれぞれ、接触部分における第二チャンネル内の水性溶液の圧力と第一チャンネル内の気体の圧力の圧力差がヤング−ラプラスの式により求められる許容圧力差以下となるような流速で同一方向または向流方向に流すことにより、接触部分において水性溶液から溶存気体を第一チャンネル内の気体に分配させることを特徴とする水性溶液からの溶存気体除去方法。
<9>前記第6のマイクロチャンネル構造体において、第二チャンネルに油分を含有する水性溶液を導入し、第一チャンネルに油分を分配できる分配溶媒を導入し、水性溶液および分配溶媒をそれぞれ、接触部分における第二チャンネル内の水性溶液の圧力と第一チャンネル内の分配溶媒の圧力の圧力差がヤング−ラプラスの式により求められる許容圧力差以下となるような流速で同一方向または向流方向に流すことにより、接触部分において水性溶液から油分を第一チャンネル内の分配溶媒に分配させることを特徴とする水性溶液からの油分除去方法。
<10>前記第6のマイクロチャンネル構造体において、第一チャンネルに油相を、第二チャンネルに水相を導入して、油水界面における反応により膜形成することを特徴とする膜の形成方法。
<11>前記第6のマイクロチャンネル構造体において、第二チャンネルに液体を封入し、この液体を加熱し蒸発させて接触部分より第一チャンネルに移動させ、第一チャンネルで凝縮し液体とした後、再び接触部分より第二チャンネルに移動させることを特徴とする冷却方法。
(A)化学修飾される第一チャンネル(21)内に修飾試薬含有溶液を導入する。
(B)第一チャンネル(21)内の修飾試薬含有溶液の液圧と、第二チャンネル(22)内の気圧が、平衡を保つ状態で静置する。
(C)第二チャンネル(22)内を加圧とする。
飾試薬含有溶液(5)の液圧と第二チャンネル(22)内の気圧を平衡に保つことができる
。あるいは、毛細管現象による圧力や深さの差が小さい場合には、毛細管現象により第一チャンネル(21)に修飾試薬含有溶液(5)を導入した後、第一チャンネル(21)内の気圧を制御することにより、第一チャンネル(21)内の修飾試薬含有溶液(5)の液圧と第二チャンネル(22)内の気圧を平衡に保つようにしてもよい。
で表されるレイノルズ数である)を表す)
を用いて求めてもよい。
以下の手順で、図1に示したような、疎水性の内表面(241)を有する第一チャンネル(21)と、第一チャンネル(21)に並行接触する第二チャンネル(22)を有するマイクロチャンネル構造体(1)を作製した。
<実施例2>
ミクロ空間において、気体を反応に用いる場合や、外部との接続部分から気体が混入した場合、あるいは反応により気体が発生する場合には、閉じた空間であることと大きな比界面積のために気体が流路内にとどまり、液体の流れを乱すことがある。また、小さい空間であるがゆえに、その除去は非常に困難である。
<実施例3>
次に、実施例1と同様の方法により、図3に示したマイクロチャンネル構造体(1)を作製した。このマイクロチャンネル構造体(1)では、第二チャンネル(22)に対し、空気(6)を供給する空気導入チャンネル(25)を有し、第一チャンネル(21)は、この導入チャンネル(25)より下流域において第二チャンネル(22)の途中から始まって第二チャンネル(22)との接触部分(23)を形成するようにしている。
<実施例4>
実施例1と同様の方法により、図5に示したように、浅い第一チャンネル(幅:約148μm、深さ:約15μm)(21)と、深い第二チャンネル(幅:約239μm、深さ:約94μm)(22)を有するマイクロチャンネル構造体(1)を作製した。なお、第一チャンネル(21)と第二チャンネル(22)との接触部分(23)の接触距離は34mmとした。
<実施例5>
図3と同様のマイクロチャンネル構造体を図7のように作成した。この構造体において、第二チャンネル(22)にはアジドの水溶液を導入し、第一チャンネル(21)より上流域で、導入チャンネル(26)よりCrCl2水溶液を導入して、次式に従ってのアジドの還元反応を行った。
<実施例6>
実施例1と同様にして作製した図8のマイクロチャンネル構造体において、第一チャンネル(21)には、2%の割合のトリメシン酸クロリドを添加したセバシン酸クロリドの1,2−ジクロロメタン溶液を油相として導入し、第二チャンネル(22)には純水を導入した。
2 マイクロチャンネル
21 第一チャンネル
211 第一チャンネルの導入口
212 第一チャンネルの排出口
22 第二チャンネル
221 第二チャンネルの導入口
222 第二チャンネルの排出口
23 接触部分
241 第一チャンネルの内表面、疎水性の内表面
242 第二チャンネルの内表面
25 空気導入チャンネル
26 導入チャンネル
31、32 流体
33 水、水溶液
34 水(溶存酸素を含有)
35 窒素ガス
4 界面
5 修飾試薬含有溶液
51 化学修飾
6 空気
7 基板
7‘ カバープレート
8 気泡
9 ナイロン膜
10 気泡
Claims (11)
- 少なくとも二つのチャンネルが任意の領域において並行接触して接触部分を形成しており、この接触部分では各チャンネルを流れる流体の界面が形成されるマイクロチャンネル構造において、一つのチャンネルの内表面のみを化学修飾する方法であって、化学修飾される第一チャンネル内に修飾試薬含有溶液を導入し、第一チャンネル内の修飾試薬含有溶液の液圧と、第一チャンネルと並行接触して接触部分を形成する化学修飾されない第二チャンネル内の気圧が平衡を保つ状態で静置し、次いで第二チャンネル内を加圧とすることにより過剰の修飾試薬含有溶液を第一チャンネル内から排出することを特徴とするマイクロチャンネル内表面の部分化学修飾方法。
- 第一チャンネルの深さを第二チャンネルの深さよりも浅いものとし、毛細管現象により第一チャンネルに修飾試薬含有溶液を導入することにより、第一チャンネル内の修飾試薬含有溶液の液圧と第二チャンネル内の気圧を平衡に保つことを特徴とする請求項1の部分化学修飾方法。
- 第一チャンネルの深さを第二チャンネルの深さよりも浅いものとし、毛細管現象により第一チャンネル内に修飾試薬含有溶液を導入した後、第二チャンネル内の気圧を制御することにより、第一チャンネル内の修飾試薬含有溶液の液圧と第二チャンネル内の気圧を平衡に保つことを特徴とする請求項1の部分化学修飾方法。
- 第二チャンネルに空気を導入することにより第二チャンネル内を加圧とし、過剰の修飾試薬含有溶液を第一チャンネル内から排出することを特徴とする請求項1から3のいずれかの部分化学修飾方法。
- 請求項2から4のいずれかの部分化学修飾方法により内表面を化学修飾されたマイクロチャンネル構造を有するマイクロチャンネル構造体であって、少なくとも、化学修飾された内表面を有する第一チャンネルと、第一チャンネルよりも深く、化学修飾されない第二チャンネルを有し、第一チャンネルと第二チャンネルは任意の領域において並行接触する接触部分を有することを特徴とするマイクロチャンネル構造体。
- 請求項2から4のいずれかの部分化学修飾方法により内表面を化学修飾されたマイクロチャンネル構造を有するマイクロチャンネル構造体であって、少なくとも、疎水性の内表面を有する第一チャンネルと、第一チャンネルよりも深く、親水性の内表面を有する第二チャンネルを有し、第一チャンネルと第二チャンネルは任意の領域において並行接触する接触部分を有することを特徴とするマイクロチャンネル構造体。
- 請求項6のマイクロチャンネル構造体において、第二チャンネルに水性溶液を導入し、この水性溶液を、ヤング−ラプラスの式により求められる破化点以下の圧力を維持するような流速で流すことにより、接触部分において水性溶液に含有されている、もしくは水性溶液において発生する気泡を第一チャンネルに排出させることを特徴とする水性溶液からの気泡除去方法。
- 請求項6のマイクロチャンネル構造体において、第二チャンネルに溶存気体を含有する水性溶液を導入し、第一チャンネルに溶存気体を分配できる気体を導入し、水性溶液および気体をそれぞれ、接触部分における第二チャンネル内の水性溶液の圧力と第一チャンネル内の気体の圧力の圧力差がヤング−ラプラスの式により求められる許容圧力差以下となるような流速で同一方向または向流方向に流すことにより、接触部分において水性溶液から溶存気体を第一チャンネル内の気体に分配させることを特徴とする水性溶液からの溶存気体除去方法。
- 請求項6のマイクロチャンネル構造体において、第二チャンネルに油分を含有する水性溶液を導入し、第一チャンネルに油分を分配できる分配溶媒を導入し、水性溶液および分配溶媒をそれぞれ、接触部分における第二チャンネル内の水性溶液の圧力と第一チャンネル内の分配溶媒の圧力の圧力差がヤング−ラプラスの式により求められる許容圧力差以下となるような流速で同一方向または向流方向に流すことにより、接触部分において水性溶液から油分を第一チャンネル内の分配溶媒に分配させることを特徴とする水性溶液からの油分除去方法。
- 請求項6のマイクロチャンネル構造体において、第一チャンネルに油相を、第二チャンネルに水相を導入して、油水界面における反応により膜形成することを特徴とする膜の形成方法。
- 請求項6のマイクロチャンネル構造体において、第二チャンネルに液体を封入し、この液体を加熱し蒸発させて接触部分より第一チャンネルに移動させ、第一チャンネルで凝縮し液体とした後、再び接触部分より第二チャンネルに移動させることを特徴とする冷却方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004333789A JP4523386B2 (ja) | 2003-11-17 | 2004-11-17 | マイクロチャンネル内表面の部分化学修飾方法とマイクロチャンネル構造体 |
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2003387271 | 2003-11-17 | ||
JP2004333789A JP4523386B2 (ja) | 2003-11-17 | 2004-11-17 | マイクロチャンネル内表面の部分化学修飾方法とマイクロチャンネル構造体 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2005169386A JP2005169386A (ja) | 2005-06-30 |
JP4523386B2 true JP4523386B2 (ja) | 2010-08-11 |
Family
ID=34741858
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2004333789A Active JP4523386B2 (ja) | 2003-11-17 | 2004-11-17 | マイクロチャンネル内表面の部分化学修飾方法とマイクロチャンネル構造体 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4523386B2 (ja) |
Families Citing this family (15)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4528585B2 (ja) * | 2004-09-07 | 2010-08-18 | 株式会社島津製作所 | 二相流安定化チップ |
KR101306214B1 (ko) | 2005-10-24 | 2013-09-09 | 미쓰이 가가쿠 가부시키가이샤 | 마이크로칩 디바이스 |
JP2007245038A (ja) * | 2006-03-17 | 2007-09-27 | Ebara Corp | マイクロ流体デバイスにおける気泡除去装置及び方法 |
JP2007301534A (ja) * | 2006-05-15 | 2007-11-22 | Ebara Corp | 微細化装置 |
WO2007132852A1 (ja) | 2006-05-15 | 2007-11-22 | Ebara Corporation | 難水溶性医薬 |
JP4528285B2 (ja) * | 2006-06-16 | 2010-08-18 | 株式会社日立製作所 | 固液界面反応評価方法および固液界面反応評価装置 |
JP4970959B2 (ja) * | 2007-01-09 | 2012-07-11 | 株式会社神戸製鋼所 | 反応装置及び反応方法 |
JP5309312B2 (ja) * | 2007-11-01 | 2013-10-09 | Jfeテクノス株式会社 | マイクロチップ、マイクロチップデバイス及びマイクロチップを用いた蒸発操作方法 |
JP5246167B2 (ja) * | 2007-12-21 | 2013-07-24 | コニカミノルタエムジー株式会社 | マイクロチップ及びマイクロチップの送液方法 |
JP2009150810A (ja) * | 2007-12-21 | 2009-07-09 | Konica Minolta Medical & Graphic Inc | マイクロチップ |
US8192703B2 (en) | 2009-01-13 | 2012-06-05 | Kobe Steel, Ltd. | Reactor and reacting method |
CN105283248B (zh) * | 2013-05-07 | 2018-02-06 | 基因细胞生物系统有限公司 | 稳固特征件 |
WO2015107298A1 (fr) * | 2014-01-14 | 2015-07-23 | Centre National De La Recherche Scientifique (Cnrs) | Dispositif microfluidique pour l'analyse de polluants en écoulement |
FR3016441B1 (fr) * | 2014-01-14 | 2017-06-16 | Centre Nat De La Rech Scient (Cnrs) | Dispositif microfluidique pour l'analyse de polluants en ecoulement |
CN114891265A (zh) * | 2022-04-01 | 2022-08-12 | 中国科学院宁波材料技术与工程研究所 | 一种管状开孔材料内表面的修饰与功能化方法 |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2003076038A1 (fr) * | 2002-03-14 | 2003-09-18 | Kanagawa Academy Of Science And Technology | Procede d'enrichissement d'une phase liquide a l'interieur d'une micropuce par ecoulement diphase gaz-liquide et dispositif a micropuces associe |
JP2005034679A (ja) * | 2003-07-15 | 2005-02-10 | Tosoh Corp | 化学操作の実施方法及びこれを用いた溶媒抽出方法 |
-
2004
- 2004-11-17 JP JP2004333789A patent/JP4523386B2/ja active Active
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2003076038A1 (fr) * | 2002-03-14 | 2003-09-18 | Kanagawa Academy Of Science And Technology | Procede d'enrichissement d'une phase liquide a l'interieur d'une micropuce par ecoulement diphase gaz-liquide et dispositif a micropuces associe |
JP2005034679A (ja) * | 2003-07-15 | 2005-02-10 | Tosoh Corp | 化学操作の実施方法及びこれを用いた溶媒抽出方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2005169386A (ja) | 2005-06-30 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4523386B2 (ja) | マイクロチャンネル内表面の部分化学修飾方法とマイクロチャンネル構造体 | |
Pereiro et al. | Nip the bubble in the bud: a guide to avoid gas nucleation in microfluidics | |
Kim et al. | Patterning microfluidic device wettability with spatially-controlled plasma oxidation | |
Kobayashi et al. | Silicon array of elongated through‐holes for monodisperse emulsion droplets | |
Atencia et al. | Controlled microfluidic interfaces | |
Yang et al. | Mass transfer characteristics of bubbly flow in microchannels | |
Roberts et al. | Comparison of monodisperse droplet generation in flow-focusing devices with hydrophilic and hydrophobic surfaces | |
Xu et al. | Preparation of highly monodisperse droplet in a T‐junction microfluidic device | |
US20090282978A1 (en) | Microfluidic Separators for Multiphase Fluid-Flow Based On Membranes | |
US8075778B2 (en) | Fluid separation | |
Parhizkar et al. | The effect of surfactant type and concentration on the size and stability of microbubbles produced in a capillary embedded T-junction device | |
Aota et al. | Parallel multiphase microflows: fundamental physics, stabilization methods and applications | |
Xu et al. | Controllable gas/liquid/liquid double emulsions in a dual-coaxial microfluidic device | |
Yang et al. | Experimental study of microbubble coalescence in a T-junction microfluidic device | |
Liu et al. | A simple online phase separator for the microfluidic mass transfer studies | |
JP5145559B2 (ja) | 流動調整装置、マイクロリアクター及びそれらの用途 | |
Wang et al. | Investigation on pressure drop characteristic and mass transfer performance of gas–liquid flow in micro-channels | |
Yang et al. | A novel microfluidic technology for the preparation of gas-in-oil-in-water emulsions | |
He et al. | Liquid–liquid extraction of yttrium (III) using 2-ethylhexyl phosphonic acid mono-2-ethylhexyl (EHEHPA) in a microreactor: A comparative study | |
Shao et al. | Liquid–liquid flow and mass transfer characteristics in micro-sieve array device with dual-sized pores | |
Tirandazi et al. | Generation of uniform liquid droplets in a microfluidic chip using a high-speed gaseous microflow | |
JP6968578B2 (ja) | マイクロリアクター、並びに、抽出方法及び反応方法 | |
JP4389559B2 (ja) | 微小流路構造体 | |
Nishiyama et al. | Specific distribution behavior of a ternary mixture of solvents fed into bent and wound microchannels in microchips | |
EP3662988B1 (en) | Method for optimization of droplet formation rate using dripping/jetting to co-flow transition of vacuum-driven microfluidic flow-focusing device with rectangular microchannels |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20050316 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20070919 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20090826 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20100112 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20100315 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20100506 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20100527 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 4523386 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130604 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130604 Year of fee payment: 3 |
|
S533 | Written request for registration of change of name |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313113 |
|
R360 | Written notification for declining of transfer of rights |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R360 |
|
R360 | Written notification for declining of transfer of rights |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R360 |
|
R371 | Transfer withdrawn |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R371 |
|
S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313113 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |