JP5298495B2 - 形状記憶樹脂及びこれを用いた成形体 - Google Patents
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Description
1.成形加工
形状記憶性樹脂を加熱、溶融、固化して成形加工すると、物理的結合あるいは化学的結合(架橋点)からなる固定相と、ガラス転移温度(Tg)または融点(Tm)以上の温度で流動的になる非結合部分の可逆相を有する成形体が得られる。このような形状記憶性樹脂成形体において、固定相と可逆相(硬)からなる初期状態(原形)(同図(a)及び部分拡大図(b))が記憶される。
2.成形体の変形
成形体を任意の形状に変形させるには、固定相は溶融させずに可逆相のみを溶融させる温度、つまり可逆相のTgやTm以上に加熱し硬化状態の可逆相(可逆相(硬))を軟化させ(可逆相(軟)(同図(c))、軟化した成形体を外力を加え任意形状に変形させる(同図(d))。変形された任意形状の成形体をTgやTm(またはTc(結晶化温度))以下に冷却すると、可逆相が完全に固化して変形が固定化された成形体が得られる(同図(e))。
3.記憶形状の回復
変形した形状に固定化された成形体においては、一時的に強制固定されている可逆相によりその変形形状が保たれている。従って加熱により可逆相が軟化する温度に達すると、可逆相はゴム状特性を示して安定状態となり、元の形状を回復させる(同図(c))。さらにTgやTm(またはTc)以下に冷却することにより、可逆相が硬化し初期形状の成形体(同図(b))に戻る。
攪拌機、分流コンデンサー、温度計、窒素導入管を付した1Lのセパラブルフラスコに、コハク酸118g(1.00モル)、1,4−ブタンジオール95g(1.05モル)を仕込み、窒素雰囲気下180〜220℃で1時間脱水縮合を行った。続いて、クロロホルムに溶解し、アルカリ洗浄後、メタノールにより再沈し、数平均分子量(NMR)が500の両末端にヒドロキシル基を有するポリブチレンサクシネート(R1)を得た。得られたポリブチレンサクシネート(R1)15g(0.03モル)にリジントリイソシアネート(協和発酵ケミカル(株))5.3g(0.02モル)を150℃で溶融混合し、金型に流し込んだ後、150℃で1時間架橋反応を行ない、成形物を得た。得られた成形物について、以下のように結晶化温度(Tc)、結晶溶融温度(Tm)、結晶化熱(Hm)を測定し、形状記憶性、常温変形を評価した。結果を表1に示す。
セイコーインスツルメント社製DSC測定装置(商品名:DSC6000)を用いて、溶融温度(高温域)から降温速度10℃/分で測定を行い、結晶化温度(Tc)を求めた。続いて昇温速度10℃/分で(低温域から)測定を行い、結晶溶融温度(Tm)および融解熱(Hm)を測定した。
2cm×5cm×1.0mmの成形体(第一形状)を作成し、Tm+20℃で加熱し、成形体の中央を30°に折り曲げて変形後、23℃の水浴で冷却し、10分間形状を保持することにより第二形状を得た。このときの成形体の角度(A1)により、以下の基準により形状記憶性を評価した。
2cm×5cm×1.0mmの成型体(第一形状)を作成し、Tm+20℃で加熱した後、23℃の水浴で冷却する。成形体の中央を30°に折り曲げて変形後、10分間形状を保持することにより、第二形状を得た。このときの成型体の角度(A2)で形状記憶性を評価した。
攪拌機、分流コンデンサー、温度計、窒素導入管を付した1Lのセパラブルフラスコに、コハク酸118g(1.00モル)、1,4−ブタンジオール95g(1.05モル)を仕込み、窒素雰囲気下180〜220℃で2時間脱水縮合を行った。続いて、クロロホルムに溶解し、アルカリ洗浄後、メタノールにより再沈し、数平均分子量(NMR)が1000の両末端にヒドロキシル基を有するポリブチレンサクシネート(R2)を得た。得られたポリブチレンサクシネート(R2)15g(0.015モル)にリジントリイソシアネート2.7g(0.01モル)を150℃で溶融混合し、金型に流し込んだ後、150℃で1時間架橋反応を行ない、成形物を得た。得られた成形物について、実施例1と同様にしてTc、Tm、Hmを測定し、形状記憶性、常温変形を評価した。結果を表1に示す。
攪拌機、分流コンデンサー、温度計、窒素導入管を付した1Lのセパラブルフラスコに、コハク酸118g(1.00モル)、1,4−ブタンジオール95g(1.05モル)を仕込み、窒素雰囲気下180〜220℃で7時間脱水縮合を行った。続いて、クロロホルムに溶解し、アルカリ洗浄後、メタノールにより再沈し、数平均分子量(NMR)が2000の両末端にヒドロキシル基を有するポリブチレンサクシネート(R3)を得た。得られたポリブチレンサクシネート(R3)30g(0.015モル)にリジントリイソシアネート2.7g(0.01モル)を150℃で溶融混合し、金型に流し込んだ後、150℃で1時間架橋反応を行ない、成形物を得た。得られた成形物について、実施例1と同様にしてTc、Tm、Hmを測定し、形状記憶性、常温変形を評価した。結果を表1に示す。
攪拌機、分流コンデンサー、温度計、窒素導入管を付した1Lのセパラブルフラスコに、コハク酸118g(1.0モル)、1,4−ブタンジオール95g(1.05モル)を仕込み、窒素雰囲気下180〜220℃で7時間脱水縮合を行った。続いて、減圧下180〜220℃で0.5時間脱グリコール反応を行い、続いて、クロロホルムに溶解し、アルカリ洗浄後、メタノールにより再沈し、数平均分子量(NMR)が2500の両末端にヒドロキシル基を有するポリブチレンサクシネート(R4)を得た。得られたポリブチレンサクシネート(R4)22.5g(0.009モル)に、リジントリイソシアネート1.6g(0.006モル)を150℃で溶融混合し、金型に流し込んだ後、150℃で1時間架橋反応を行ない、成形物を得た。得られた成形物について、実施例1と同様にしてTc、Tm、Hmを測定し、形状記憶性、常温変形を評価した。結果を表1に示す。
攪拌機、分流コンデンサー、温度計、窒素導入管を付した1Lのセパラブルフラスコに、コハク酸118g(1.0モル)、1,4−ブタンジオール95g(1.05モル)を仕込み、窒素雰囲気下180〜220℃で7時間脱水縮合を行った。続いて、減圧下180〜220℃で1.0時間脱グリコール反応を行い、クロロホルムおよびメタノールによる再沈により数平均分子量(NMR)が3000の両末端にヒドロキシル基を有するポリブチレンサクシネート(R5)を得た。得られたポリブチレンサクシネート(R5)18g(0.006モル)に、リジントリイソシアネート1.1g(0.004モル)を150℃で溶融混合し、金型に流し込んだ後、150℃で1時間架橋反応を行ない、成形物を得た。得られた成形物について、実施例1と同様にしてTc、Tm、Hmを測定し、形状記憶性、常温変形を評価した。結果を表1に示す。
[実施例6]
攪拌機、分流コンデンサー、温度計、窒素導入管を付した1Lのセパラブルフラスコに、コハク酸94g(0.8モル)、アジピン酸29g(0.2モル)、1,4−ブタンジオール95g(1.05モル)を仕込み、窒素雰囲気下180〜220℃で7時間脱水縮合を行った。続いて、減圧下180〜220℃で1.0時間脱グリコール反応を行い、クロロホルムおよびメタノールによる再沈により数平均分子量(NMR)が3000の両末端にヒドロキシル基を有するポリブチレンサクシネートアジペート(R9)を得た。得られたポリブチレンサクシネートアジペート(R9)18g(0.006モル)に、リジントリイソシアネート1.1g(0.004モル)を150℃で溶融混合し、金型に流し込んだ後、150℃で1時間架橋反応を行ない、成形物を得た。得られた成形物について、実施例1と同様にしてTc、Tm、Hmを測定し、形状記憶性、常温変形を評価した。結果を表1に示す。
攪拌機、分流コンデンサー、温度計、窒素導入管を付した1Lのセパラブルフラスコに、コハク酸118g(1.00モル)、1,4−ブタンジオール95g(1.05モル)を仕込み、窒素雰囲気下180〜220℃で0.5時間脱水縮合を行った。続いて、クロロホルムに溶解し、アルカリ洗浄後、メタノールにより再沈し、数平均分子量(NMR)が300の両末端にヒドロキシル基を有するポリブチレンサクシネート(R6)を得た。得られたポリブチレンサクシネート(R6)9g(0.03モル)にリジントリイソシアネート5.3g(0.02モル)を150℃で溶融混合し、金型に流し込んだ後、150℃で1時間架橋反応を行ない、成形物を得た。得られた成形物について、実施例1と同様にしてTc、Tm、Hmを測定し、形状記憶性、常温変形を評価した。結果を表1に示す。
攪拌機、分流コンデンサー、温度計、窒素導入管を付した1Lのセパラブルフラスコに、コハク酸118g(1.0モル)、1,4−ブタンジオール95g(1.05モル)を仕込み、窒素雰囲気下180〜220℃で7時間脱水縮合を行った。続いて、減圧下180〜220℃で2.0時間脱グリコール反応を行い、クロロホルムおよびメタノールによる再沈により数平均分子量(NMR)が3500の両末端にヒドロキシル基を有するポリブチレンサクシネート(R7)を得た。得られたポリブチレンサクシネート(R7)21g(0.006モル)に、リジントリイソシアネート1.1g(0.004モル)を150℃で溶融混合し、金型に流し込んだ後、150℃で1時間架橋反応を行ない、成形物を得た。得られた成形物について、実施例1と同様にしてTc、Tm、Hmを測定し、形状記憶性、常温変形を評価した。結果を表1に示す。
攪拌機、分流コンデンサー、温度計、窒素導入管を付した1Lのセパラブルフラスコに、コハク酸118g(1.0モル)、1,4−ブタンジオール108g(1.2モル)、テトライソプロピルチタネート0.02g(触媒量)を仕込み、窒素雰囲気下180〜220℃で4時間脱水縮合を行った。続いて、減圧下180〜220℃で13時間脱グリコール反応を行い、水およびビニルグリコールを留去して、数平均分子量(GPC)10,600の両末端にヒドロキシル基を有する脂肪族ポリエステル(R8)を得た。得られた脂肪族ポリエステル(R8)31.8g(0.003モル)に、リジントリイソシアネート0.5g(0.002モル)を150℃で溶融混合し、金型に流し込んだ後、150℃で1時間架橋反応を行ない、成形物を得た。得られた成形物について、実施例1と同様にしてTc、Tm、Hmを測定し、形状記憶性、常温変形を評価した。結果を表1に示す。
ポリブチレンサクシネート(R3)20g(0.01モル)に ヘキサメチレンジイソシアネート1.7g(0.01モル)を150℃で溶融混合し、金型に流し込んだ後、150℃で1時間架橋反応を行ない、成形物を得た。得られた成形物について、実施例1と同様にしてTc、Tm、Hmを測定し、形状記憶性、常温変形を評価した。結果を表1に示す。
市販のPBS(昭和高分子 #1020、数平均分子量(GPC)33000)を金型内で200℃に加熱溶融・冷却固化して、評価用の成形物を製造した。得られた成形物について、実施例1と同様にしてTc、Tm、Hmを測定し、形状記憶性、常温変形を評価した。結果を表1に示す。
Claims (7)
- 架橋部位となる官能基を複数有し、数平均分子量が500以上3000以下の結晶性樹脂を架橋した三次元構造を有する形状記憶樹脂であって、結晶溶融温度(Tm)が60℃以上かつ結晶化温度(Tc)が45℃以下であり、結晶性樹脂がポリヒドロキシポリブチレンサクシネート又はポリヒドロキシポリブチレンサクシネートアジペートを含むことを特徴とする形状記憶樹脂。
- 結晶性樹脂が官能基に結合するリンカーを介して架橋されてなることを特徴とする請求項1記載の形状記憶樹脂。
- 結晶性樹脂が官能基に活性水素を有し、リンカーがポリイソシアネートであることを特徴とする請求項2記載の形状記憶樹脂。
- 結晶性樹脂が生分解性であることを特徴とする請求項1から3のいずれか記載の形状記憶樹脂。
- 結晶溶融温度(Tm)より20℃高温における貯蔵弾性率(G'(Tm+20))が2.5×10 8 Pa以下であり、常温に冷却した直後の貯蔵弾性率が1.0×10 9 Pa未満であり、結晶化後の貯蔵弾性率(G'(Tc))がG'(Tc)/G'(Tm+20)≧10の関係を有することを特徴とする請求項1から4のいずれか記載の形状記憶樹脂。
- 融解熱(Hm)が20J/g以上であることを特徴とする請求項1から5のいずれか記載の形状記憶樹脂。
- 請求項1から6のいずれか記載の形状記憶樹脂を用いたことを特徴とする成形体。
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