JP5294358B2 - ウエハ加工用テープ及びこれを使用した半導体装置の製造方法 - Google Patents

Description

本発明は、半導体装置の製造工程において、エキスパンドにより接着剤層をチップに沿って分断する際に用いられる、エキスパンド可能なウエハ加工用テープなどに関する。

ＩＣなどの半導体装置の製造工程では、回路パターン形成後のウエハを薄膜化するためにウエハ裏面を研削するバックグラインド工程、ウエハの裏面に粘着性および伸縮性のあるウエハ加工用テープを貼り付けた後、ウエハをチップ単位に分断するダイシング工程、ウエハ加工用テープを拡張（エキスパンド）するエキスパンド工程、分断されたチップをピックアップするピックアップ工程、さらにピックアップされたチップをリードフレームやパッケージ基板等に接着する（あるいは、スタックドパッケージにおいては、チップ同士を積層、接着する）ダイボンディング（マウント）工程が実施される。

上記バックグラインド工程では、ウエハの回路パターン形成面（ウエハ表面）を汚染から保護するために、表面保護テープが使用される。ウエハの裏面研削終了後、この表面保護テープをウエハ表面から剥離する際には、以下に述べるウエハ加工用テープ（ダイシング・ダイボンディングテープ）をウエハ裏面に貼合した後、吸着テーブルにウエハ加工用テープ側を固定し、表面保護テープに、ウエハに対する接着力を低下させる処理を施した後、表面保護テープを剥離する。表面保護テープが剥離されたウエハは、その後、裏面にウエハが貼合された状態で、吸着テーブルから取り上げられ、次のダイシング工程に供される。なお、上記の接着力を低下させる処理とは、表面保護テープが紫外線等のエネルギー線硬化性成分からなる場合は、エネルギー線照射処理であり、表面保護テープが熱硬化性成分からなる場合は、加熱処理である。

上記バックグラインド工程の後のダイシング工程〜マウント工程では、基材フィルム上に、粘着剤層と接着剤層とが、この順に積層されたウエハ加工用テープが使用される。一般に、ウエハを用いる場合は、まず、ウエハの裏面にウエハの接着剤層を貼合してウエハを固定し、ダイシングブレードを用いてウエハおよび接着剤層をチップ単位にダイシングする。その後、テープをウエハの径方向に拡張することによって、チップ同士の間隔を広げるエキスパンド工程が実施される。このエキスパンド工程は、その後のピックアップ工程において、ＣＣＤカメラ等によるチップの認識性を高めるとともに、チップをピックアップする際に、隣接するチップ同士が接触することによって生じるチップの破損を防止するために実施される。その後、チップは、ピックアップ工程にて接着剤層とともに粘着剤層から剥離してピックアップされ、マウント工程にて、リードフレームやパッケージ基板等にダイレクトに接着される。このように、ウエハ加工用テープを用いることで、接着剤層付きのチップをリードフレームやパッケージ基板等にダイレクトに接着することが可能となるので、接着剤の塗布工程や別途各チップにダイボンディングフィルムを接着する工程を省略することができる。

しかしながら、前記ダイシング工程では、上述のように、ダイシングブレードを用いてウエハと接着剤層とを一緒にダイシングするため、ウエハの切削屑だけでなく、接着剤層の切削屑も発生してしまう。そして、接着剤層の切削屑がウエハのダイシング溝に詰まった場合、チップ同士がくっついてピックアップ不良などが発生し、半導体装置の製造歩留まりが低下してしまうという問題があった。

このような問題を解決するために、ダイシング工程ではブレードによりウエハのみをダイシングし、エキスパンド工程において、ウエハ加工用テープを拡張することにより、接着剤層を個々のチップ毎に分断する方法が提案されている（例えば、特許文献１）。このような、拡張時の張力を利用した接着剤層の分断方法によれば、接着剤の切削屑が発生せず、ピックアップ工程において悪影響を及ぼすこともない。

また、近年、ウエハの切断方法として、レーザー加工装置を用いて、非接触でウエハを切断できる、いわゆるステルスダイシング法が提案されている。例えば、特許文献２には、ステルスダイシング法として、接着剤層（ダイボンド樹脂層）を介在させて、シートが貼り付けられた半導体基板の内部に焦点光を合わせ、レーザー光を照射することにより、半導体基板の内部に多光子吸収による改質領域を形成し、この改質領域を切断予定部とする工程と、シートを拡張させることにより、切断予定部に沿って半導体基板および接着剤層を切断する工程とを備えた半導体基板の切断方法が開示されている。

また、レーザー加工装置を用いた別のウエハの切断方法として、例えば、特許文献３には、ウエハの裏面にダイボンディング用の接着剤層（接着フィルム）を装着する工程と、該接着剤層が貼合されたウエハの接着剤層側に、伸長可能な保護粘着テープを貼合する工程と、保護粘着テープを貼合したウエハの表面から、ストリートに沿ってレーザー光線を照射し、個々のチップに分割する工程と、保護粘着テープを拡張して接着剤層に引張力を付与し、接着剤層をチップ毎に破断する工程と、破断された接着剤層が貼合されているチップを保護粘着テープから離脱する工程を含むウエハの分割方法が提案されている。

これら特許文献２および特許文献３に記載のウエハの切断方法によれば、レーザー光の照射およびテープの拡張によって、非接触でウエハを切断するので、ウエハへの物理的負荷が小さく、現在主流のブレードダイシングを行う場合のようなウエハの切削屑（チッピング）を発生させることなくウエハの切断が可能である。また、拡張によって接着剤層を分断するので、接着剤層の切削屑を発生させることもない。このため、ブレードダイシングに代わり得る優れた技術として注目されている。

上記特許文献１〜３に記載にされたように、拡張によって接着剤層を分断する方法では、使用されるウエハには、チップに沿って接着剤層を確実に分断するために、基材フィルムの均一かつ等方的な拡張性が接着剤層に十分に伝わる必要がある。接着剤層と粘着剤層との界面でずれが生じた場合には、その箇所では接着剤層に十分な引張力が伝搬されず、接着剤層が分断できなくなってしまうからである。

しかし、一般に、接着剤層と粘着剤層との界面ずれを発生させない設計のウエハ加工用テープとした場合、ピックアップ工程において分割されたチップを剥離できなくなるという問題が生じてしまう。

特開２００７−５５３０号公報 特開２００３−３３８４６７号公報 特開２００４−２７３８９５号公報

そこで、本発明は、拡張によって接着剤層と粘着剤層界面でずれを生じることがなく、接着剤層を分断する工程に適した均一拡張性を有し、かつピックアップ性に優れるウエハ加工用テープを提供することを課題とする。

以上の課題を解決するため、本発明は、第１の態様として、基材フィルムと、前記基材フィルム上に形成された粘着剤層と、前記粘着剤層上に形成された接着剤層からなり、前記粘着剤層と前記接着剤層の界面の２５℃におけるせん断力が０．２Ｎ／ｍｍ^２以上であり、前記粘着剤層と前記接着剤層の２００ｍＪ／ｃｍ^２のエネルギー線照射後のＪＩＳ−Ｚ０２３７に準拠した標準状態における剥離速度３００ｍｍ／ｍｉｎ、剥離角度１８０°での剥離力が０．３Ｎ／２５ｍｍ以下であることを特徴とするウエハ加工用テープを提供するものである。

また、本発明は、第２の態様として、前記第１の態様のウエハ加工用テープを使用して半導体装置を製造する方法であって、
（ａ）回路パターンが形成されたウエハ表面に表面保護テープを貼合する工程と、
（ｂ）前記ウエハ裏面を研削するバックグラインド工程と、
（ｃ）前記ウエハを７０〜８０℃に加熱した状態で、前記ウエハ裏面に前記ウエハ加工用テープの接着剤層を貼合する工程と、
（ｄ）前記ウエハ表面から前記表面保護テープを剥離する工程と、
（ｅ）前記ウエハの分割予定部分にレーザー光を照射し、前記ウエハ内部に多光子吸収による改質領域を形成する工程と、
（ｆ）前記ウエハ加工用テープを拡張することにより、前記ウエハと前記ウエハ加工用テープの前記接着剤層とを分断ラインに沿って分断し、前記接着剤層が付いた複数のチップを得るエキスパンド工程と、
（ｇ）拡張後の前記ウエハ加工用テープにおいて、前記チップと重ならない部分を加熱収縮させることにより、前記エキスパンド工程において生じた弛みを除去し、前記チップの間隔を保持する工程と、
（ｈ）前記接着剤層が付いた前記チップを、前記ウエハ加工用テープの粘着剤層からピックアップする工程と、
を含むことを特徴とする半導体装置の製造方法を提供するものである。

さらに、本発明は、第３の態様として、前記第１の態様のウエハ加工用テープを使用して半導体装置を製造する方法であって、
（ａ）回路パターンが形成されたウエハ表面に表面保護テープを貼合する工程と、
（ｂ）前記ウエハ裏面を研削するバックグラインド工程と、
（ｃ）前記ウエハを７０〜８０℃に加熱した状態で、前記ウエハ裏面に前記ウエハ加工用テープの接着剤層を貼合する工程と、
（ｄ）前記ウエハ表面から前記表面保護テープを剥離する工程と、
（ｅ）前記ウエハ表面の分断ラインに沿ってレーザー光を照射し、前記ウエハをチップに分断する工程と、
（ｆ）前記ウエハ加工用テープを拡張することにより、前記接着剤層を前記チップ毎に分断し、前記接着剤層が付いた複数のチップを得るエキスパンド工程と、
（ｇ）拡張後の前記ウエハ加工用テープにおいて、前記チップと重ならない部分を加熱収縮させることにより、前記エキスパンド工程において生じた弛みを除去し、前記チップの間隔を保持する工程と、
（ｈ）前記接着剤層が付いた前記チップを、前記ウエハ加工用テープの粘着剤層からピックアップする工程と、
を含むことを特徴とする半導体装置の製造方法を提供する。

また、本発明は、第４の態様として、前記第１の態様のウエハ加工用テープを使用して半導体装置を製造する方法であって、
（ａ）回路パターンが形成されたウエハ表面に表面保護テープを貼合する工程と、
（ｂ）前記ウエハ裏面を研削するバックグラインド工程と、
（ｃ）前記ウエハを７０〜８０℃に加熱した状態で、前記ウエハ裏面に前記ウエハ加工用テープの接着剤層を貼合する工程と、
（ｄ）前記ウエハ表面から前記表面保護テープを剥離する工程と、
（ｅ）ダイシングブレードを用いて前記ウエハを分断ラインに沿って切削し、チップに分断する工程と、
（ｆ）前記ウエハ加工用テープを拡張することにより、前記接着剤層を前記チップ毎に分断し、前記接着剤層が付いた複数のチップを得るエキスパンド工程と、
（ｇ）拡張後の前記ウエハ加工用テープにおいて、前記チップと重ならない部分を加熱収縮させることにより、前記エキスパンド工程において生じた弛みを除去し、前記チップの間隔を保持する工程と、
（ｈ）前記接着剤層が付いた前記チップを、前記ウエハ加工用テープの粘着剤層からピックアップする工程と、
を含むことを特徴とする半導体装置の製造方法を提供する。

そして、本発明の第５の態様としては、前記第１の態様のウエハ加工用テープを使用して半導体装置を製造する方法であって、
（ａ）回路パタ−ンが形成されたウエハを、ダイシングブレードを用いて分断予定ラインに沿って前記ウエハの厚さ未満の深さまで切削する工程と、
（ｂ）前記ウエハ表面に表面保護テープを貼合する工程と、
（ｃ）前記ウエハ裏面を研削してチップに分断するバックグラインド工程と、
（ｄ）前記ウエハを７０〜８０℃に加熱した状態で、前記チップに分断された前記ウエハ裏面に前記ウエハ加工用テープの接着剤層を貼合する工程と、
（ｅ）前記チップに分断された前記ウエハ表面から表面保護テープを剥離する工程と、
（ｆ）前記ウエハ加工用テープを拡張することにより、前記接着剤層を前記チップ毎に分断し、前記接着剤層が付いた複数のチップを得るエキスパンド工程と、
（ｇ）拡張後の前記ウエハ加工用テープにおいて、前記チップと重ならない部分を加熱収縮させることで前記エキスパンド工程において生じた弛みを除去し、前記チップの間隔を保持する工程と、
（ｈ）接着剤層が付いた前記チップを、前記ウエハ加工用テープの粘着剤層からピックアップする工程と、
を含むことを特徴とする半導体装置の製造方法を提供する。

本発明のウエハ加工用テープでは、接着剤層と粘着剤層の界面のせん断力が０．２Ｎ／ｍｍ^２以上であるため、エキスパンドした際に、基材フィルムの均一かつ等方的な拡張性が、粘着剤層を通して接着剤層に十分に伝搬され、接着剤層が効率よく分断される。また、２００ｍＪ／ｃｍ^２のエネルギー線照射後のＪＩＳ−Ｚ０２３７に準拠した標準状態における剥離速度３００ｍｍ／ｍｉｎ、剥離角度１８０°での剥離力が０．３Ｎ／２５ｍｍ以下であることから、十分に剥離力が低下し、良好なピックアップ性能を有する。

ウエハに、本発明の実施形態にかかるウエハ加工用テープと、表面保護テープが貼合された状態を示す断面図である。 ウエハに、表面保護テープが貼合された状態を示す断面図である。 本発明のウエハ加工用テープに、ウエハとリングフレームとを貼合する工程を説明するための断面図である。 ウエハの表面から表面保護テープを剥離する工程を説明する断面図である。 レーザー加工によりウエハに改質領域が形成された様子を示す断面図である。 （ａ）本発明のウエハ加工用テープがエキスパンド装置に搭載された状態を示す断面図である。（ｂ）ウエハ加工用テープの拡張により、ウエハをチップに分断する過程を示す断面図である。（ｃ）拡張後のウエハ加工用テープ、接着剤層、およびチップを示す断面図である。 ヒートシュリンク工程を説明するための断面図である。 せん断力の測定方法において、本発明のウエハ加工用テープの基材面側と接着剤層側に補助テープを貼合した状態を示す断面図である。 せん断力の測定方法の概要を示す断面図である。 剥離力の測定方法の概要を示す側面図である。

以下、本発明の実施形態について図面に基づいて詳細に説明する。
図１は、本発明の実施形態に係るウエハ加工用テープ１０を示す断面図である。本発明のウエハ加工用テープ１０は、エキスパンドによりウエハをチップに分断する際に、接着剤層１３がチップに沿って分断されるものである。このウエハ加工用テープ１０は、基材フィルム１１と、基材フィルム１１上に設けられた粘着剤層１２と、粘着剤層１２上に設けられた接着剤層１３とを有し、接着剤層１３上にウエハの裏面が貼合されるものである。なお、それぞれの層は、使用工程や装置に合わせて予め所定形状に切断（プリカット）されていてもよい。さらに、本発明のウエハ加工用テープ１０は、ウエハ１枚分ごとに切断された形態であってもよいし、ウエハ１枚分ごとに切断されたものが複数形成された長尺のシートを、ロール状に巻き取った形態であってもよい。以下に、各層の構成について説明する。

＜基材フィルム＞
基材フィルム１１は、エキスパンド工程において均一かつ等方的な拡張性を有するものであればよく、その材質についてはとくに限定されない。一般に、架橋樹脂は、非架橋樹脂と比較して引っ張りに対する復元力が大きく、エキスパンド工程後の引き伸ばされた状態に熱を加えた際の収縮応力が大きい。したがって、エキスパンド工程後にテープに生じた弛みを加熱収縮によって除去でき、これにより、テープを緊張させて個々のチップの間隔を安定に保持することができる。したがって、架橋樹脂、なかでも熱可塑性架橋樹脂が基材フィルムとして好ましく使用される。

このような熱可塑性架橋樹脂としては、例えば、エチレン−（メタ）アクリル酸二元共重合体またはエチレン−（メタ）アクリル酸−（メタ）アクリル酸を、金属イオンで架橋したアイオノマー樹脂が、例示される。これらは、均一拡張性の面でエキスパンド工程に適し、かつ架橋によって加熱時に強く復元力が働く点で、特に好適である。上記アイオノマー樹脂に含まれる金属イオンはとくに限定されないが、特に溶出性の低い亜鉛イオンが、低汚染性の面から好ましい。

また、このような熱可塑性架橋樹脂としては、前記のアイオノマー樹脂の他に比重０．９１０以上〜０．９３０未満の低密度ポリエチレンもしくは比重０．９１０未満の超低密度ポリエチレンに、電子線等のエネルギー線を照射することで架橋させたものも好適である。このような熱可塑性架橋樹脂は、架橋部位と非架橋部位が樹脂中に共存していることから、一定の均一拡張性を有する。また、加熱時に強く復元力が働くことから、エキスパンド工程で生じたテープの弛みを除去する上でも好適である。低密度ポリエチレンや超低密度ポリエチレンに対して照射するエネルギー線の量を適宜に調製することで、十分な均一拡張性を有する樹脂を得ることができる。

さらに、熱可塑性架橋樹脂としては、前記のアイオノマー樹脂やエネルギー線架橋されたポリエチレンの他に、エチレン−酢酸ビニル共重合体に電子線等のエネルギー線を照射して架橋させたものも好適である。この熱可塑性架橋樹脂は、加熱時に強く復元力が働くことから、エキスパンド工程で生じたテープの弛みを除去でき、好適である。

なお、図１に示す例では、基材フィルム１１は単層であるが、これに限定されず、２種以上の熱可塑性架橋樹脂を積層させた複数層構造であってもよい。基材フィルム１１の厚みは特に規定しないが、ウエハ加工用テープ１０のエキスパンド工程において引き伸ばし易く、かつ破断しないだけの十分な強度を持つ厚みとして、５０〜２００μｍ程度がよく、１００μｍ〜１５０μｍがより好ましい。

複数層の基材フィルム１１の製造方法としては、従来公知の押出法、ラミネート法などを用いることができる。ラミネート法を用いる場合は、層間に接着剤を介在させてもよい。接着剤としては従来公知の接着剤を用いることができる。

＜粘着剤層＞
粘着剤層１２は、基材フィルム１１に粘着剤組成物を塗工して形成することができる。本発明のウエハ加工用テープ１０を構成する粘着剤層１２は、ダイシング時において接着剤層１３との剥離を生じず、チップ飛びなどの不良を発生しない程度の保持性や、ピックアップ時において接着剤層１３との剥離が容易となる特性を有するものであればよい。具体的には、粘着剤層と接着剤層の２５℃におけるせん断力が０．２Ｎ／ｍｍ^２以上であり、かつ粘着剤層と接着剤層の２００ｍＪ／ｃｍ^２のエネルギー線照射後のＪＩＳ−Ｚ０２３７に準拠した標準状態（温度２３±１℃、相対湿度５０±５％）における剥離速度３００ｍｍ／ｍｉｎ、剥離角度１８０°での剥離力（引きはがし粘着力）が０．３Ｎ／２５ｍｍ以下である粘着剤層１２とする。

本発明のウエハ加工用テープにおいて、粘着剤層１２を構成する粘着剤組成物の構成はとくに限定されないが、ダイシング後のピックアップ性を向上させるために、エネルギー線硬化性のものが好ましく、硬化後に接着剤層１３との剥離が容易となる材料であることが好ましい。具体的には、粘着剤組成物中に、ベース樹脂として、炭素数が６〜１２のアルキル鎖を有する（メタ）アクリレートを６０モル％以上含み、かつヨウ素価５〜３０のエネルギー線硬化性炭素−炭素二重結合を有する重合体（Ａ）を有するものが好ましく例示される。なお、ここで、エネルギー線とは、紫外線のような光線、または電子線などの電離性放射線をいう。

このような重合体（Ａ）において、エネルギー線硬化性炭素−炭素二重結合の好ましい導入量はヨウ素価で５〜３０、より好ましくは１０〜２０である。これは、重合体（Ａ）そのものに安定性があり、製造が容易となるためである。また、ヨウ素価が５未満の場合には、エネルギー線照射後の粘着力の低減効果が十分に得られない場合があり、ヨウ素価が３０より大きい場合には、エネルギー線照射後の粘着剤の流動性が不十分となり、ウエハ加工用テープ１０の拡張後におけるチップの間隙を十分得ることができなくなり、ピックアップ時に各チップの画像認識が困難になる場合がある。

さらに、重合体（Ａ）は、ガラス転移温度が−７０℃〜１５℃であることが好ましく、−６６℃〜−２８℃であることがより好ましい。ガラス転移温度が−７０℃以上であれば、エネルギー線照射に伴う熱に対する耐熱性が十分であり、１５℃以下であれば、表面状態が粗いウエハにおけるダイシング後のチップの飛散防止効果が十分得られる。

前記の重合体（Ａ）はどのようにして製造されたものでもよいが、例えば、アクリル系共重合体とエネルギー線硬化性炭素−炭素二重結合をもつ化合物とを混合して得られるものや、官能基を有するアクリル系共重合体または官能基を有するメタクリル系共重合体（Ａ１）と、その官能基と反応し得る官能基を有し、かつ、エネルギー線硬化性炭素−炭素二重結合をもつ化合物（Ａ２）とを反応させて得られるものが用いられる。

このうち、前記の官能基を有するメタクリル系共重合体（Ａ１）としては、アクリル酸アルキルエステルまたはメタクリル酸アルキルエステルなどの炭素−炭素二重結合を有する単量体（Ａ１−１）と、炭素−炭素二重結合を有し、かつ、官能基を有する単量体（Ａ１−２）とを共重合させて得られるものが例示される。単量体（Ａ１−１）としては、炭素数が６〜１２のアルキル鎖を有するヘキシルアクリレート、ｎ−オクチルアクリレート、イソオクチルアクリレート、２−エチルヘキシルアクリレート、ドデシルアクリレート、デシルアクリレート、ラウリルアクリレートまたはアルキル鎖の炭素数が５以下の単量体である、ペンチルアクリレート、ｎ−ブチルアクリレート、イソブチルアクリレート、エチルアクリレート、メチルアクリレート、またはこれらと同様のメタクリレートなどを列挙することができる。

なお、単量体（Ａ１−１）においてアルキル鎖の炭素数が６よりも小さい成分が多いと、粘着剤層と接着剤層の剥離力が大きくなってしまい、ピックアップ工程において、チップ割れなどの不具合が生じることがある。また、炭素数が１２よりも大きい成分が多いと、室温で固体となりやすいため、加工性に乏しく、粘着剤層と接着剤層の十分な接着力が得られず、界面でのずれが生じて、接着剤層の分断において不具合が生じることがある。

さらに、単量体（Ａ１−１）として、アルキル鎖の炭素数が大きな単量体を使用するほどガラス転移温度は低くなるので、適宜選択することにより、所望のガラス転移温度を有する粘着剤組成物を調製することができる。また、ガラス転移温度の他、相溶性等の各種性能を上げる目的で酢酸ビニル、スチレン、アクリロニトリルなどの炭素−炭素二重結合をもつ低分子化合物を配合することも可能である。その場合、これらの低分子化合物は、単量体（Ａ１−１）の総質量の５質量％以下の範囲内で配合するものとする。

一方、単量体（Ａ１−２）が有する官能基としては、カルボキシル基、水酸基、アミノ基、環状酸無水基、エポキシ基、イソシアネート基などを挙げることができ、単量体（Ａ１−２）の具体例としては、アクリル酸、メタクリル酸、ケイ皮酸、イタコン酸、フマル酸、フタル酸、２−ヒドロキシアルキルアクリレート類、２−ヒドロキシアルキルメタクリレート類、グリコールモノアクリレート類、グリコールモノメタクリレート類、Ｎ−メチロールアクリルアミド、Ｎ−メチロールメタクリルアミド、アリルアルコール、Ｎ−アルキルアミノエチルアクリレート類、Ｎ−アルキルアミノエチルメタクリレート類、アクリルアミド類、メタクリルアミド類、無水マレイン酸、無水イタコン酸、無水フマル酸、無水フタル酸、グリシジルアクリレート、グリシジルメタクリレート、アリルグリシジルエーテルなどを列挙することができる。

さらに、化合物（Ａ２）において、用いられる官能基としては、化合物（Ａ１）の有する官能基が、カルボキシル基または環状酸無水基である場合には、水酸基、エポキシ基、イソシアネート基などを挙げることができ、水酸基である場合には、環状酸無水基、イソシアネート基などを挙げることができ、アミノ基である場合には、エポキシ基、イソシアネート基などを挙げることができ、エポキシ基である場合には、カルボキシル基、環状酸無水基、アミノ基などを挙げることができ、具体例としては、単量体（Ａ１−２）の具体例で列挙したものと同様のものを列挙することができる。また、化合物（Ａ２）として、ポリイソシアネート化合物のイソシアネート基の一部を水酸基またはカルボキシル基およびエネルギー線硬化性炭素−炭素二重結合を有する単量体でウレタン化したものを用いることもできる。

なお、化合物（Ａ１）と化合物（Ａ２）の反応において、未反応の官能基を残すことにより、酸価または水酸基価などの特性に関して、所望のものを製造することができる。重合体（Ａ）の水酸基価が５〜１００となるようにＯＨ基を残すと、エネルギー線照射後の粘着力を減少することによりピックアップミスの危険性をさらに低減することができる。また、重合体（Ａ）の酸価が０．５〜３０となるようにＣＯＯＨ基を残すと、本発明のウエハ加工用テープを拡張させた後の粘着剤層の復元後の改善効果が得られ、好ましい。ここで、重合体（Ａ）の水酸基価が低すぎると、エネルギー線照射後の粘着力の低減効果が十分でなく、高すぎると、エネルギー線照射後の粘着剤の流動性を損なう傾向がある。また酸価が低すぎると、テープ復元性の改善効果が十分でなく、高すぎると粘着剤の流動性を損なう傾向がある。

上記の重合体（Ａ）の合成において、反応を溶液重合で行う場合の有機溶剤としては、ケトン系、エステル系、アルコール系、芳香族系のものを使用することができるが、中でもトルエン、酢酸エチル、イソプロピルアルコール、ベンゼンメチルセロソルブ、エチルセロソルブ、アセトン、メチルエチルケトンなどの、一般にアクリル系ポリマーの良溶媒で、沸点６０〜１２０℃の溶剤が好ましく、重合開始剤としては、α，α′−アゾビスイソブチルニトリルなどのアゾビス系、ベンゾイルペルオキシドなどの有機過酸化物系などのラジカル発生剤を通常用いる。この際、必要に応じて触媒、重合禁止剤を併用することができ、重合温度および重合時間を調節することにより、所望の分子量の重合体（Ａ）を得ることができる。また、分子量を調節することに関しては、メルカプタン、四塩化炭素系の溶剤を用いることが好ましい。なお、この反応は溶液重合に限定されるものではなく、塊状重合、懸濁重合など別の方法でもさしつかえない。

以上のようにして、重合体（Ａ）を得ることができるが、本発明において、重合体（Ａ）の分子量は、５０万〜１００万程度が好ましい。５０万未満では、凝集力が小さくなって、エキスパンドの際に接着剤層との界面でのずれが生じやすくなり、接着剤層に十分な引張力が伝搬されず、接着剤層の分割が不十分となることがある。このずれを、極力防止するためには、分子量が、５０万以上である方が好ましい。また、分子量が１００万を越えると、合成時および塗工時にゲル化する可能性がある。なお、本発明における分子量とは、ポリスチレン換算の質量平均分子量である。

また、本発明のウエハ加工用テープ１０において、粘着剤層１２を構成する樹脂組成物は、重合体（Ａ）に加えて、さらに、架橋剤として作用する化合物（Ｂ）を有していてもよい。具体的には、ポリイソシアネート類、メラミン・ホルムアルデヒド樹脂、およびエポキシ樹脂から選択される少なくとも１種の化合物である。これらは、単独または２種類以上を組み合わせて使用することができる。この化合物（Ｂ）は、重合体（Ａ）または基材フィルムと反応し、その結果できる架橋構造により、粘着剤組成物塗工後に重合体（Ａ）および（Ｂ）を主成分とした粘着剤の凝集力を向上することができる。

ポリイソシアネート類としては、特に制限がなく、例えば、４，４′−ジフェニルメタンジイソシアネート、トリレンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート、４，４′−ジフェニルエーテルジイソシアネート、４，４′−〔２，２−ビス（４−フェノキシフェニル）プロパン〕ジイソシアネート等の芳香族イソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、２，２，４−トリメチル−ヘキサメチレンジイソシアネート、イソフォロンジイソシアネート、４，４′−ジシクロヘキシルメタンジイソシアネート、２，４′−ジシクロヘキシルメタンジイソシアネート、リジンジイソシアネート、リジントリイソシアネート等を挙げることができ、具体的には、コロネートＬ（日本ポリウレタン株式会社製、商品名）等を用いることができる。メラミン・ホルムアルデヒド樹脂としては、具体的には、ニカラックＭＸ−４５（三和ケミカル株式会社製、商品名）、メラン（日立化成工業株式会社製、商品名）等を用いることができる。エポキシ樹脂としては、ＴＥＴＲＡＤ−Ｘ（三菱化学株式会社製、商品名）等を用いることができる。本発明においては、特にポリイソシアネート類を用いることが好ましい。

化合物（Ｂ）の添加量としては、重合体（Ａ）１００質量部に対して０．１〜１０質量部、好ましくは０．５〜５質量部の配合比となるよう、選択する。この範囲内で選択することにより、適切な凝集力とすることができ、急激に架橋反応が進行することないため、粘着剤の配合や塗布等の作業性が良好となる。

また、本発明において、粘着剤層１２には、光重合開始剤（Ｃ）が含まれていることが好ましい。粘着剤層１２に含まれる光重合開始剤（Ｃ）に特に制限はなく、従来知られているものを用いることができる。例えば、ベンゾフェノン、４，４'−ジメチルアミノベンゾフェノン、４，４'−ジエチルアミノベンゾフェノン、４，４'−ジクロロベンゾフェノン等のベンゾフェノン類、アセトフェノン、ジエトキシアセトフェノン等のアセトフェノン類、２−エチルアントラキノン、ｔ−ブチルアントラキノン等のアントラキノン類、２−クロロチオキサントン、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンジル、２，４，５−トリアリ−ルイミダゾール二量体（ロフィン二量体）、アクリジン系化合物等を挙げることができ、これらは単独でまたは２種以上を組み合わせて用いることができる。光重合開始剤（Ｃ）の添加量としては、重合体（Ａ）１００質量部に対して０．１〜１０質量部とすることが好ましく、０．５〜５質量部とすることがより好ましい。

さらに本発明に用いられるエネルギー線硬化性の粘着剤には必要に応じて粘着付与剤、粘着調製剤、界面活性剤など、あるいはその他の改質剤等を配合することができる。また、無機化合物フィラーを適宜加えてもよい。

粘着剤層１２の厚さはとくに限定されないが、少なくとも５μｍ、より好ましくは１０μｍ以上とする。なお、粘着剤層１２は複数の層が積層された構成であってもよい。

＜接着剤層＞
本発明のウエハ加工用テープでは、接着剤層１３は、ウエハが貼合され、ダイシングされた後、チップをピックアップした際に、粘着剤層１２から剥離してチップに付着するものである。そして、チップを基板やリードフレームに固定する際の接着剤として使用されるものである。接着剤層１３は、特に限定されるものではないが、ウエハに一般的に使用されるフィルム状接着剤であれば良く、アクリル系粘接着剤、エポキシ樹脂／フェノール樹脂／アクリル樹脂のブレンド系粘接着剤等が好ましい。その厚さは適宜設定してよいが、５〜１００μｍ程度が好ましい。

本発明のウエハ加工用テープ１０において、接着剤層１３は、予めフィルム化されたもの（以下、接着フィルムという）を、基材フィルム１１上に直接または間接的にラミネートして形成してもよい。ラミネート時の温度は１０〜１００℃の範囲とし、０．０１〜１０Ｎ／ｍの線圧をかけることが好ましい。なお、このような接着フィルムは、セパレータ上に接着剤層１３が形成されたものであってもよく、その場合、ラミネート後にセパレータを剥離してもよく、あるいは、そのままウエハ加工用テープ１０のカバーフィルムとして使用し、ウエハを貼合する際に剥離してもよい。

前記接着フィルムは、粘着剤層１２の全面に積層してもよいが、予め貼合されるウエハに応じた形状に切断された（プリカットされた）接着フィルムを粘着剤層１２に積層してもよい。このように、ウエハに応じた接着フィルムを積層した場合、図３に示すように、ウエハＷが貼合される部分には接着剤層１３があり、リングフレーム２０が貼合される部分には接着剤層１３がなく粘着剤層１２のみが存在する。一般に、接着剤層１３は被着体と剥離しにくいため、プリカットされた接着フィルムを使用することで、リングフレーム２０は粘着剤層１２と貼合することができ、使用後のテープ剥離時にリングフレーム２０への糊残りを生じにくいという効果が得られる。

＜用途＞
本発明のウエハ加工用テープ１０は、少なくとも拡張により接着剤層１３を分断するエキスパンド工程を含む半導体装置の製造方法に使用されるものである。したがって、その他の工程や工程の順序などは特に限定されない。例えば、以下の半導体装置の製造方法（Ａ）〜（Ｄ）において好適に使用できる。

半導体装置の製造方法（Ａ）
（ａ）回路パターンが形成されたウエハ表面に表面保護テープを貼合する工程と、
（ｂ）前記ウエハ裏面を研削するバックグラインド工程と、
（ｃ）前記ウエハを７０〜８０℃に加熱した状態で、前記ウエハ裏面に前記ウエハ加工用テープの接着剤層を貼合する工程と、
（ｄ）前記ウエハ表面から前記表面保護テープを剥離する工程と、
（ｅ）前記ウエハの分割予定部分にレーザー光を照射し、前記ウエハ内部に多光子吸収による改質領域を形成する工程と、
（ｆ）前記ウエハ加工用テープを拡張することにより、前記ウエハと前記ウエハ加工用テープの前記接着剤層とを分断ラインに沿って分断し、前記接着剤層が付いた複数のチップを得るエキスパンド工程と、
（ｇ）拡張後の前記ウエハ加工用テープにおいて、前記チップと重ならない部分を加熱収縮させることにより、前記エキスパンド工程において生じた弛みを除去し、前記チップの間隔を保持する工程と、
（ｈ）前記接着剤層が付いた前記チップを、前記ウエハ加工用テープの粘着剤層からピックアップする工程と、
を含む半導体装置の製造方法。

半導体装置の製造方法（Ｂ）
（ａ）回路パターンが形成されたウエハ表面に表面保護テープを貼合する工程と、
（ｂ）前記ウエハ裏面を研削するバックグラインド工程と、
（ｃ）前記ウエハを７０〜８０℃に加熱した状態で、前記ウエハ裏面に前記ウエハ加工用テープの接着剤層を貼合する工程と、
（ｄ）前記ウエハ表面から前記表面保護テープを剥離する工程と、
（ｅ）前記ウエハ表面の分断ラインに沿ってレーザー光を照射し、前記ウエハをチップに分断する工程と、
（ｆ）前記ウエハ加工用テープを拡張することにより、前記接着剤層を前記チップ毎に分断し、前記接着剤層が付いた複数のチップを得るエキスパンド工程と、
（ｇ）拡張後の前記ウエハ加工用テープにおいて、前記チップと重ならない部分を加熱収縮させることにより、前記エキスパンド工程において生じた弛みを除去し、前記チップの間隔を保持する工程と、
（ｈ）前記接着剤層が付いた前記チップを、前記ウエハ加工用テープの粘着剤層からピックアップする工程と、
を含む半導体装置の製造方法。

半導体装置の製造方法（Ｃ）
（ａ）回路パターンが形成されたウエハ表面に表面保護テープを貼合する工程と、
（ｂ）前記ウエハ裏面を研削するバックグラインド工程と、
（ｃ）前記ウエハを７０〜８０℃に加熱した状態で、前記ウエハ裏面に前記ウエハ加工用テープの接着剤層を貼合する工程と、
（ｄ）前記ウエハ表面から前記表面保護テープを剥離する工程と、
（ｅ）ダイシングブレードを用いて前記ウエハを分断ラインに沿って切削し、チップに分断する工程と、
（ｆ）前記ウエハ加工用テープを拡張することにより、前記接着剤層を前記チップ毎に分断し、前記接着剤層が付いた複数のチップを得るエキスパンド工程と、
（ｇ）拡張後の前記ウエハ加工用テープにおいて、前記チップと重ならない部分を加熱収縮させることにより、前記エキスパンド工程において生じた弛みを除去し、前記チップの間隔を保持する工程と、
（ｈ）前記接着剤層が付いた前記チップを、前記ウエハ加工用テープの粘着剤層からピックアップする工程と、
を含む半導体装置の製造方法。

半導体装置の製造方法（Ｄ）
（ａ）回路パタ−ンが形成されたウエハを、ダイシングブレードを用いて分断予定ラインに沿って前記ウエハの厚さ未満の深さまで切削する工程と、
（ｂ）前記ウエハ表面に表面保護テープを貼合する工程と、
（ｃ）前記ウエハ裏面を研削してチップに分断するバックグラインド工程と、
（ｄ）前記ウエハを７０〜８０℃に加熱した状態で、前記チップに分断された前記ウエハ裏面に前記ウエハ加工用テープの接着剤層を貼合する工程と、
（ｅ）前記チップに分断された前記ウエハ表面から表面保護テープを剥離する工程と、
（ｆ）前記ウエハ加工用テープを拡張することにより、前記接着剤層を前記チップ毎に分断し、前記接着剤層が付いた複数のチップを得るエキスパンド工程と、
（ｇ）拡張後の前記ウエハ加工用テープにおいて、前記チップと重ならない部分を加熱収縮させることで前記エキスパンド工程において生じた弛みを除去し、前記チップの間隔を保持する工程と、
（ｈ）接着剤層が付いた前記チップを、前記ウエハ加工用テープの粘着剤層からピックアップする工程と、
を含む半導体装置の製造方法。

＜使用方法＞
本発明のウエハ加工用テープ１０を、上記半導体装置の製造方法（Ａ）に適用した場合の、テープの使用方法について、図２〜図５を参照しながら説明する。まず、図２に示すように、回路パターンが形成されたウエハＷの表面に、紫外線硬化性成分を粘着剤に含む、回路パターン保護用の表面保護テープ１４を貼合し、ウエハＷの裏面を研削するバックグラインド工程を実施する。

バックグラインド工程の終了後、図３に示すように、ウエハマウンターのヒーターテーブル２５上に、表面側を下にしてウエハＷを載置した後、ウエハＷの裏面にウエハ加工用テープ１０を貼合する。ここで使用するウエハ加工用テープ１０は、貼合するウエハＷに応じた形状に予め切断（プリカット）された接着フィルムを積層したものであり、ウエハＷと貼合する面においては、接着剤層１３が露出した領域の周囲に粘着剤層１２が露出している。このウエハ加工用テープ１０の接着剤層１３が露出した部分とウエハＷの裏面を貼り合わせるとともに、接着剤層１３の周囲の粘着剤層１２が露出した部分とリングフレーム２０を貼り合わせる。このとき、ヒーターテーブル２５は７０〜８０℃に設定されており、これにより加熱貼合が実施される。

次に、ウエハ加工用テープ１０が貼合されたウエハＷをヒーターテーブル２５上から搬出し、図４に示すように、ウエハ加工用テープ１０側を下にして吸着テーブル２６上へ載置する。そして、吸着テーブル２６に吸着固定されたウエハＷの上方から、エネルギー線光源２７を用いて、例えば１０００ｍＪ／ｃｍ^２の紫外線を表面保護テープ１４の基材面側に照射し、表面保護テープ１４のウエハＷに対する接着力を低下させ、ウエハＷ表面から表面保護テープ１４を剥離する。

次に、図５に示すように、ウエハＷの分割予定部分にレーザー光を照射して、ウエハＷの内部に多光子吸収による改質領域を３２形成する。

次に、図６（ａ）に示すように、ウエハＷおよびリングフレーム２０が貼り合わされたウエハ加工用テープ１０を、基材フィルム１１側を下にして、エキスパンド装置のステージ２１上に載置する。

次に、図６（ｂ）に示すように、リングフレーム２０を固定した状態で、エキスパンド装置の中空円柱形状の突き上げ部材２２を上昇させ、ウエハ加工用テープ１０を拡張（エキスパンド）する。拡張条件としては、エキスパンド速度が、例えば５〜５００ｍｍ／ｓｅｃであり、エキスパンド量（突き上げ量）が、例えば５〜２５ｍｍである。このようにウエハ加工用テープ１０がウエハＷの径方向に引き伸ばされることで、ウエハＷが、前記改質領域３２を起点としてチップ３４単位に分断される。このとき、接着剤層１３は、ウエハＷの裏面に接着している部分では拡張による伸び（変形）が抑制されて破断は起こらないが、チップ３４間の位置では、テープの拡張による張力が集中して破断する。したがって、図６（ｃ）に示すように、ウエハＷとともに接着剤層１３も分断されることになる。これにより、接着剤層１３が付いた複数のチップ３４を得ることができる。

次に、図７に示すように、突き上げ部材２２を元の位置に戻し、先のエキスパンド工程において発生したウエハ加工用テープ１０の弛みを除去して、チップ３４の間隔を安定に保持するための工程を行う。この工程では、例えば、ウエハ加工用テープ１０におけるチップ３４が存在する領域と、リングフレーム２０との間の円環状の加熱収縮領域２８に、温風ノズル２９を用いて９０〜１２０℃の温風を当てて基材フィルム１１を加熱収縮させ、ウエハ加工用テープ１０を緊張させる。その後、粘着剤層１２にエネルギー線硬化処理または熱硬化処理等を施し、粘着剤層１２の接着剤層１３に対する粘着力を弱めた後、チップ３４をピックアップする。

次に、本発明の効果をさらに明確にするために、実施例および比較例について詳細に説明するが、本発明はこれら実施例に限定されるものではない。

〔ウエハ加工用テープの作製〕
（１）基材フィルムの作製
ラジカル重合法によって合成されたエチレン−メタアクリル酸−メタアクリル酸エチル（質量比８：１：１）３元共重合体の亜鉛アイオノマー（密度０．９６ｇ／ｃｍ^３、亜鉛イオン含有量４質量％、塩素含有量１質量％未満、ビカット軟化点５６℃、融点８６℃）の樹脂ビーズを１４０℃で溶融し、押出機を用いて厚さ１００μｍの長尺フィルム状に成形して基材フィルムを作製した。

（２）アクリル系共重合体の調製
（ａ−１）
官能基を有するアクリル系共重合体（Ａ１）として、２−エチルヘキシルアクリレート、２−ヒドロキシエチルアクリレートおよびアクリル酸からなり、２−エチルヘキシルアクリレートの比率が６０モル％、質量平均分子量８０万の共重合体を調製した。次に、ヨウ素価が２０となるように、２−イソシアナトエチルメタクリレートを添加して、ガラス転移温度−６０℃、水酸基価６０ｍｇＫＯＨ／ｇ、酸価５ｍｇＫＯＨ／ｇのアクリル系共重合体（ａ−１）を調製した。

（ａ−２）
官能基を有するアクリル系共重合体（Ａ１）として、２−エチルヘキシルアクリレート、２−ヒドロキシエチルアクリレートおよびアクリル酸からなり、２−エチルヘキシルアクリレートの比率が８０モル％、質量平均分子量７０万の共重合体を調製した。次に、ヨウ素価が１５となるように、２−イソシアナトエチルメタクリレートを添加して、ガラス転移温度−７０℃、水酸基価２０ｍｇＫＯＨ／ｇ、酸価５ｍｇＫＯＨ／ｇのアクリル系共重合体（ａ−２）を調製した。

（ａ−３）
官能基を有するアクリル系共重合体（Ａ１）として、ドデシルアクリレート、２−ヒドロキシエチルアクリレートおよびアクリル酸からなり、ドデシルアクリレートの比率が６０モル％、質量平均分子量８０万の共重合体を調製した。次に、ヨウ素価が２０となるように、２−イソシアナトエチルメタクリレートを添加して、ガラス転移温度−５℃、水酸基価６０ｍｇＫＯＨ／ｇ、酸価５ｍｇＫＯＨ／ｇのアクリル系共重合体（ａ−３）を調製した。

（ａ−４）
官能基を有するアクリル系共重合体（Ａ１）として、ラウリルアクリレート、２−ヒドロキシエチルアクリレートおよびアクリル酸からなり、ラウリルアクリレートの比率が６０モル％、質量平均分子量８０万の共重合体を調製した。次に、ヨウ素価が２０となるように、２−イソシアナトエチルメタクリレートを添加して、ガラス転移温度５℃、水酸基価６０ｍｇＫＯＨ／ｇ、酸価５ｍｇＫＯＨ／ｇのアクリル系共重合体（ａ−４）を調製した。

（ａ−５）
官能基を有するアクリル系共重合体（Ａ１）として、ラウリルアクリレート、２−ヒドロキシエチルアクリレートおよびアクリル酸からなり、ラウリルアクリレートの比率が８０モル％、質量平均分子量７５万の共重合体を調製した。次に、ヨウ素価が１５となるように、２−イソシアナトエチルメタクリレートを添加して、ガラス転移温度１０℃、水酸基価２０ｍｇＫＯＨ／ｇ、酸価５ｍｇＫＯＨ／ｇのアクリル系共重合体化合物（ａ−５）を調製した。

（ａ−６）
官能基を有するアクリル系共重合体（Ａ１）として、２−エチルヘキシルアクリレート、ラウリルアクリレート、２−ヒドロキシエチルアクリレートおよびアクリル酸からなり、２−エチルヘキシルアクリレートとラウリルアクリレートを合わせた比率が６０モル％、質量平均分子量８０万の共重合体を調製した。次に、ヨウ素価が２０となるように、２−イソシアナトエチルメタクリレートを添加して、ガラス転移温度−３０℃、水酸基価５０ｍｇＫＯＨ／ｇ、酸価５ｍｇＫＯＨ／ｇのアクリル系共重合体化合物（ａ−６）を作製した。

（ａ−７）
官能基を有するアクリル系共重合体（Ａ１）として、２−エチルヘキシルアクリレート、ラウリルアクリレート、２−ヒドロキシエチルアクリレートおよびアクリル酸からなり、２−エチルヘキシルアクリレートとラウリルアクリレートを合わせた比率が８０モル％、質量平均分子量７０万の共重合体を調製した。次に、ヨウ素価が２０となるように、２−イソシアナトエチルメタクリレートを添加して、ガラス転移温度−１０℃、水酸基価２０ｍｇＫＯＨ／ｇ、酸価５ｍｇＫＯＨ／ｇのアクリル系共重合体化合物（ａ−７）を作製した。

（ａ−８）
官能基を有するアクリル系共重合体（Ａ１）として、２−エチルヘキシルアクリレート、２−ヒドロキシエチルアクリレートおよびアクリル酸からなり、２−エチルヘキシルアクリレートの比率が５５モル％、質量平均分子量８０万の共重合体を調製した。次に、ヨウ素価が２０となるように、２−イソシアナトエチルメタクリレートを添加して、ガラス転移温度−５５℃、水酸基価８０ｍｇＫＯＨ／ｇ、酸価５ｍｇＫＯＨ／ｇのアクリル系共重合体化合物（ａ−８）を作製した。

（ａ−９）
官能基を有するアクリル系共重合体（Ａ１）として、ブチルアクリレート、２−ヒドロキシエチルアクリレートおよびアクリル酸からなり、ブチルアクリレートの比率が６０モル％、質量平均分子量８０万の共重合体を調製した。次に、ヨウ素価が２０となるように、２−イソシアナトエチルメタクリレートを添加して、ガラス転移温度−４０℃、水酸基価６０ｍｇＫＯＨ／ｇ、酸価５ｍｇＫＯＨ／ｇのアクリル系共重合体化合物（ａ−９）を作製した。

（３）接着剤組成物の調製
（ｄ−１）
エポキシ樹脂「ＹＤＣＮ−７０３」（東都化成株式会社製、商品名、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、エポキシ当量２１０）３６質量部と、エポキシ樹脂の硬化剤としてのフェノール樹脂「ミレックスＸＬＣ−ＬＬ」（三井化学株式会社製、商品名、フェノール樹脂）３０．１質量部と、シランカップリング剤である「Ａ−１１６０」（日本ユニカー株式会社製、商品名）２．１質量部、および、「Ａ−１８９」（日本ユニカー株式会社製、商品名）１．１質量部と、シリカフィラー（粒子）である「アエロジルＲ９７２」（日本アエロジル株式会社製、商品名、平均粒径：０．０１６μｍ、比表面積１２０ｍ^２／ｇ）２１．２質量部とからなる組成物に、シクロヘキサノンを加え、攪拌混合してからビーズミルを用いてさらに９０分混練した。

これにグリシジルアクリレートまたはグリシジルメタクリレートに由来するモノマー単位を、３質量％含むアクリルゴム（高分子量成分）である「ＨＴＲ−８６０Ｐ−３」（ナガセケムテックス株式会社製、商品名、質量平均分子量８０万）２００質量部、および硬化促進剤としての「キュアゾール２ＰＺ−ＣＮ」（四国化成工業株式会社製、商品名、１−シアノエチル−２−フェニルイミダゾール）０．０７５質量部を加え、攪拌混合して、接着剤組成物（ｄ−１）を得た。

（ｄ−２）
エポキシ樹脂「ＹＤＣＮ−７０３」（東都化成株式会社製、商品名、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、エポキシ当量２１０）５０質量部と、エポキシ樹脂の硬化剤としてのフェノール樹脂「ミレックスＸＬＣ−ＬＬ」（三井化学株式会社製、商品名、フェノール樹脂）３０．１質量部と、シランカップリング剤である「Ａ−１１６０」（日本ユニカー株式会社製、商品名）４．３質量部、および、「Ａ−１８９」（日本ユニカー株式会社製、商品名）１．１質量部と、シリカフィラー（粒子）である「アエロジルＲ９７２」（日本アエロジル株式会社製、商品名、平均粒径：０．０１６μｍ、比表面積１２０ｍ^２／ｇ）５０質量部とからなる組成物に、シクロヘキサノンを加え、攪拌混合してからビーズミルを用いてさらに９０分混練した。

これにグリシジルアクリレートまたはグリシジルメタクリレートに由来するモノマー単位を、３質量％含むアクリルゴム（高分子量成分）である「ＨＴＲ−８６０Ｐ−３」（ナガセケムテックス株式会社製、商品名、質量平均分子量８０万）２００質量部、および硬化促進剤としての「キュアゾール２ＰＺ−ＣＮ」（四国化成工業株式会社製、商品名、１−シアノエチル−２−フェニルイミダゾール）０．０１質量部を加え、攪拌混合して、接着剤組成物のワニスを得た。

＜実施例１＞
アクリル系共重合体（ａ−１）１００質量部に対して、ポリイソシアネートとしてコロネートＬ（日本ポリウレタン製）を５質量部加え、光重合開始剤としてイルガキュアー１８４（日本チバガイギー社製）を３質量部加えた混合物を、酢酸エチルに溶解させ、攪拌して粘着剤組成物を調製した。
次に、離型処理したポリエチレン−テレフタレートフィルムよりなる剥離ライナーに、この粘着剤組成物を、乾燥後の厚さが１０μｍになるように塗工し、１１０℃で３分間乾燥させた後、基材フィルムと貼り合わせ、基材フィルム上に粘着剤層が形成された粘着シートを作製した。

次に、離型処理したポリエチレン−テレフタレートフィルムよりなる剥離ライナーに、接着剤組成物（ｄ−１）を、乾燥後の厚さが２０μｍになるように塗工し、１１０℃で５分間乾燥させて、剥離ライナー上に接着剤層が形成された接着フィルムを作製した。

粘着シートをリングフレームに対して開口部を覆うように貼り合わせることができるような図３等に示した形状に裁断した。また、接着フィルムを、ウエハ裏面を覆うことのできるような図３等に示した形状に裁断した。そして、前記粘着シートの粘着剤層側と前記接着フィルムの接着剤層側とを、図３等に示したように接着フィルムの周囲に粘着剤層１２が露出する部分が形成されるように貼り合わせ、ウエハ加工用テープを作製した。

＜実施例２＞
アクリル系共重合体（ａ−２）を使用した以外は、実施例１と同様にして粘着剤組成物を調製した。この粘着剤組成物を使用して、実施例１と同様の手法により、ウエハ加工用テープを作製した。

＜実施例３＞
アクリル系共重合体（ａ−３）を使用した以外は、実施例１と同様にして粘着剤組成物を調製した。この粘着剤組成物を使用して、実施例１と同様の手法により、ウエハ加工用テープを作製した。

＜実施例４＞
アクリル系共重合体（ａ−４）を使用した以外は、実施例１と同様にして粘着剤組成物を調製した。この粘着剤組成物を使用して、実施例１と同様の手法により、ウエハ加工用テープを作製した。

＜実施例５＞
アクリル系共重合体（ａ−５）を使用した以外は、実施例１と同様にして粘着剤組成物を調製した。この粘着剤組成物を使用して、実施例１と同様の手法により、ウエハ加工用テープを作製した。

＜実施例６＞
アクリル系共重合体（ａ−６）を使用した以外は、実施例１と同様にして粘着剤組成物を調製した。この粘着剤組成物を使用して、実施例１と同様の手法により、ウエハ加工用テープを作製した。

＜実施例７＞
アクリル系共重合体（ａ−７）を使用した以外は、実施例１と同様にして粘着剤組成物を調製した。この粘着剤組成物を使用して、実施例１と同様の手法により、ウエハ加工用テープを作製した。

＜実施例８＞
接着剤組成物（ｄ−２）を使用した以外は、実施例１と同様の手法により、ウエハ加工用テープを作製した。

＜実施例９＞
接着剤組成物（ｄ−２）を使用した以外は、実施例４と同様の手法により、ウエハ加工用テープを作製した。

＜比較例１＞
ポリイソシアネートの配合量を１質量部とした以外は、実施例１と同様にして粘着剤組成物を調製した。この粘着剤組成物を使用して、実施例１と同様の手法により、ウエハ加工用テープを作製した。

＜比較例２＞
アクリル系共重合体（ａ−８）を使用し、ポリイソシアネートの配合量を２質量部とした以外は、実施例１と同様にして粘着剤組成物を調製した。この粘着剤組成物を使用して、実施例１と同様の手法により、ウエハ加工用テープを作製した。

＜比較例３＞
アクリル系共重合体（ａ−９）を使用した以外は、実施例１と同様にして粘着剤組成物を調製した。この粘着剤組成物を使用して、実施例１と同様の手法により、ウエハ加工用テープを作製した。

〔ウエハ加工用テープの物性と評価〕
（１）ゲル分率の測定
粘着剤層約０．０５ｇを秤取し、キシレン５０ｍＬに１２０℃で２４時間浸漬した後、２００メッシュのステンレス製金網で濾過し、金網上の不溶解分を１１０℃にて１２０分間乾燥した。次に、乾燥した不溶解分の質量を秤量し、下記に示す式にてゲル分率を算出した。
ゲル分率（％）＝（不溶解分の質量／秤取した粘着剤層の質量）×１００
得られた測定結果を表１に示した。

（２）せん断力の測定
図８に示すように、紫外線照射前の各ウエハ加工用テープの粘着剤面と接着剤面の貼合面積を１０ｍｍ×１０ｍｍとし、補助テープ１５として積水化学社製オリエンスパットテープＮｏ．８３０Ｓをウエハ加工用テープの基材面側と接着剤層の粘着剤貼合面と反対の面にそれぞれ貼合した。その後、図９に示すように、貼合されていない部分を剥離測定用固定部材３０で固定し、０°剥離、剥離速度５００ｍｍ／ｍｉｎでせん断力を測定した。なお、ここで使用した補助テープ単体の引張り応力は測定値と比較して非常に大きいため無視できるものとする。

（３）剥離力の測定
各サンプルに紫外線を照射し、紫外線照射前後の粘着力をＪＩＳ−Ｚ０２３７に基づき測定した。図１０に示すように、補助テープ１５をウエハ加工用テープの接着剤層１３に貼合し、接着剤層１３側を、固定用両面テープ３８を介して支持板３６に取り付け、一方の剥離測定用固定部材３０で支持板３６を把持し、他方の剥離測定用固定部材３０で粘着剤層１２と基材フィルム１１を把持し、粘着剤層１２と接着剤層１３との間の剥離力の測定を行った。測定は標準状態（温度２３℃、相対湿度５０％）における剥離速度３００ｍｍ／ｍｉｎ、剥離角度１８０°とした。紫外線ランプとしては、高圧水銀灯（３６５ｎｍ、３０ｍＷ／ｃｍ^２，照射距離１０ｃｍ）を使用し、照射強度を２００ｍＪ／ｃｍ^２とした。測定結果を表１に示した。

（４）分断率の測定
以下に示す方法により、前記実施例および前記比較例の各ウエハ加工用テープについて、前記の半導体装置の製造方法（Ａ）に相当する下記の半導体加工工程における適合性試験を実施した。

（ａ）回路パターンが形成されたウエハ表面に表面保護テープを貼合した。
（ｂ）前記ウエハ裏面を研削するバックグラインド工程を行った。
（ｃ）ウエハを７０℃に加熱した状態で、前記ウエハの裏面に前記ウエハ加工用テープの接着剤層を貼合し、同時にウエハ加工用リングフレームを、前記ウエハ加工用テープの粘着剤層が接着剤層と重ならずに露出した部分と貼合した。
（ｄ）前記ウエハ表面から表面保護テープを剥離した。
（ｅ）前記ウエハの分割予定部分にレーザー光を照射して、該ウエハの内部に多光子吸収による改質領域を形成した。
（ｆ）前記ウエハ加工用テープを１０％エキスパンドすることにより、前記ウエハと前記接着剤層とを分断ラインに沿って分断し、前記接着剤層が付いた複数のチップを得た。
（ｇ）前記ウエハ加工用テープの前記チップと重ならない部分（チップが存在する領域とリングフレームとの間の円環状の領域）を１２０℃に加熱、収縮させることで（ｆ）のエキスパンド工程において生じた弛みを除去し、該チップの間隔を保持した。
（ｈ）接着剤層が付いた前記チップをウエハ加工用テープの粘着剤層からピックアップした。

なお、（ｆ）工程では、株式会社ディスコ社製ＤＤＳ−２３００で、ウエハ加工用テープに貼合されたダイシング用リングフレームを、株式会社ディスコ社製ＤＤＳ−２３００のエキスパンドリングにより押し下げ、ウエハ加工用テープのウエハ貼合部位外周の、ウエハに重ならない部分を円形の突き上げ部材に押し付けることでエキスパンドを実施した。また、（ｆ）および（ｇ）工程の条件としては、エキスパンド速度３００ｍｍ／ｓｅｃ、エキスパンド量（突き上げ量）２０ｍｍとした。ここで、エキスパンド量とは、押下げ前と押下げ後のリングフレームと突き上げ部材の相対位置の変化量をいう。

実施例１〜９および比較例１〜３のウエハ加工用テープについて、上記の（ｆ）工程における接着剤層の分断率を、（ｇ）工程直後にチップ１００個の分断有無を観察することにより評価した。結果を表１に示した。

（５）ピックアップ性の評価
（ｇ）工程の後（ｈ）工程前に、ウエハ加工用テープの、基材フィルムにおける粘接着剤層が積層された面とは反対側の面に対して、メタルハライド高圧水銀灯により、窒素雰囲気下、３６５ｎｍで３０ｍＷ／ｃｍ^２、２００ｍＪ／ｃｍ^２の条件で紫外線を照射した。そして、（ｈ）工程にてダイシングされたチップ１００個についてダイスピッカー装置（キヤノンマシナリー社製、商品名ＣＡＰ−３００II）によるピックアップ試験を行い、粘着剤層から剥離した接着剤層が保持されているものをピックアップが成功したものとし、ピックアップ成功率を算出した。結果を表１に示した。表中の○、△、×は、以下を意味する。

「○」・・・突き上げピンによる突き上げ高さ０．５ｍｍ、０．３ｍｍにおけるピックアップ成功率が１００％である。 「△」・・・突き上げ高さ０．５ｍｍにおけるピックアップ成功率が１００％であるが、突き上げ高さ０．３ｍｍにおけるピックアップ成功率が１００％未満である。 「×」・・・突き上げ高さ０．５ｍｍ、０．３ｍｍにおけるピックアップ成功率が１００％未満である。 結果を表１に示した。

表１に示すように、粘着剤層１２と接着剤層１３とのせん断力が０．２Ｎ／ｍｍ^２以上であり、かつ２００ｍＪ／ｃｍ^２のエネルギー線照射後の剥離力が０．３Ｎ/２５ｍｍ以下である実施例１〜１０のウエハ加工用テープは接着剤層の分断率が１００％であり、ピックアップ成功率の評価から、良好なピックアップ性を有することが明らかとなった。これに対して、接着剤層と粘着剤層のせん断力が０．２Ｎ／ｍｍ^２以下の場合は粘着剤層１２と接着剤層１３との界面でずれが生じ、その箇所では接着剤層に十分な引張力が伝搬されず、接着剤層１３が十分に分断できなかった。一方、せん断力が０．２Ｎ／ｍｍ^２以上で分断性に優れたとしても、エネルギー線照射後の剥離力が０．３Ｎ／２５ｍｍ以上であると、ピックアップ成功率が悪くなることが明らかとなった。

なお、前記の半導体装置の製造方法ＢからＤは、エキスパンド工程において、すでに個々のチップに分断されている点を除き、半導体装置の製造方法Ａにおけるエキスパンド工程、ヒートシュリンク工程、ピックアップ工程と同等の工程を行うものである。したがって、実施例１〜１０および比較例１〜３のウエハ加工用テープ１０を用いた場合の結果は、表１に示す結果と同等の結果となることは明らかであり、半導体装置の製造方法ＢからＤにおいても本発明のウエハ加工用テープ１０を用いることは分断性、ピックアップ性の観点において有用である。

１０ ウエハ加工用テープ１１ 基材フィルム１２ 粘着剤層１３ 接着剤層１４ 表面保護テープ１５ 補助テープ２０ リングフレーム２１ ステージ２２ 突き上げ部材２５ ヒーターテーブル２６ 吸着テーブル２７ 紫外線光源２８ 加熱収縮領域２９ 温風ノズル３０ 剥離測定用固定部材３２ 改質領域３４ チップ３６ 支持板３８ 固定用両面テープＷ ウエハ

Claims (10)

1. 基材フィルムと、前記基材フィルム上に形成された粘着剤層と、前記粘着剤層上に形成された接着剤層からなり、
   前記粘着剤層と前記接着剤層の界面の２５℃におけるせん断力が０．２Ｎ／ｍｍ^２以上であり、
   前記粘着剤層と前記接着剤層の２００ｍＪ／ｃｍ^２のエネルギー線照射後のＪＩＳ−Ｚ０２３７に準拠した標準状態における剥離速度３００ｍｍ／ｍｉｎ、剥離角度１８０°での剥離力が０．３Ｎ／２５ｍｍ以下であることを特徴とするウエハ加工用テープ。
2. 前記粘着剤層と前記接着剤層の界面の２５℃におけるせん断力が０．２Ｎ／ｍｍ^２以上０．５Ｎ／ｍｍ^２以下であることを特徴とする請求項１に記載のウエハ加工用テープ。
3. 前記粘着剤層は、ゲル分率が６０％以上である粘着剤組成物から構成されることを特徴とする請求項１または２に記載のウエハ加工用テープ。
4. 前記粘着剤組成物は、ベース樹脂として、炭素数が６〜１２のアルキル鎖を有する（メタ）アクリレートを６０モル％以上含み、かつヨウ素価５〜３０のエネルギー線硬化性炭素−炭素二重結合を有する重合体を含有することを特徴とする請求項３に記載のウエハ加工用テープ。
5. 前記粘着剤組成物は、ポリイソシアネート類、メラミン・ホルムアルデヒド樹脂およびエポキシ樹脂からなる群より選択される少なくとも１種類の化合物を含有することを特徴とする請求項３または４に記載のウエハ加工用テープ。
6. 前記接着剤層の破断伸びが、前記基材フィルムと前記粘着剤層の破断伸びよりも小さいことを特徴とする請求項１〜５のいずれか１項に記載のウエハ加工用テープ。
7. 請求項１〜６のいずれか１項に記載のウエハ加工用テープを使用して半導体装置を製造する方法であって、
   （ａ）回路パターンが形成されたウエハ表面に表面保護テープを貼合する工程と、
   （ｂ）前記ウエハ裏面を研削するバックグラインド工程と、
   （ｃ）前記ウエハを７０〜８０℃に加熱した状態で、前記ウエハ裏面に前記ウエハ加工用テープの接着剤層を貼合する工程と、
   （ｄ）前記ウエハ表面から前記表面保護テープを剥離する工程と、
   （ｅ）前記ウエハの分割予定部分にレーザー光を照射し、前記ウエハ内部に多光子吸収による改質領域を形成する工程と、
   （ｆ）前記ウエハ加工用テープを拡張することにより、前記ウエハと前記ウエハ加工用テープの前記接着剤層とを分割予定部分に沿って分断し、前記接着剤層が付いた複数のチップを得るエキスパンド工程と、
   （ｇ）拡張後の前記ウエハ加工用テープにおいて、前記チップと重ならない部分を加熱収縮させることにより、前記エキスパンド工程において生じた弛みを除去し、前記チップの間隔を保持する工程と、
   （ｈ）前記接着剤層が付いた前記チップを、前記ウエハ加工用テープの粘着剤層からピックアップするピックアップ工程と、
   を含むことを特徴とする半導体装置の製造方法。
8. 請求項１〜６のいずれか１項に記載のウエハ加工用テープを使用して半導体装置を製造する方法であって、
   （ａ）回路パターンが形成されたウエハ表面に表面保護テープを貼合する工程と、
   （ｂ）前記ウエハ裏面を研削するバックグラインド工程と、
   （ｃ）前記ウエハを７０〜８０℃に加熱した状態で、前記ウエハ裏面に前記ウエハ加工用テープの接着剤層を貼合する工程と、
   （ｄ）前記ウエハ表面から前記表面保護テープを剥離する工程と、
   （ｅ）前記ウエハ表面の分断ラインに沿ってレーザー光を照射し、前記ウエハをチップに分断する工程と、
   （ｆ）前記ウエハ加工用テープを拡張することにより、前記接着剤層を前記チップ毎に分断し、前記接着剤層が付いた複数のチップを得るエキスパンド工程と、
   （ｇ）拡張後の前記ウエハ加工用テープにおいて、前記チップと重ならない部分を加熱収縮させることにより、前記エキスパンド工程において生じた弛みを除去し、前記チップの間隔を保持する工程と、
   （ｈ）前記接着剤層が付いた前記チップを、前記ウエハ加工用テープの粘着剤層からピックアップするピックアップ工程と、
   を含むことを特徴とする半導体装置の製造方法。
9. 請求項１〜６のいずれか１項に記載のウエハ加工用テープを使用して半導体装置を製造する方法であって、
   （ａ）回路パターンが形成されたウエハ表面に表面保護テープを貼合する工程と、
   （ｂ）前記ウエハ裏面を研削するバックグラインド工程と、
   （ｃ）前記ウエハを７０〜８０℃に加熱した状態で、前記ウエハ裏面に前記ウエハ加工用テープの接着剤層を貼合する工程と、
   （ｄ）前記ウエハ表面から前記表面保護テープを剥離する工程と、
   （ｅ）ダイシングブレードを用いて前記ウエハを分断ラインに沿って切削し、チップに分断する工程と、
   （ｆ）前記ウエハ加工用テープを拡張することにより、前記接着剤層を前記チップ毎に分断し、前記接着剤層が付いた複数のチップを得るエキスパンド工程と、
   （ｇ）拡張後の前記ウエハ加工用テープにおいて、前記チップと重ならない部分を加熱収縮させることにより、前記エキスパンド工程において生じた弛みを除去し、前記チップの間隔を保持する工程と、
   （ｈ）前記接着剤層が付いた前記チップを、前記ウエハ加工用テープの粘着剤層からピックアップするピックアップ工程と、
   を含むことを特徴とする半導体装置の製造方法。
10. 請求項１〜６のいずれか１項に記載のウエハ加工用テープを使用して半導体装置を製造する方法であって、
    （ａ）回路パタ−ンが形成されたウエハを、ダイシングブレードを用いて分断予定ラインに沿って前記ウエハの厚さ未満の深さまで切削する工程と、
    （ｂ）前記ウエハ表面に表面保護テープを貼合する工程と、
    （ｃ）前記ウエハ裏面を研削してチップに分断するバックグラインド工程と、
    （ｄ）前記ウエハを７０〜８０℃に加熱した状態で、前記チップに分断された前記ウエハ裏面に、前記ウエハ加工用テープの接着剤層を貼合する工程と、
    （ｅ）前記チップに分断された前記ウエハ表面から表面保護テープを剥離する工程と、
    （ｆ）前記ウエハ加工用テープを拡張することにより、前記接着剤層を前記チップ毎に分断し、前記接着剤層が付いた複数のチップを得るエキスパンド工程と、
    （ｇ）拡張後の前記ウエハ加工用テープにおいて、前記チップと重ならない部分を加熱収縮させることで前記エキスパンド工程において生じた弛みを除去し、前記チップの間隔を保持する工程と、
    （ｈ）接着剤層が付いた前記チップを、前記ウエハ加工用テープの粘着剤層からピックアップするピックアップ工程と、
    を含むことを特徴とする半導体装置の製造方法。

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