JP5285306B2 - 光学部品及び光学部品を用いた位相差顕微鏡 - Google Patents
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Description
少なくとも2以上の波長の光束が入射する入射面と、入射した光束の位相を変化させた後、光束を出射する出射面とを含む光学部品であって、
前記入射面と前記出射面との間に沿って並設された少なくとも2つの光学媒質を含む光学媒質体を有し、
前記光学媒質体は、
前記少なくとも2以上の波長の光束の各々について、波長に応じて位相を変化させた後、光束を出射する第1の光学媒質領域と、
前記少なくとも2以上の波長の光束の各々について、前記第1の光学媒質領域から出射される光束の位相に対して、位相差が略一定となるように波長に応じて位相を変化させて出射する第2の光学媒質領域と、を含むことを特徴とする。
前記第1の光学媒質領域が、少なくとも1つの光学媒質層からなり、
前記第2の光学媒質領域が、少なくとも1つの光学媒質層からなり、
前記第1の光学媒質領域のうちのi番目の層の厚さをt1iとし、波長λ1の光束に対する屈折率をn1(i、1)とし、波長λ2の光束に対する屈折率をn1(i、2)とし、
前記第2の光学媒質領域のうちのj番目の層の厚さをt2jとし、波長λ1の光束に対する屈折率をn2(j、1)とし、波長λ2の光束に対する屈折率をn2(j、2)としたときに、次の3つの式
t(n1(1,1)−n2(1,1))=C1×λ1
t(n1(1,2)−n2(1,2))=C2×λ2
|C1−C2|<0.02
が成立するものが好ましい。
第1の光学媒質領域の第1の波長λ1に対する屈折率をn1(1,1)とし、
第1の光学媒質領域の第2の波長λ2に対する屈折率をn1(1,2)とし、
第2の光学媒質領域の第1の波長λ1に対する屈折率をn2(1,1)とし、
第2の光学媒質領域の第2の波長λ2に対する屈折率をn2(1,2)とする。
前記第1の波長λ1と、前記第2の波長λ2とが、可視光の波長であるものが好ましい。
試料を照明する照明光学系と、前記試料の像を結像させる結像光学系とを含む位相差顕微鏡であって、
前記照明光学系の瞳位置に配置された開口と、
前記開口と共役な位置に配置された位相板と、を含み、
前記位相板が、
少なくとも2以上の波長の光束が入射する入射面と、入射した光束の位相を変化させて出射する出射面とを含み、かつ、
前記入射面と前記出射面との間に沿って並設された少なくとも2つの光学媒質を含む光学媒質体を有し、
前記光学媒質体が、
前記少なくとも2以上の波長の光束の各々について、波長に応じて位相を変化させて出射する第1の光学媒質領域と、
前記少なくとも2以上の波長の光束の各々について、前記第1の光学媒質領域から出射される光束の位相に対して、位相差が略一定となるように波長に応じて位相を変化させて出射する第2の光学媒質領域と、を含むことを特徴とする。
<<位相差顕微鏡の構成>>
図1は、位相差顕微鏡10の概要を示す図である。
図2は、第1の実施の形態による位相板100の平面図(a)と、断面図(b)と、原理図(c)とを示す。
t(n1(1,1)−n2(1,1))=C1×λ1
t(n1(1,2)−n2(1,2))=C2×λ2
|C1−C2|<0.02
上述した位相板100は、略円板状の形状を有するガラス板を加工することによって作られる。このガラス板が第2光学媒質部120(内側第2光学媒質部120a及び外側第2光学媒質部120b)並びに基部130となる。ガラス板の加工は、まず、ガラス板の出射面150となる側の表面を加工することによって、位相板100と同心状となるように輪帯状の形状の溝を形成する。この加工は、溝の深さがt1となるように行う。形成した溝に、接着剤を流し込んで固化させる。溝で乾燥した接着剤が、第1光学媒質部110となる。このように加工によって溝を形成すると共に接着剤によって第1光学媒質部110を形成することができるので、簡易にかつ安価に位相板100を作ることができる。また、溝を加工によって形成するので、形成する溝の深さにより、第1光学媒質部110の厚さを調整することができ、第1光学媒質部110の厚さを薄くして形成したり厚く形成したりすることも容易にできる。なお、第1光学媒質部110を厚く形成したい場合には、蒸着やスパッタ等の薄膜形成処理によって行ってもよい。
上述したように、光源から発せられた光束は、試料16の位相物体によって直接光と回折光とに分離される。回折光は、試料16の位相物体によって回折の際に、位相が約波長の4分の1だけ遅れる。一方、直接光は、試料16の位相物体によって、回折されることはなく、位相は変更されない。
波長を
λ1=0.48613μm、λ2=0.65627μm
とし、
屈折率を
n1(1,1)=1.60940
n1(1,2)=1.60019
n2(1,1)=1.58835
n2(1,2)=1.57171
とし、厚さを
t1=t2=5.7714μm
とすると
C1=t1(n1(1,1)−n2(1,1))/λ1=0.24990
C2=t1(n1(1,2)−n2(1,2))/λ2=0.25046
となる。
波長を
λ1=0.48613μm、λ2=0.65627μm
とし、
屈折率を
n1(1,1)=1.59230
n1(1,2)=1.58323
n2(1,1)=1.57616
n2(1,2)=1.56204
とし、厚さを
t1=t2=7.636μm
とすると
C1=t1(n1(1,1)−n2(1,1))/λ1=0.25352
C2=t1(n1(1,2)−n2(1,2))/λ2=0.24656
となる。
図3(a)は、第2の実施の形態による位相板200を示す。なお、第1の実施の形態による位相板100と同様の要素には、同じ符号を付した。
図3(b)は、第3の実施の形態による位相板300を示す。この第3の実施の形態による位相板300は、基部330の上に第1光学媒質部310と第2光学媒質部320とを形成したものである。
|δ−1/4|<0.02
である。
図3(c)は、第4の実施の形態による位相板400を示す。なお、第3の実施の形態による位相板300と同様の要素には、同じ符号を付した。
図3(d)は、第5の実施の形態による位相板500を示す。なお、第3の実施の形態による位相板300と同様の要素には、同じ符号を付した。
上述した第1〜第5の実施の形態による位相板を一般化した位相板600を図4に示す。図4に示した位相板600の左側が、第1光学媒質部を一般化した第1光学媒質層600aで、位相板600の右側が、第2光学媒質部を一般化した第2光学媒質層600bである。第1光学媒質層600aと第2光学媒質層600bとは、少なくとも1つの層からなる。
100、200、300、400、500、600 位相板(光学部品)
110、310 第1光学媒質部(第1の光学媒質領域)
120、320、520 第2光学媒質部(第2の光学媒質領域)
140、340、540 入射面
150、350、550 出射面
600a 第1光学媒質層(第1の光学媒質領域)
600b 第2光学媒質層(第2の光学媒質領域)
Claims (5)
- 少なくとも2以上の波長の光束が入射する入射面と、入射した光束の位相を変化させた後、光束を出射する出射面とを含む光学部品であって、
前記入射面と前記出射面との間に沿って並設された少なくとも2つの光学媒質を含む光学媒質体を有し、
前記光学媒質体は、
前記少なくとも2以上の波長の光束の各々について、波長に応じて位相を変化させた後、出射する第1の光学媒質領域と、
前記少なくとも2以上の波長の光束の各々について、前記第1の光学媒質領域から出射される光束の位相に対して、位相差が略一定となるように波長に応じて位相を変化させて出射する第2の光学媒質領域と、を含み、
前記第1の光学媒質領域は、少なくとも1つの光学媒質層からなり、
前記第2の光学媒質領域は、少なくとも1つの光学媒質層からなり、
前記第1の光学媒質領域のうちのi番目の層の厚さをt 1i とし、波長λ1の光に対する屈折率をn 1 (i、1)とし、波長λ2の光に対する屈折率をn 1 (i、2)とし、
前記第2の光学媒質領域のうちのj番目の層の厚さをt 2j とし、波長λ1の光に対する屈折率をn 2 (j、1)とし、波長λ2の光に対する屈折率をn 2 (j、2)としたときに、次の3つの式
但し、C1とC2は波長によらない定数とする
が成立することを特徴とする光学部品。 - 前記少なくとも2以上の波長の光束は、第1の波長λ1の光束と、第2の波長λ2の光束とを含み、
前記第1の光学媒質領域と前記第2の光学媒質領域とはそれぞれ単一の媒質からなり、その厚みをtとし、
前記第1の光学媒質領域の第1の波長λ1に対する屈折率をn1(1,1)とし、
前記第1の光学媒質領域の第2の波長λ2に対する屈折率をn1(1,2)とし、
前記第2の光学媒質領域の第1の波長λ1に対する屈折率をn2(1,1)とし、
前記第2の光学媒質領域の第2の波長λ2に対する屈折率をn2(1,2)としたときに、次の3つの式
t(n1(1,1)−n2(1,1))=C1×λ1
t(n1(1,2)−n2(1,2))=C2×λ2
|C1−C2|<0.02
が成立する請求項1に記載の光学部品。 - 式 |n1(1,1)−n2(1,2)|<0.3
を満たす請求項2に記載の光学部品。 - 前記第1の波長λ1と、前記第2の波長λ2とは、可視光の波長である請求項1に記載の光学部品。
- 試料を照明する照明光学系と、前記試料の像を結像させる結像光学系とを含む位相差顕微鏡であって、
前記照明光学系の瞳位置に配置された開口と、
前記開口と共役な位置に配置された位相板と、を含み、
前記位相板は、
少なくとも2以上の波長の光束が入射する入射面と、入射した光束の位相を変化させて出射する出射面とを含み、かつ、
前記入射面と前記出射面との間に沿って並設された少なくとも2つの光学媒質を含む光学媒質体を有し、
前記光学媒質体は、
前記少なくとも2以上の波長の光束の各々について、波長に応じて位相を変化させて出射する第1の光学媒質領域と、
前記少なくとも2以上の波長の光束の各々について、前記第1の光学媒質領域から出射される光束の位相に対して、位相差が略一定となるように波長に応じて位相を変化させて出射する第2の光学媒質領域と、を含み、
前記第1の光学媒質領域は、少なくとも1つの光学媒質層からなり、
前記第2の光学媒質領域は、少なくとも1つの光学媒質層からなり、
前記第1の光学媒質領域のうちのi番目の層の厚さをt 1i とし、波長λ1の光に対する屈折率をn 1 (i、1)とし、波長λ2の光に対する屈折率をn 1 (i、2)とし、
前記第2の光学媒質領域のうちのj番目の層の厚さをt 2j とし、波長λ1の光に対する屈折率をn 2 (j、1)とし、波長λ2の光に対する屈折率をn 2 (j、2)としたときに、次の3つの式
但し、C1とC2は波長によらない定数とする
が成立することを特徴とする位相差顕微鏡。
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Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
RU2785996C2 (ru) * | 2016-10-10 | 2022-12-15 | Басф Се | Новые противовспенивающие составы для процесса термического опреснения воды |
Families Citing this family (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
TWI467226B (zh) * | 2011-11-15 | 2015-01-01 | Ind Tech Res Inst | 相位物體顯微系統 |
US20130162800A1 (en) * | 2011-12-22 | 2013-06-27 | General Electric Company | Quantitative phase microscopy for label-free high-contrast cell imaging using frequency domain phase shift |
US9097900B2 (en) * | 2012-06-14 | 2015-08-04 | General Electric Company | Quantitative phase microscopy for high-contrast cell imaging using frequency domain phase shift |
WO2014041820A1 (ja) * | 2012-09-13 | 2014-03-20 | 京セラオプテック株式会社 | 顕微鏡 |
JP6095382B2 (ja) * | 2013-01-28 | 2017-03-15 | 横浜リーディングデザイン合資会社 | 光学系、光学系に用いる位相板及び光学系の製造方法 |
JP6131204B2 (ja) | 2014-02-28 | 2017-05-17 | 富士フイルム株式会社 | 観察装置 |
JP6381437B2 (ja) * | 2014-12-24 | 2018-08-29 | オリンパス株式会社 | 位相差顕微鏡 |
CN106094092B (zh) * | 2016-07-28 | 2018-05-11 | 宁波永新光学股份有限公司 | 一种用于相差显微镜的相位板 |
JP6818702B2 (ja) * | 2018-01-15 | 2021-01-20 | 株式会社東芝 | 光学検査装置及び光学検査方法 |
JP7031740B2 (ja) * | 2018-06-05 | 2022-03-08 | 株式会社ニコン | 位相板、対物レンズ、及び観察装置 |
KR20240070082A (ko) | 2022-11-14 | 2024-05-21 | 조선대학교산학협력단 | 층밀림 위상차 영상 획득 모듈 장치 |
Family Cites Families (16)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US621200A (en) * | 1899-03-14 | Hog-trap | ||
US2616334A (en) * | 1947-11-25 | 1952-11-04 | Zernike Frits | Phase microscopy |
US2700918A (en) * | 1949-01-19 | 1955-02-01 | American Optical Corp | Microscope with variable means for increasing the visibility of optical images |
US2655077A (en) * | 1949-02-08 | 1953-10-13 | American Optical Corp | Microscope with means for modifying contrast in optical images |
US2687670A (en) * | 1950-04-26 | 1954-08-31 | Vente Des Instr De Geodesie He | Optical device with a variable and colored phase contrast |
GB715752A (en) * | 1950-04-26 | 1954-09-22 | Vente Des Instr De Geodesie He | Improvements in phase-contrast microscopy |
US2662187A (en) * | 1951-07-11 | 1953-12-08 | American Optical Corp | Optical system |
US3628848A (en) * | 1969-12-23 | 1971-12-21 | Anvar | Variable phase contrast microscopy |
CH678663A5 (ja) * | 1988-06-09 | 1991-10-15 | Zeiss Carl Fa | |
JPH0289016A (ja) * | 1988-09-26 | 1990-03-29 | Nikon Corp | 走査型顕微鏡 |
JPH02275918A (ja) * | 1989-04-18 | 1990-11-09 | Hamamatsu Photonics Kk | マイクロサージェリー用顕微鏡 |
JP3413238B2 (ja) * | 1993-03-31 | 2003-06-03 | オリンパス光学工業株式会社 | 位相制御膜構造体 |
JP3790905B2 (ja) | 1996-02-22 | 2006-06-28 | オリンパス株式会社 | 位相差顕微鏡 |
DE19743027A1 (de) * | 1997-09-29 | 1999-05-12 | Leica Microsystems | Phasenring zur Realisierung eines positiven Phasenkontrastes |
JP3663920B2 (ja) * | 1998-06-30 | 2005-06-22 | 株式会社ニコン | 位相差観察装置 |
CN1200292C (zh) * | 2003-03-28 | 2005-05-04 | 中国科学院上海光学精密机械研究所 | 实现激光远场衍射光斑超分辨压缩的位相板 |
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Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
RU2785996C2 (ru) * | 2016-10-10 | 2022-12-15 | Басф Се | Новые противовспенивающие составы для процесса термического опреснения воды |
Also Published As
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