JP5282673B2 - 面発光型半導体レーザ、面発光型半導体レーザ装置、光伝送装置および情報処理装置 - Google Patents
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Description
請求項2において、前記下部酸化領域の前記活性層からの距離は、前記上部酸化領域の前記活性層からの距離よりも小さい。
請求項3において、前記下部酸化領域の先端部は、前記活性層の直下にある。
請求項4において、前記上部柱状構造の前記基板の主面と平行な面の任意の位置の径は、前記下部柱状構造の前記長軸および短軸よりも小さく、前記下部導電領域の前記短軸方向の径は、前記上部柱状構造の前記任意の位置の径よりも小さい。
請求項5において、前記下部酸化領域の前記下部柱状構造の側壁からの酸化距離は、前記上部酸化領域の前記上部柱状構造の側壁からの酸化距離よりも大きい。
請求項6において、前記下部酸化領域の前記活性層からの距離は、前記上部酸化領域の前記活性層からの距離よりも小さく、前記下部酸化領域の酸化領域の終端は、前記活性層よりも内側にあり、前記上部柱状構造の前記基板の主面と平行な面の任意の位置の径は、前記下部柱状構想の前記長軸および短軸よりも小さく、前記下部導電領域の前記短軸方向の径は、前記上部柱状構造の前記任意の位置の径よりも小さく、前記下部酸化領域の前記下部柱状構造の側壁からの酸化距離は、前記上部酸化領域の前記上部柱状構造の側壁からの酸化距離よりも大きい。
請求項7に係る面発光型半導体レーザ装置は、請求項1ないし6いずれか1つに記載の面発光型半導体レーザと、前記面発光型半導体レーザからの光を入射する光学部材とを実装する。
請求項8に係る光伝送装置は、請求項7に記載された面発光型半導体レーザ装置と、前記面発光型半導体レーザ装置から発せられたレーザ光を光媒体を介して伝送する伝送手段とを備える。
請求項9に係る情報処理装置は、請求項1ないし6いずれか1つに記載の面発光型半導体レーザと、前記面発光型半導体レーザから出射されるレーザ光を記録媒体に集光する集光手段と、前記集光手段により集光されたレーザ光を前記記録媒体上で走査する機構とを有する情報処理装置。
請求項2によれば、下部酸化制御層の下部酸化領域の異方性歪を効果的に活性層に与えることができる。
請求項3によれば、下部酸化領域の先端部の歪を効果的に活性層に与えることができる。
請求項4によれば、下部導電領域を取り囲む下部酸化領域の異方性歪を効果的に活性層に与えることができる。
請求項5によれば、本構成を持たない場合と比較して、下部酸化領域の先端部の歪を効果的に活性層に与えることができる。
請求項6によれば、本構成を持たない場合と比較して、安定した偏光制御を提供することができる。
請求項7ないし9によれば、安定した偏光制御の面発光型半導体レーザを利用した面発光型半導体レーザ装置、光伝送装置および情報処理装置を提供することができる。
、上部メサM1の酸化アパーチャ120Bの径よりも大きいことを規定する。条件3において、下部メサM2の酸化アパーチャ130Bの径は、上部メサM1の径よりも小さいことを規定する。言い換えれば、酸化制御層130の酸化領域130Aの先端部は、活性領域104の直下に位置することになる。条件4において、酸化制御層130は、酸化制御層120よりも活性層104に近いことを規定する。
100:基板
102:下部DBR
104:活性層
106:上部DBR
108:p側電極
110:層間絶縁膜
112:コンタクトホール
114:n側電極
120、130:酸化制御層
120A、130A:酸化領域
120B、130B:酸化アパーチャ(導電領域)
M1:上部メサ
M2:下部メサ
d1、d2:酸化距離
D1、D2:酸化アパーチャの径
L1:酸化制御層120の活性層104からの距離
L2:酸化制御層130の活性層104からの距離
Claims (9)
- 基板と、
基板上に形成されレーザ光の発光部として機能する柱状構造とを含み、
前記柱状構造は、前記基板の主面と平行な面に長軸および短軸を有する形状の下部柱状構造と、前記下部柱状構造上に形成される上部柱状構造と、下部柱状構造または上部柱状構造のいずれかに形成される活性層とを含み、
前記下部柱状構造は、第1導電型の半導体多層膜反射鏡と、下部柱状構造の側壁から選択的に酸化された下部酸化領域によって囲まれた第1導電型の下部導電領域を有する下部酸化制御層を少なくとも含み、
前記上部柱状構造は、第2導電型の半導体多層膜反射鏡と、上部柱状構造の側壁から選択的に酸化された上部酸化領域によって囲まれた第2導電型の上部導電領域を有する上部酸化制御層を少なくとも含み、
前記基板の主面と平行な面内における前記下部酸化領域の面積は、前記上部酸化領域の基板の主面と平行な面内における酸化領域の面積よりも大きく、前記活性層は、前記下部酸化制御層と前記上部酸化制御層との間に位置する、
面発光型半導体レーザ。 - 前記下部酸化領域の前記活性層からの距離は、前記上部酸化領域の前記活性層からの距離よりも小さい、請求項1に記載の面発光型半導体レーザ。
- 前記下部酸化領域の先端部は、前記活性層の直下にある、請求項1または2に記載の面発光型半導体レーザ。
- 前記上部柱状構造の前記基板の主面と平行な面の任意の位置の径は、前記下部柱状構造の前記長軸および短軸よりも小さく、前記下部導電領域の前記短軸方向の径は、前記上部柱状構造の前記任意の位置の径よりも小さい、請求項1ないし3いずれか1つに記載の面発光型半導体レーザ。
- 前記下部酸化領域の前記下部柱状構造の側壁からの酸化距離は、前記上部酸化領域の前記上部柱状構造の側壁からの酸化距離よりも大きい、請求項4に記載の面発光型半導体レーザ。
- 前記下部酸化領域の前記活性層からの距離は、前記上部酸化領域の前記活性層からの距離よりも小さく、前記下部酸化領域の酸化領域の終端は、前記活性層よりも内側にあり、前記上部柱状構造の前記基板の主面と平行な面の任意の位置の径は、前記下部柱状構想の前記長軸および短軸よりも小さく、前記下部導電領域の前記短軸方向の径は、前記上部柱状構造の前記任意の位置の径よりも小さく、前記下部酸化領域の前記下部柱状構造の側壁からの酸化距離は、前記上部酸化領域の前記上部柱状構造の側壁からの酸化距離よりも大きい、請求項1に記載の面発光型半導体レーザ。
- 請求項1ないし6いずれか1つに記載の面発光型半導体レーザと、
前記面発光型半導体レーザからの光を入射する光学部材と、
を実装した面発光型半導体レーザ装置。 - 請求項7に記載された面発光型半導体レーザ装置と、
前記面発光型半導体レーザ装置から発せられたレーザ光を光媒体を介して伝送する伝送手段と、
を備えた光伝送装置。 - 請求項1ないし6いずれか1つに記載の面発光型半導体レーザと、
前記面発光型半導体レーザから出射されるレーザ光を記録媒体に集光する集光手段と、
前記集光手段により集光されたレーザ光を前記記録媒体上で走査する機構と、
を有する情報処理装置。
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