JP5278030B2 - 反転テーブル装置の潤滑方法及びその潤滑システム - Google Patents
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Description
前記回転軸の内部通路を介して下方から偏心ピンの上方へ潤滑油を供給し、偏心ピンの上方から潤滑油を流下して回転軸の摺動部を潤滑するものである。
前記供給装置は、回転軸の内部通路を介して下方から偏心ピンの上方へ潤滑油を供給し、偏心ピンの上方から潤滑油を流下して回転軸の摺動部を潤滑するように構成されたものである。
供給装置は、潤滑油を回転軸の導入口から内部通路を介して偏心ピンの吐出口へ吐出させるように構成することが好ましい。
供給装置8は、潤滑油を回転軸12の導入口34から内部通路38,39,40を介して偏心ピン15の吐出口36へ吐出させるように構成すると、回転軸12の偏心ピン15の上方から潤滑油を流下して回転軸12の摺動部を潤滑するので、カムフォロア31や偏心ピン15等の摺動部等の機械要素を好適に潤滑することができる。
8 供給装置
9 反転テーブル
12 回転軸
13 回転軸本体
14 側方延在部
15 偏心ピン
34 導入口
36 吐出口
38 第一の内部通路
39 第二の内部通路
40 第三の内部通路
50 長孔
53 タンク
56 温度計測手段
57 冷却手段
58 制御手段
Claims (6)
- 上端部に偏心ピンを配する回転軸の回転により反転テーブルが一方向に往復移動する平面研削盤の反転テーブル装置を備え、該反転テーブル装置に潤滑油を供給する反転テーブル装置の潤滑方法であって、
前記回転軸の内部通路を介して下方から偏心ピンの上方へ潤滑油を供給し、偏心ピンの上方から潤滑油を流下して回転軸の摺動部を潤滑することを特徴とする反転テーブル装置の潤滑方法。 - 上端部に偏心ピンを配する回転軸の回転により反転テーブルが一方向に往復移動する平面研削盤の反転テーブル装置と、該反転テーブル装置に潤滑油を供給する供給装置とを備えた反転テーブル装置の潤滑システムであって、
前記供給装置は、回転軸の内部通路を介して下方から偏心ピンの上方へ潤滑油を供給し、偏心ピンの上方から潤滑油を流下して回転軸の摺動部を潤滑するように構成されたことを特徴とする反転テーブル装置の潤滑システム。 - 回転軸は、下部に導入口を形成する回転軸心の回転軸本体と、該回転軸本体の上部から側方へ延在する側方延在部と、該側方延在部の先端に位置して上部に吐出口を形成する偏心ピンとを備えて、導入口から吐出口まで連通する内部通路を形成し、
供給装置は、潤滑油を回転軸の導入口から内部通路を介して偏心ピンの吐出口へ吐出させるように構成した請求項2に記載の反転テーブル装置の潤滑システム。 - 潤滑油を溜めるタンクを設けると共に、前記タンクから反転テーブル装置に潤滑油を供給するポンプを配置したことを特徴とする請求項2または3に記載の反転テーブル装置の潤滑システム。
- 反転テーブルは、長孔を介して偏心ピンに嵌合し回転軸の回転により偏心ピン及び長孔を介して一方向に往復移動するように構成された請求項2〜4のいずれかに記載の反転テーブル装置の潤滑システム。
- 回転軸を潤滑した後の潤滑油の温度を計測する温度計測手段を配置すると共に、回転軸を潤滑した後の潤滑油を温度調整し得る冷却手段を備え、更に前記温度計測手段に基づいて冷却手段を駆動する制御手段を備えたことを特徴とする請求項2〜5のいずれかに記載の反転テーブル装置の潤滑システム。
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