JP5263670B2 - 垂直磁気記録媒体の製造方法 - Google Patents
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Description
前記消磁にあたって、垂直磁気記録媒体の磁区の直径を金属付着物の直径よりも小さくすることが好ましい。
前記金属付着物の除去工程で除去される金属が磁性金属であるか、またはFe、Ni、Coのいずれかを含むものであることが好ましい。
前記金属付着物の除去工程がテープバニッシュによる工程またはヘッドバニッシュによる工程であり、消磁工程と金属付着物の除去工程を同一のスピンドル上で行うことが好ましい。
非磁性基体と非磁性下地層の間には軟磁性層、シード層を設けてもよい。
非磁性基体として表面が平滑な化学強化ガラス基板(例えば、HOYA社製N−5ガラス基板)を用い、これを洗浄後スパッタ装置内に導入し非磁性基体上に、軟磁性層、シード層、下地層、磁気記録層と保護膜とを順次成膜した。即ち、Co85Zr10Nb5ターゲットを用いてDCマグネトロンスパッタ法によりCoZrNb軟磁性層を成膜し、その上にスパッタ装置内で、DCマグネトロンスパッタ法によりシード層としてCoFeNi、下地層としてTaを成膜し、さらにその上に磁気記録層としてCo77Cr9Pt10SiO2を成膜した。次にカーボンターゲットを用いてカーボンからなる保護膜をDCマグネトロンスパッタ法で成膜した後、スパッタ装置から取り出した。その後、パーフルオロポリエーテルからなる液体潤滑層をディップコート法により形成した。
実施例1と同様にして垂直磁気記録媒体を作製し、テープバニッシュに代えてヘッドバニッシュを行った以外は実施例1と同様にしてバニッシュ後、グライドハイト試験を行い、不良率を確認したところ1000枚中14枚の不良があり、不良品の不良解析を行ったところ、金属付着物起因の不良は2枚であった。MFMの測定により、この磁気記録媒体も消磁を行うことで、磁石の直径は100nm以下になっていることを確認した。
消磁工程を行なわなかった以外は実施例1と同様にして磁気記録媒体を作製し、得られた磁気記録媒体のグライドハイト試験を行い、不良率を確認したところ1000枚中22枚の不良があり、不良品の不良解析を行ったところ、金属付着物起因の不良は10枚であった。また金属付着物からはNi、Co、Feなどの元素が検出され、その付着物直径は1マイクロメートルの大きさのものも存在した。また磁気記録媒体の磁区の直径は、内周部では100nm以下であったが、外周部の一部において1マイクロメートルを超える大きさの磁区が観察された。
消磁工程を行なわなかった以外は実施例2と同様にして磁気記録媒体を作製し、得られた磁気記録媒体のグライドハイト試験を行い、不良率を確認したところ1000枚中34枚の不良があり、不良品の不良解析を行ったところ、金属付着物起因の不良は10枚であった。また、金属付着物直径は1マイクロメートルの大きさのものも存在した。また磁気記録媒体の磁区の直径は、内周部では100nm以下であったが、外周部の一部において1マイクロメートルを超える大きさの磁区が観察された。
2:磁気記録媒体
3:永久磁石のイレーズバー
4:磁気記録媒体
5:テープバニッシュ用テープ
6:磁気記録媒体脱着部
Claims (6)
- 円盤状の非磁性基体上に少なくとも非磁性下地層、磁性層、保護層、および潤滑層がこの順に積層して、垂直磁気記録媒体を得る工程と、
前記垂直磁気記録媒体に交番磁界を減衰させながらかける消磁工程と、
前記垂直磁気記録媒体表面の金属付着物を除去する工程と
を順に含み、
前記消磁工程は、前記垂直磁気記録媒体を回転させ、磁石のN極とS極が磁気記録媒体に対向するように設けられたイレーズバーを、前記垂直磁気記録媒体の半径方向に移動させる、
ことを特徴とする垂直磁気記録媒体の製造方法。 - 前記垂直磁気記録媒体を消磁する工程において、垂直磁気記録媒体の磁区の直径を1マイクロメートルよりも小さくすることを特徴とする請求項1に記載の垂直磁気記録媒体の製造方法。
- 前記金属付着物が磁性金属であることを特徴とする請求項1または2に記載の垂直磁気記録媒体の製造方法。
- 前記金属付着物がFe、Ni、Coのいずれかを含むことを特徴とする請求項1または2に記載の垂直磁気記録媒体の製造方法。
- 前記金属付着物の除去工程がテープバニッシュによる工程であり、消磁工程と金属付着物の除去工程を同一のスピンドル上で行うことを特徴とする請求項1〜4のいずれか1項に記載の磁気記録媒体の製造方法。
- 前記金属付着物の除去工程がヘッドバニッシュによる工程であり、消磁工程と金属付着物の除去工程を同一のスピンドル上で行うことを特徴とする請求項1〜4のいずれか1項に記載の磁気記録媒体の製造方法。
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