JPH0520683A - 磁性膜フレークの除去方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 本発明は、ディスク上に磁性膜を形成する場
合に適用して磁性膜フレークを容易に除去することを目
的とする。 【構成】 スパッタ室において磁性膜を形成した後にデ
ィスクとディスクホルダを消磁し、ディスクとディスク
ホルダに清浄気体を吹き付ける。 【効果】 本発明によれば、基板にスパッタすることに
よりスパッタ室などに生じるダスト状の磁性膜フレーク
をディスクとディスクホルダから容易に除去することが
できる。よって、清浄な状態のディスクを後工程に送る
ことができ、後工程の歩留りが向上する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明はディスク上に磁性膜を形
成する場合に適用して好適な磁性膜フレークの除去方法
に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】従来、薄膜磁気ヘッドなどの薄膜素子を
スパッタリングにより製造する場合に用いて好適な成膜
装置として、図５に示す構成のスパッタ装置が知られて
いる。

【０００３】図５に示すスパッタ装置Ａにおいて、６は
予備加熱室、７は加熱室、８は第１スパッタ室、９は中
間室、１０は第２スパッタ室、１１は取出室を各々示
し、これらの各室が直列的に接続されてスパッタ装置Ａ
が構成されるとともに、各室の境界部分には仕切弁装置
１２が設けられていて、各室の雰囲気を別個に調節でき
るようになっている。更に図５において符号１３は加熱
ヒータを示し、各室の温度調節ができるようになってい
る。

【０００４】また、図５に示す構成のスパッタ装置Ａに
おいては、スパッタカソード１が第１スパッタ室８の左
右両内側壁と第２スパッタ室１０の左右両内側壁に設け
られ、両側のスパッタカソード１からターゲットの構成
粒子を飛ばして成膜することができるようになってい
る。

【０００５】図５に示すスパッタ装置Ａを使用してスパ
ッタを行う場合は、図６に示すディスクホルダ１５を備
えた走行台車１６を使用する。まず、前記ディスクホル
ダ１５に磁気ディスクのディスク１７を必要枚数装着す
る。

【０００６】次に走行台車１６を仕切弁装置１２を通し
て予備加熱室６に移動させ、ディスク１７を所定の温度
に加熱すると同時に内部圧力を調節し、この後に加熱室
７を介して第１スパッタ室８に移動させ、第１スパッタ
室８において複数のスパッタカソードから順次あるいは
複数同時にスパッタを行って成膜処理を行い、次いで中
間室９に走行台車１６を移動し、次に第２スパッタ室１
０で必要に応じて同様にスパッタ処理を行い薄膜磁気ヘ
ッドなどの薄膜素子の製造に利用している。

【０００７】

【発明が解決しようとする課題】前記構成のスパッタ装
置Ａにあっては、繰り返し使用している間にスパッタ室
８において図７に示すような磁性膜フレーク(ダストの
１種)が発生する問題がある。この磁性膜フレークは、
マグネトロンターゲットからの磁場により図７に示すよ
うに磁化されて磁気を帯びている。従ってこの磁性膜フ
レーク１８が存在する空間を前記走行台車１６が通過し
た場合、磁性膜が形成される前のディスク(ハードディ
スク)１９あるいはディスクホルダ１５に図７に示すよ
うに容易に吸着し、磁性膜フレーク１８がスパッタの障
害となり、不良率が向上する問題があった。

【０００８】また、ディスクホルダ１５自体にもスパッ
タで飛ばされた粒子が付着し、この付着粒子膜がターゲ
ット磁界により図７に示すように磁化され、ディスクホ
ルダ１５が前記磁性膜フレーク１８を吸着し、前記問題
を増長させる問題があった。

【０００９】本発明は前記課題を解決するためになされ
たもので、スパッタ室でディスクやディスクホルダに付
着する磁性膜フレークを容易に除去することができ、ス
パッタ時の不良率を低くすることができる磁性膜除去方
法を提供することを目的とする。

【００１０】

【課題を解決するための手段】請求項１記載の発明は前
記課題を解決するために、ディスクを備えたディスクホ
ルダをスパッタ室に移動させ、スパッタ室に設けたター
ゲットの粒子をディスク上に堆積させてディスク上に磁
性膜を形成し、磁性膜の形成後にスパッタ室からディス
クを取り出して磁気記録媒体を得る方法において適用さ
れる磁性膜フレークの除去方法であって、ディスク上に
磁性膜を形成した後にディスク全体を電磁石で消磁し、
消磁後にディスク表面に清浄気体を吹き付けてディスク
上の磁性膜フレークを除去するものである。

【００１１】

【作用】磁性膜フレークが磁気吸着されたディスクある
いはディスクホルダを消磁するので、磁性膜フレークと
ディスクとディスクホルダが消磁され、磁性膜フレーク
の磁気吸着力が無くなる。よってその後に清浄気体をデ
ィスクあるいはディスクホルダに吹き付けることにより
磁性膜フレークが容易に吹き飛ばされて除去される。デ
ィスクに磁気吸着した磁性膜フレークを除去しておくこ
とで成膜後の後処理工程に表面が清浄な状態のディスク
を送ることができ、後工程における処理の歩留りが向上
する。

【００１２】

【実施例】図１ないし図３は本発明方法を説明するため
のものであるが、本発明方法を実施する場合には例えば
図４に示す構造のスパッタ装置Ｂを使用する。

【００１３】図４に示す構成の成膜装置Ｂは図５に示す
構成のスパッタ装置Ａの一部を改造したものである。図
４に示すスパッタ装置Ｂが図５に示すスパッタ装置Ａと
異なっているのは、第１スパッタ室８と第２スパッタ室
１０との間、および、第２スパッタ室１０と取出室１１
との間にそれぞれ除去室２０を設け、各除去室２０の内
部に左右一対の消磁装置２１と、清浄気体の噴射管２２
…とを設けた点である。

【００１４】前記消磁装置２１は、除去室２０の左右両
側の側壁に電磁石が設けられたものであり、この除去室
２０を走行台車１６が通過する場合に電磁石に通電して
磁力を発生させていた状態から電磁石への通電を停止し
て磁界を消失させることで走行台車１６上のディスク１
７とディスクホルダ１５を消磁できるようになってい
る。

【００１５】また、噴射管２２…はその開口部が除去室
２０の中央部に向くように除去室２０の両側壁にそれぞ
れ取り付けられていて各噴射管２２は図示略の清浄空気
供給装置などの清浄気体供給源に接続されている。

【００１６】前記スパッタ装置Ｂでは、ディスク１７上
に磁性膜を形成するので、第１スパッタ室８に設けられ
るターゲット１はＣr(クロム)などの磁性膜形成用のタ
ーゲットであり、第２スパッタ室１０にもＣ(炭素)など
の磁性膜形成用のターゲットが用いられる。

【００１７】次に磁性膜フレークの除去方法について、
スパッタ装置Ｂによる磁性膜の形成と関連づけて説明す
る。

【００１８】スパッタ装置Ｂを用いてディスク１７に磁
性膜を形成するには、まず、図６に示す構成のディスク
ホルダ１５を備えた走行台車１６をスパッタ装置Ｂに投
入する。

【００１９】即ち、予備加熱室６の入口側の仕切弁装置
１２を解放して予備加熱室６に走行台車１６を移動さ
せ、前記仕切弁装置１２を閉じた後に予備加熱室６の温
度と気圧を調節し、ディスク１７を加熱ヒータ１３によ
り予熱する。

【００２０】予備加熱室６での調整が終了したならば、
予備加熱室６の出口側の仕切弁装置１２をあけて加熱室
７に走行台車１６を移動させ、再び仕切弁装置１２を閉
じた後にディスク１７を加熱ヒータ１３により所定の温
度に加熱する。

【００２１】ディスク１７の加熱処理が終了したならば
仕切弁装置１２をあけて走行台車１６を第１スパッタ室
８に移動させる。第１スパッタ室８においては加熱ヒー
タ１３によってディスク１７を加熱すると同時にスパッ
タを行ってターゲット１から粒子をたたき出してディス
ク１７上に磁性膜を形成する。

【００２２】成膜が終了したならば、第１スパッタ室８
の出口側の仕切弁装置１２を解放して走行台車１６を除
去室２０に移動する。

【００２３】前記のような成膜処理を行なうことによっ
て第１スパッタ室８０においてはディスク１７とディス
クホルダ１５が磁化されるとともに、第１スパッタ室８
では磁性膜フレーク１８が発生し、この磁性膜フレーク
１８がマグネトロンターゲットからの磁場により磁化さ
れてディスク１７とディスクホルダ１５のいずれかに図
７に示すように磁気吸着する。従ってこの磁性膜フレー
ク１８をディスク１７とディスクホルダ１５から取り除
く必要が生じる。

【００２４】そこで走行台車１６を除去室２０に移動さ
せたならば、除去室２０では、消磁装置２１を作動させ
て磁化されたディスク１７とディスクホルダ１５と磁性
膜フレーク１８の消磁を行う。これらが消磁されるとこ
れらの磁気吸着力が減少するので、ディスク１７とディ
スクホルダ１５に磁気吸着した複数の磁性膜フレーク１
８は図２に示すように一部脱落するか磁気吸着力が低下
した状態で吸着している。続いて消磁の後に噴射管２２
から清浄空気などの気体をディスク１７あるいはディス
クホルダ１５に吹き付けることにより図３に示すように
磁性膜フレーク１８…を吹き飛ばすことができ、これら
を容易に除去することができる。

【００２５】このようにディスク１７とディスクホルダ
１５に吸着した磁性膜フレーク１８を除去したならば、
ディスク１７を第２スパッタ室１０に移動させて必要に
応じて成膜処理を行う。この成膜処理の際に予めディス
ク１７上の磁性膜フレーク１８が除去されているので、
スパッタの歩留りが向上する。

【００２６】第２スパッタ室１０において成膜処理が終
了したならば、再び走行台車１６を除去室２０に移動さ
せて前記と同様に消磁作業を行い、その後に取出室１１
を介してスパッタ装置Ｂから取り出す。スパッタ装置Ｂ
から取り出したディスク１７は後工程において水洗によ
って洗浄する。この水洗工程の前に予め磁性膜フレーク
を除去しているので、水洗工程の歩留りが向上する効果
がある。

【００２７】また、スパッタ装置Ｂから取り出した後に
更にディスク上に他の薄膜や保護膜などを形成する場合
は、それらの膜を形成する装置に磁性膜フレークが付着
していない清浄なディスク１７を送ることができるの
で、それらの膜を形成する装置での歩留りを向上させる
ことができる。

【００２８】なお、前記の実施例においては、スパッタ
室を２つ設けたスパッタ装置で成膜する場合に本発明方
法を適用した例について説明したが、スパッタ室を１つ
あるいは３つ以上設けたスパッタ装置で成膜する場合に
ついて本発明方法を適用できるのは勿論であり、更に、
スパッタ室ごとに除去室を設けなくとも複数のスパッタ
室に１つの除去室を設けるようにしても良い。

【発明の効果】以上説明したように本発明によれば、磁
性膜をスパッタ室でディスク上に形成した後に磁性膜フ
レークが磁気吸着されたディスクあるいはディスクホル
ダを消磁するので、磁性膜フレークとディスクとディス
クホルダの磁気吸着力を無くすることができ、一部の磁
性膜フレークを脱落させて除去することができる。ま
た、脱落しない磁性膜フレークがあっても、消磁の後に
清浄気体をディスクあるいはディスクホルダに吹き付け
ることにより磁性膜フレークを吹き飛ばすことができ、
磁性膜フレークを容易に除去することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】図１はディスクに磁性膜フレークが磁気吸着さ
れた状態を示す断面図。

【図２】図２はディスクと磁性膜フレークを消磁してい
る状態を示す断面図である。

【図３】図３はディスクに清浄空気を吹き付けている状
態を示す断面図である

【図４】図４は本発明方法を実施する場合に用いるスパ
ッタ装置の一例を示す断面図である。

【図５】図５は従来のスパッタ装置の一例を示す断面図
である。

【図６】図６は走行台車の斜視図である。

【図７】図７は磁性膜フレークがディスクに磁気吸着し
た状態を示す断面図である。

【符号の説明】

Ｂ スパッタ装置 ８ 第１スパッタ室 １０ 第２スパッタ室 １５ ディスクホルダ １６ 走行台車 １７ ディスク ２０ 除去室 ２１ 消磁装置 ２２ 噴射管

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 【請求項１】 ディスクを備えたディスクホルダをスパ
   ッタ室に移動させ、スパッタ室に設けたターゲットの粒
   子をディスク上に堆積させてディスク上に磁性膜を形成
   し、磁性膜の形成後にスパッタ室からディスクを取り出
   して磁気記録媒体を得る方法において適用される磁性膜
   フレークの除去方法であって、ディスク上に磁性膜を形
   成した後にディスク全体を電磁石で消磁し、消磁後にデ
   ィスク表面に清浄気体を吹き付けてディスク上の磁性膜
   フレークを除去することを特徴とする磁性膜フレークの
   除去方法。