JP5681879B2 - 垂直磁気記録媒体の製造方法及び製造装置 - Google Patents
垂直磁気記録媒体の製造方法及び製造装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP5681879B2 JP5681879B2 JP2012107774A JP2012107774A JP5681879B2 JP 5681879 B2 JP5681879 B2 JP 5681879B2 JP 2012107774 A JP2012107774 A JP 2012107774A JP 2012107774 A JP2012107774 A JP 2012107774A JP 5681879 B2 JP5681879 B2 JP 5681879B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- magnetic
- magnetic layer
- substrate
- recording medium
- manufacturing
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 104
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 45
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 230
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 84
- 230000005347 demagnetization Effects 0.000 claims description 23
- 238000012546 transfer Methods 0.000 claims description 23
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 22
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 claims description 19
- 230000002829 reductive effect Effects 0.000 claims description 13
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 claims description 11
- 230000005381 magnetic domain Effects 0.000 claims description 9
- 229910020707 Co—Pt Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 230000001360 synchronised effect Effects 0.000 claims description 6
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 claims description 3
- 238000011144 upstream manufacturing Methods 0.000 claims description 3
- 229910020708 Co—Pd Inorganic materials 0.000 claims 2
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 237
- 239000010408 film Substances 0.000 description 35
- 230000008569 process Effects 0.000 description 29
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 27
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 27
- 230000032258 transport Effects 0.000 description 21
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 description 13
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 12
- 238000005192 partition Methods 0.000 description 10
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 8
- 238000000429 assembly Methods 0.000 description 6
- 230000000712 assembly Effects 0.000 description 6
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 5
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 5
- 230000005415 magnetization Effects 0.000 description 5
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 4
- 239000000696 magnetic material Substances 0.000 description 4
- 229910018979 CoPt Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910005335 FePt Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 3
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 3
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 3
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 3
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 2
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 2
- 239000010687 lubricating oil Substances 0.000 description 2
- 239000006249 magnetic particle Substances 0.000 description 2
- 238000001755 magnetron sputter deposition Methods 0.000 description 2
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 2
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 2
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 2
- 230000007704 transition Effects 0.000 description 2
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 1
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- 230000008878 coupling Effects 0.000 description 1
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 description 1
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000008187 granular material Substances 0.000 description 1
- 238000011423 initialization method Methods 0.000 description 1
- 238000007689 inspection Methods 0.000 description 1
- 230000010354 integration Effects 0.000 description 1
- 229910001004 magnetic alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000036961 partial effect Effects 0.000 description 1
- 238000011056 performance test Methods 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 230000002250 progressing effect Effects 0.000 description 1
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 1
- 230000003068 static effect Effects 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 238000013022 venting Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/84—Processes or apparatus specially adapted for manufacturing record carriers
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/62—Record carriers characterised by the selection of the material
- G11B5/64—Record carriers characterised by the selection of the material comprising only the magnetic material without bonding agent
- G11B5/66—Record carriers characterised by the selection of the material comprising only the magnetic material without bonding agent the record carriers consisting of several layers
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/84—Processes or apparatus specially adapted for manufacturing record carriers
- G11B5/852—Orientation in a magnetic field
Landscapes
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Magnetic Record Carriers (AREA)
Description
別の観点に係る垂直磁気記録媒体の製造方法は、基板上に高磁気異方性材料を含む磁性層を形成する垂直磁気記録媒体の製造方法であって、前記基板上に前記磁性層を形成する磁性層形成工程と、前記磁性層を400℃以上に加熱する加熱工程と、前記磁性層が加熱されたことにより保磁力が低下した前記磁性層の表面に対し平行な磁場を印加し、前記磁性層を消磁する消磁工程とを有することを特徴とする。
別の観点に係る垂直磁気記録媒体の製造装置は、複数のチャンバ間を、基板を搬送させて、前記基板上に高磁気異方性材料を含む磁性層を形成する垂直磁気記録媒体の製造装置であって、前記基板を搬送する搬送部と、前記基板を加熱する加熱部と、前記基板上にスパッタリングにより前記磁性層を形成する磁性層形成チャンバと、前記磁性層が形成された前記基板に対して、当該基板の表面に平行な磁場を印加する磁場発生部と、制御部とを備え、前記制御部は、前記磁性層形成チャンバ内で前記基板上に形成された前記磁性層を、400℃以上に加熱することにより、保磁力が低下した前記磁性層の表面に対し、前記磁場発生部により、平行な磁場を印加し、前記磁性層を消磁するように構成されていることを特徴とする。
さらに別の観点に係る垂直磁気記録媒体の製造装置は、複数のチャンバ間を、基板を搬送させて、前記基板上に高磁気異方性材料を含む磁性層を形成する垂直磁気記録媒体の製造装置であって、前記基板を加熱する加熱部と、前記基板上にスパッタリングにより前記磁性層を形成する磁性層形成チャンバと、制御部とを備え、前記磁性層形成チャンバは、前記基板の両側に設けられた一対のターゲット保持部と、一対の前記ターゲット保持部の裏側に回転可能に設けられた一対の磁石ユニットとを有し、前記制御部は、前記加熱部により、前記基板を400℃以上に加熱し、前記磁性層形成チャンバ内で一対の前記磁石ユニットを回転させながら、前記基板上に磁性層を形成した後、一対の前記磁石ユニットを磁極が同期した状態で停止させて、前記磁性層が加熱されたことにより保磁力が低下した前記磁性層の表面に対し、平行な磁場を印加し、前記磁性層を消磁するように構成されていることを特徴とする。
まず、本発明の実施形態にかかる磁気記録媒体の製造方法及び製造装置によって製造される磁気記録媒体の一例について説明する。図1に示す垂直磁気記録媒体11は、基板1上に、ヒートシンク層2、軟磁性下地層3、配向層4、記録層10、保護層7が順に積層されている。記録層10は、磁性層としての第1磁性層5及び第2磁性層6で構成される。なお、本図では説明の便宜上基板の一方の面にのみ多層膜が形成されている場合について図示しているが、実際は両面に多層膜が形成されている。
次に本発明の第1実施形態に係る垂直磁気記録媒体11の製造装置(以下、「製造装置」という。)20Aについて説明する。図3に示す製造装置20Aは、搬送部21、ロードロックチャンバ22、予備加熱チャンバ23、ヒートシンク層形成チャンバ24、軟磁性下地層形成チャンバ25、配向層形成チャンバ26、加熱チャンバ27、第1磁性層形成チャンバ28A、第2磁性層形成チャンバ29、第1冷却チャンバ30、第2冷却チャンバ31、保護層形成チャンバ32、アンロードチャンバ33を備え、基板1の両面に多層膜を備える垂直磁気記録媒体11を製造し得る。前記各チャンバは、環状に配列され、開閉可能なゲートバルブ(不図示)を介して接続されており、基板1の両面に対し同時に加熱、成膜などの処理を行う。
次に図6を参照して本実施形態に係る製造装置の変形例について説明する。上記第1実施形態と同様の構成については同様の符号を付し、説明を省略する。本変形例に係る製造装置は、磁場発生部が第1磁性層形成チャンバと第2磁性層形成チャンバ29の間に設けられている点が上記第1実施形態と異なる。以下、上記図4と対応する図6を参照して説明する。
次に第2実施形態に係る製造装置について説明する。上記第1実施形態と同様の構成については同様の符号を付し、説明を省略する。本実施形態に係る製造装置は、消磁用加熱チャンバ42Aが設けられている点が上記第1実施形態と異なる。
次いで制御部は、ステップS17へ移る。ステップS17において制御部は基板1上に形成された第1磁性層5上に第2磁性層6を形成し、次ステップへ移る。
次に本実施形態に係る製造装置の変形例について説明する。上記第2実施形態と同様の構成については同様の符号を付し、説明を省略する。本変形例に係る製造装置は、磁場発生部が消磁用加熱チャンバと第2磁性層形成チャンバ29の間に設けられている点が上記第2実施形態と異なる。
次に本実施形態に係る製造装置の別の変形例について説明する。上記第2実施形態と同様の構成については同様の符号を付し、説明を省略する。本変形例は、図12のステップS512に相当するプロセスフローが上記第2実施形態と異なる。以下、図14を参照して図12のステップS512に相当するプロセスフロー105について説明する。
次に第3実施形態に係る製造装置について説明する。上記第1実施形態と同様の構成については同様の符号を付し、説明を省略する。本実施形態に係る製造装置は、磁場発生部が第1磁性層形成チャンバ28Cに設けられているスパッタリング用の磁石ユニットである点が上記第1実施形態と異なる。
本発明は上記実施形態に限定されるものではなく、本発明の趣旨の範囲内で適宜変更することが可能である。例えば、上記実施形態の場合、垂直磁気記録媒体は、基板の両面に多層膜が形成されている場合について説明したが、本発明はこれに限らず、基板の一方の面にのみ多層膜が形成されることとしてもよい。
5 :第1磁性層(磁性層)
6 :第2磁性層
20A :製造装置(垂直磁気記録媒体の製造装置)
27 :加熱チャンバ
28A :第1磁性層形成チャンバ
52A :磁場発生部
Claims (23)
- 基板上に高磁気異方性材料を含む磁性層を形成する垂直磁気記録媒体の製造方法であって、
前記基板を400℃以上に加熱する加熱工程と、
加熱された前記基板上に前記磁性層を形成する磁性層形成工程と、
前記磁性層が加熱されたことにより保磁力が低下した前記磁性層の表面に対し平行な磁場を印加し、前記磁性層を消磁する消磁工程と
を有することを特徴とする垂直磁気記録媒体の製造方法。 - 基板上に高磁気異方性材料を含む磁性層を形成する垂直磁気記録媒体の製造方法であって、
前記基板上に前記磁性層を形成する磁性層形成工程と、
前記磁性層を400℃以上に加熱する加熱工程と、
前記磁性層が加熱されたことにより保磁力が低下した前記磁性層の表面に対し平行な磁場を印加し、前記磁性層を消磁する消磁工程と
を有することを特徴とする垂直磁気記録媒体の製造方法。 - 前記高磁気異方性材料は、K U ≧5×10 6 erg/ccであることを特徴とする請求項1又は2に記載の垂直磁気記録媒体の製造方法。
- 前記磁性層は、Co-Pt、Fe-Co-Pt、Fe-Pt、Co-Pd、Fe-Co-Pd、又はFe-Pdを含むことを特徴とする請求項1又は2に記載の垂直磁気記録媒体の製造方法。
- 前記消磁工程は、前記磁性層のキュリー温度未満であって当該キュリー温度より200℃低い温度を超える温度で行われることを特徴とする請求項1又は2に記載の垂直磁気記録媒体の製造方法。
- 前記消磁工程は、前記磁性層のキュリー温度未満であって当該キュリー温度より100℃低い温度を超える温度で行われることを特徴とする請求項1又は2に記載の垂直磁気記録媒体の製造方法。
- 前記磁性層上に前記磁性層より保磁力が小さい別の磁性層を形成する工程を有することを特徴とする請求項1又は2に記載の垂直磁気記録媒体の製造方法。
- 前記加熱工程の前に、前記基板に配向層を形成する工程を含むことを特徴とする請求項1に記載の垂直磁気記録媒体の製造方法。
- 前記消磁工程は、1×10 −1 Pa以下で行われることを特徴とする請求項1又は2に記載の垂直磁気記録媒体の製造方法。
- 前記消磁工程は、前記磁性層を形成した後の、前記基板搬送中に行われることを特徴とする請求項1又は2に記載の垂直磁気記録媒体の製造方法。
- 前記磁性層形成工程中、前記基板上に生じる磁場が30G以下であることを特徴とする請求項1又は2に記載の垂直磁気記録媒体の製造方法。
- 複数のチャンバ間を、基板を搬送させて、前記基板上に高磁気異方性材料を含む磁性層を形成する垂直磁気記録媒体の製造装置であって、
前記基板を搬送する搬送部と、
前記基板を加熱する加熱部と、
前記基板上にスパッタリングにより前記磁性層を形成する磁性層形成チャンバと、
前記磁性層が形成された前記基板に対して、当該基板の表面に平行な磁場を印加する磁場発生部と、
制御部と
を備え、
前記制御部は、前記加熱部により、前記基板を400℃以上に加熱し、前記磁性層形成チャンバ内で前記基板上に前記磁性層を形成し、
前記磁性層が加熱されたことにより保磁力が低下した前記磁性層の表面に対し、前記磁場発生部により、平行な磁場を印加し、前記磁性層を消磁するように構成されていることを特徴とする垂直磁気記録媒体の製造装置。 - 複数のチャンバ間を、基板を搬送させて、前記基板上に高磁気異方性材料を含む磁性層を形成する垂直磁気記録媒体の製造装置であって、
前記基板を搬送する搬送部と、
前記基板を加熱する加熱部と、
前記基板上にスパッタリングにより前記磁性層を形成する磁性層形成チャンバと、
前記磁性層が形成された前記基板に対して、当該基板の表面に平行な磁場を印加する磁場発生部と、
制御部と
を備え、
前記制御部は、前記磁性層形成チャンバ内で前記基板上に形成された前記磁性層を、400℃以上に加熱することにより、保磁力が低下した前記磁性層の表面に対し、前記磁場発生部により、平行な磁場を印加し、前記磁性層を消磁するように構成されていることを特徴とする垂直磁気記録媒体の製造装置。 - 前記磁場発生部は、前記磁性層形成チャンバで成膜中の前記基板に生じる磁場が30G以下になるように、前記磁性層形成チャンバと、前記磁性層形成チャンバの搬送方向の下流側に開閉可能なゲートバルブを介して接続されたチャンバとの間に設けられていることを特徴とする請求項12又は13に記載の垂直磁気記録媒体の製造装置。
- 前記磁性層形成チャンバから、前記磁性層形成チャンバの搬送方向の下流側に開閉可能なゲートバルブを介して接続されたチャンバへ搬送される間に、前記基板を加熱する補助加熱部が設けられていることを特徴とする請求項12に記載の垂直磁気記録媒体の製造装置。
- 前記磁性層形成チャンバは、前記基板の両面に前記磁性層を形成し、
前記磁場発生部は、前記搬送部により搬送された前記基板の両側に設けられていることを特徴とする請求項12又は13に記載の垂直磁気記録媒体の製造装置。 - 前記加熱部及び前記磁場発生部は、前記磁性層形成チャンバの搬送方向の下流側に開閉可能なゲートバルブを介して接続された、消磁用加熱チャンバ内に設けられていることを特徴とする請求項12又は13に記載の垂直磁気記録媒体の製造装置。
- 前記磁場発生部は、前記磁性層形成チャンバに設けられた電磁石であり、
前記制御部は、前記磁場発生部からの磁場が、前記磁性層形成チャンバ内のスパッタリングに影響を与えないように、前記磁性層を成膜している間、前記電磁石をオフしていることを特徴とする請求項12又は13に記載の垂直磁気記録媒体の製造装置。 - 複数のチャンバ間を、基板を搬送させて、前記基板上に高磁気異方性材料を含む磁性層を形成する垂直磁気記録媒体の製造装置であって、
前記基板を加熱する加熱部と、
前記基板上にスパッタリングにより前記磁性層を形成する磁性層形成チャンバと、
制御部と
を備え、
前記磁性層形成チャンバは、
前記基板の両側に設けられた一対のターゲット保持部と、
一対の前記ターゲット保持部の裏側に回転可能に設けられた一対の磁石ユニットと
を有し、
前記制御部は、前記加熱部により、前記基板を400℃以上に加熱し、前記磁性層形成チャンバ内で一対の前記磁石ユニットを回転させながら、前記基板上に磁性層を形成した後、
一対の前記磁石ユニットを磁極が同期した状態で停止させて、前記磁性層が加熱されたことにより保磁力が低下した前記磁性層の表面に対し、平行な磁場を印加し、前記磁性層を消磁するように構成されている
ことを特徴とする垂直磁気記録媒体の製造装置。 - 前記加熱部は、前記磁性層形成チャンバの搬送方向の上流側に開閉可能なゲートバルブを介して接続されていることを特徴とする請求項12,13及び19のいずれか1項に記載の垂直磁気記録媒体の製造装置。
- 前記加熱部の搬送方向の上流側に、配向層形成チャンバが接続されていることを特徴とする請求項12,13及び19のいずれか1項に記載の垂直磁気記録媒体の製造装置。
- 前記消磁工程は、前記磁性層の巨大領域の磁区を分断し磁区を小さくすることを特徴とする請求項1〜11のいずれか1項記載の垂直磁気記録媒体の製造方法。
- 前記磁場発生部は、前記磁性層の巨大領域の磁区を分断し磁区を小さくすることを特徴とする請求項12〜21のいずれか1項記載の垂直磁気記録媒体の製造装置。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2012107774A JP5681879B2 (ja) | 2012-05-09 | 2012-05-09 | 垂直磁気記録媒体の製造方法及び製造装置 |
US13/890,628 US20130302532A1 (en) | 2012-05-09 | 2013-05-09 | Method and apparatus for manufacturing perpendicular magnetic recording medium |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2012107774A JP5681879B2 (ja) | 2012-05-09 | 2012-05-09 | 垂直磁気記録媒体の製造方法及び製造装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2013235634A JP2013235634A (ja) | 2013-11-21 |
JP5681879B2 true JP5681879B2 (ja) | 2015-03-11 |
Family
ID=49548825
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2012107774A Expired - Fee Related JP5681879B2 (ja) | 2012-05-09 | 2012-05-09 | 垂直磁気記録媒体の製造方法及び製造装置 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20130302532A1 (ja) |
JP (1) | JP5681879B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN110622244A (zh) * | 2018-03-16 | 2019-12-27 | 索尼公司 | 取向装置、磁记录介质的制造方法和磁记录介质 |
Family Cites Families (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS60182711A (ja) * | 1984-02-29 | 1985-09-18 | Konishiroku Photo Ind Co Ltd | 磁性薄膜の形成方法およびその装置 |
JPH0520683A (ja) * | 1991-02-13 | 1993-01-29 | Alps Electric Co Ltd | 磁性膜フレークの除去方法 |
JP3617400B2 (ja) * | 2000-01-24 | 2005-02-02 | 日本ビクター株式会社 | 垂直磁気記録媒体の製造方法 |
JP4673779B2 (ja) * | 2006-03-24 | 2011-04-20 | ダブリュディ・メディア・シンガポール・プライベートリミテッド | 磁気記録媒体の製造方法及び成膜装置 |
JP4794514B2 (ja) * | 2007-07-11 | 2011-10-19 | 昭和電工株式会社 | 磁気記録媒体の製造方法および製造装置 |
JP4923092B2 (ja) * | 2009-10-15 | 2012-04-25 | 株式会社日立製作所 | 磁気記録媒体初期化装置 |
JP5670638B2 (ja) * | 2010-01-26 | 2015-02-18 | 昭和電工株式会社 | 熱アシスト磁気記録媒体及び磁気記録再生装置 |
JP5897399B2 (ja) * | 2012-05-02 | 2016-03-30 | 株式会社日立製作所 | マイクロ波アシスト記録用磁気記録媒体及びこれを用いた情報記録装置 |
-
2012
- 2012-05-09 JP JP2012107774A patent/JP5681879B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
2013
- 2013-05-09 US US13/890,628 patent/US20130302532A1/en not_active Abandoned
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2013235634A (ja) | 2013-11-21 |
US20130302532A1 (en) | 2013-11-14 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5882934B2 (ja) | スパッタリング装置 | |
JP6224677B2 (ja) | スパッタリング装置 | |
US11049513B1 (en) | Magnetic recording head with non-magnetic conductive structure surrounding a main pole and contacting a spin torque oscillator | |
CN100367362C (zh) | 具有Co合金和Pt薄膜交替层叠结构的垂直磁记录介质、其制造方法和装置 | |
US9076476B2 (en) | Thin film media structure for perpendicular magnetic recording and storage devices made therewith | |
JP2014010880A (ja) | データ記憶装置、磁気書込要素、および方法 | |
JP5681879B2 (ja) | 垂直磁気記録媒体の製造方法及び製造装置 | |
US9034157B2 (en) | Forming oriented film for magnetic recording material | |
US20100108496A1 (en) | Sputtering apparatus, thin film formation apparatus, and magnetic recording medium manufacturing method | |
US20100006420A1 (en) | Inline interlayer heater apparatus | |
JP6303167B2 (ja) | インライン式成膜装置及びそれを用いた磁気記録媒体の製造方法 | |
JP5336151B2 (ja) | 薄膜形成装置及び磁気記録媒体の製造方法 | |
JP2003288713A (ja) | 垂直磁気記録媒体とそれを備えた磁気記録装置及び垂直磁気記録媒体の製造方法並びに製造装置 | |
JP2008176847A (ja) | 薄膜積層体の製造方法、及び薄膜積層体製造装置と磁気記録媒体および磁気記録再生装置 | |
JP5981564B2 (ja) | 磁気記録媒体及びその製造方法 | |
JP2007066416A (ja) | 垂直磁気記録媒体の製造方法及び垂直磁気記録媒体、磁気ディスク装置 | |
JP2008257759A (ja) | 磁気記録媒体の製造方法 | |
US8208238B1 (en) | Apparatus for orienting soft-underlayer deposition | |
JP2003281707A (ja) | 磁気記録媒体 | |
JP2006209903A (ja) | 情報記録媒体 | |
US8771850B2 (en) | Carbon-deuterium protective overcoat layer | |
JP5364455B2 (ja) | マグネトロンスパッタ装置及びインライン式成膜装置 | |
US20150348764A1 (en) | Rotating disk carrier with pbn heater | |
JP2004047924A (ja) | 磁性薄膜の形成方法、磁気記録媒体およびその製造方法、ならびに熱処理装置 | |
JP2006059453A (ja) | 垂直磁気記録媒体の製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20140306 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20140401 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20140519 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20140924 |
|
A711 | Notification of change in applicant |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A711 Effective date: 20141010 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20141022 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20141030 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5681879 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |