JP5259688B2 - 走査型電子顕微鏡 - Google Patents
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Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
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Description
1a…開口先端部
2…電子銃
3…コンデンサレンズ
4…走査レンズ部
5…走査コイル
6…対物レンズ
7…シール部材
8…シンチレータ
9…コネクタ
10,11…コア
300…試料室
A…制御装置群
B…電子線制御部
C…走査レンズ部移動制御部
D…表示部
E…コントローラ部
F…ライトガイド
H…隔壁
J1,J2…永久磁石
K…開閉扉
L…信号線
M…光電子倍増管
O…載置台
P…排出路
Q…球面座
R1〜R4…極性切換スイッチ
S1…二次電子検出器
S2…反射電子検出器
T…遮断扉
X…試料(観察対象物)
Z…電子線(電子ビーム)
Claims (6)
- 電子線を発生する電子銃と、
前記電子銃から発生される電子線を集束する集束レンズと、
前記集束した電子線を偏向する走査コイルと、
前記偏向した電子線の焦点を観察対象物にあわせる対物レンズと、
前記対物レンズを前記走査コイルと共に一体的に移動させる移動機構と、
前記電子線の照射に伴い観察対象物から放出される二次電子を検出する二次電子検出器及び前記電子線の照射に伴い観察対象物から放出される反射電子を検出する反射電子検出器の少なくともいずれか一方と、
前記電子銃から発生された電子線の進行方向側の先端部が開口した鏡筒であって、当該鏡筒内に少なくとも前記電子銃と前記集束レンズと前記走査コイルと前記対物レンズと前記移動機構とを含んでなるものと、
前記鏡筒の開口先端部に設けられ前記観察対象物と接触させるシール部材と、
前記鏡筒内を真空に引くことに従い前記シール部材を介して前記鏡筒に観察対象物を吸着させる真空手段と
を備えてなり、
前記移動機構は、前記対物レンズ及び前記走査コイルを球面体上で移動させるための駆動モータと、前記球面体を形成する球面座とを少なくとも含み、該球面座はその球面体の中心点が前記集束レンズの焦点位置に一致する曲率に形成されてなり、
前記移動機構によって前記対物レンズと前記走査コイルとを一体的に移動することにより、前記鏡筒に観察対象物を吸着させたまま前記鏡筒内における前記電子線の進行方向を制御して視野移動することを特徴とする電子顕微鏡。 - 前記二次電子検出器はシンチレータとライトガイドと光電子増倍管とを少なくとも含んでなるものであって、前記光電子増倍管を前記鏡筒外部に前記鏡筒とは別途独立に分離配置すると共に、前記鏡筒内部に敷設された前記シンチレータにより取得された二次電子を前記光電子増倍管に伝送する前記ライトガイドをフレキシブルな素材からなる光信号伝送路で形成したことを特徴とする請求項1に記載の電子顕微鏡。
- 前記集束レンズ及び前記対物レンズの少なくともいずれか一方は永久磁石を用いて形成してなることを特徴とする請求項1又は2に記載の電子顕微鏡。
- 前記集束レンズ及び前記対物レンズの少なくともいずれか一方は、前記電子銃から発生された電子線を通すための孔を有する永久磁石をコアが囲むと共に、該コアの前記孔に面した端部を前記永久磁石側に傾いた形状に形成してなることを特徴とする請求項3に記載の電子顕微鏡。
- 前記反射電子検出器は、電子線照射に従い観察対象物から放出される反射電子を検出する検知領域を4分割した検出器であることを特徴とする請求項1乃至4のいずれかに記載の電子顕微鏡。
- 前記鏡筒内を2つの部屋に隔離する隔壁と、前記真空手段と前記2つの部屋それぞれとを結ぶ排出路と、前記2つの部屋のうち開口先端部側の部屋と前記真空手段とを結ぶ排出路を開閉する扉とを設けたことを特徴とする請求項1乃至5のいずれかに記載の電子顕微鏡。
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| EP1978355B1 (en) * | 2006-01-20 | 2016-07-27 | Hitachi High-Technologies Corporation | Method of observing sample using a liquid medium for preventing charge-up in an electron microscope |
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