JP2012124052A - 走査型電子顕微鏡 - Google Patents
走査型電子顕微鏡 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2012124052A JP2012124052A JP2010274626A JP2010274626A JP2012124052A JP 2012124052 A JP2012124052 A JP 2012124052A JP 2010274626 A JP2010274626 A JP 2010274626A JP 2010274626 A JP2010274626 A JP 2010274626A JP 2012124052 A JP2012124052 A JP 2012124052A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- lens barrel
- electron
- observation object
- electron beam
- lens
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 claims description 95
- 238000001514 detection method Methods 0.000 claims description 11
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims description 7
- 238000005192 partition Methods 0.000 claims description 5
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 2
- 230000008054 signal transmission Effects 0.000 claims description 2
- 230000000007 visual effect Effects 0.000 claims description 2
- 238000001179 sorption measurement Methods 0.000 abstract description 3
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 7
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 6
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 5
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 5
- 238000000921 elemental analysis Methods 0.000 description 4
- 239000013307 optical fiber Substances 0.000 description 4
- 230000004075 alteration Effects 0.000 description 3
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 description 3
- 230000008859 change Effects 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 3
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 2
- 231100000989 no adverse effect Toxicity 0.000 description 2
- 239000003973 paint Substances 0.000 description 2
- 230000004044 response Effects 0.000 description 2
- 230000009471 action Effects 0.000 description 1
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
- 230000032683 aging Effects 0.000 description 1
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 1
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 1
- 230000006378 damage Effects 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- 230000005684 electric field Effects 0.000 description 1
- 230000008030 elimination Effects 0.000 description 1
- 238000003379 elimination reaction Methods 0.000 description 1
- 230000004907 flux Effects 0.000 description 1
- 238000011835 investigation Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 1
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 1
- 230000002123 temporal effect Effects 0.000 description 1
- 239000013585 weight reducing agent Substances 0.000 description 1
- 238000004804 winding Methods 0.000 description 1
- 238000004846 x-ray emission Methods 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/02—Details
- H01J37/18—Vacuum locks ; Means for obtaining or maintaining the desired pressure within the vessel
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/02—Details
- H01J37/16—Vessels; Containers
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J2237/00—Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
- H01J2237/02—Details
- H01J2237/024—Moving components not otherwise provided for
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J2237/00—Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
- H01J2237/16—Vessels
- H01J2237/162—Open vessel, i.e. one end sealed by object or workpiece
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J2237/00—Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
- H01J2237/20—Positioning, supporting, modifying or maintaining the physical state of objects being observed or treated
- H01J2237/2005—Seal mechanisms
- H01J2237/2006—Vacuum seals
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)
Abstract
【解決手段】 鏡筒の開口先端部に観察対象物と接触させるシール部材を設け、真空ポンプにより鏡筒内が真空に引かれた場合にシール部材を介して当該鏡筒に観察対象物を吸着させ、鏡筒を観察対象物に直接接触させた状態で密着固定するようにした。すなわち、試料室がないかわりに吸着により観察対象物と鏡筒とが相対的に移動しないように密着固定させる。こうすると、試料室がないにも関わらず、鏡筒内を真空状態に確保することができ、また振動により鏡筒と観察対象物とは相対的に移動しないことから観察時の悪影響が生じない。こうして鏡筒を観察対象物に対し直接マウントすることで、従来では試料室に入りきらない観察対象物であっても加工を施すことなく現状状態そのままで観察を行うことができるようになる。
【選択図】 図1
Description
1a…開口先端部
2…電子銃
3…コンデンサレンズ
4…走査レンズ部
5…走査コイル
6…対物レンズ
7…シール部材
8…シンチレータ
9…コネクタ
10,11…コア
300…試料室
A…制御装置群
B…電子線制御部
C…走査レンズ部移動制御部
D…表示部
E…コントローラ部
F…ライトガイド
H…隔壁
J1,J2…永久磁石
K…開閉扉
L…信号線
M…光電子倍増管
O…載置台
P…排出路
Q…球面座
R1〜R4…極性切換スイッチ
S1…二次電子検出器
S2…反射電子検出器
T…遮断扉
X…試料(観察対象物)
Z…電子線(電子ビーム)
Claims (7)
- 電子線を発生する電子銃と、前記電子銃から発生される電子線を集束及び偏向して観察対象物に照射する走査偏向手段と、前記電子線照射に伴い観察対象物から放出される二次電子を検出する二次電子検出器及び前記電子線照射に伴い観察対象物から放出される反射電子を検出する反射電子検出器の少なくともいずれか一方とを備えた電子顕微鏡において、
前記電子銃から発生された電子線の進行方向側の先端部が開口した鏡筒であって、当該鏡筒内に少なくとも前記電子銃と前記走査偏向手段とを含んでなるものと、
前記鏡筒の開口先端部に設けられ前記観察対象物と接触させるシール部材と、
前記鏡筒内を真空に引く真空ポンプと
を備えてなり、
前記鏡筒内を真空に引くことに従って前記シール部材を介して当該鏡筒に観察対象物を吸着させることにより、前記鏡筒を観察対象物に直接接触させた状態で密着固定することを特徴とする電子顕微鏡。 - 前記二次電子検出器はシンチレータとライトガイドと光電子増倍管とを少なくとも含んでなるものであって、前記光電子増倍管を前記鏡筒外部に前記鏡筒とは別途独立に分離配置すると共に、前記鏡筒内部に敷設された前記シンチレータにより取得された二次電子を前記光電子増倍管に伝送する前記ライトガイドをフレキシブルな素材からなる光信号伝送路で形成したことを特徴とする請求項1に記載の電子顕微鏡。
- 前記走査偏向手段は、電子線を集束するコンデンサレンズと該集束された電子線の焦点を観察対象物にあわせる対物レンズとを含み、前記コンデンサレンズ及び前記対物レンズの少なくともいずれか一方は永久磁石を用いて形成してなることを特徴とする請求項1又は2に記載の電子顕微鏡。
- 前記コンデンサレンズ及び前記対物レンズの少なくともいずれか一方は、前記電子銃から発生された電子線を通すための孔を有する永久磁石をコアが囲むと共に、該コアの前記孔に面した端部を前記永久磁石側に傾いた形状に形成してなることを特徴とする請求項3に記載の電子顕微鏡。
- 前記対物レンズは前記電子線を偏向する走査コイルと一体構成されてなり、前記対物レンズを前記走査コイルと共に一体的に球面座に従って一定の球面上を移動させることによって、前記鏡筒内における前記電子線の進行方向を制御して視野移動することを特徴とする請求項1乃至4のいずれかに記載の電子顕微鏡。
- 前記反射電子検出器は、電子線照射に従い観察対象物から放出される反射電子を検出する検知領域を4分割した検出器であることを特徴とする請求項1乃至5のいずれかに記載の電子顕微鏡。
- 前記鏡筒内を2つの部屋に隔離する隔壁と、前記真空ポンプと前記2つの部屋それぞれとを結ぶ排出路と、前記2つの部屋のうち開口先端部側の部屋と前記真空ポンプとを結ぶ排出路を開閉する扉とを設けたことを特徴とする請求項1乃至6のいずれかに記載の電子顕微鏡。
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2010274626A JP5259688B2 (ja) | 2010-12-09 | 2010-12-09 | 走査型電子顕微鏡 |
US13/313,606 US8610061B2 (en) | 2010-12-09 | 2011-12-07 | Scanning electron microscope |
DE102011087955.2A DE102011087955B4 (de) | 2010-12-09 | 2011-12-08 | Raster-Elektronen-Mikroskop |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2010274626A JP5259688B2 (ja) | 2010-12-09 | 2010-12-09 | 走査型電子顕微鏡 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2012124052A true JP2012124052A (ja) | 2012-06-28 |
JP5259688B2 JP5259688B2 (ja) | 2013-08-07 |
Family
ID=46144852
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2010274626A Expired - Fee Related JP5259688B2 (ja) | 2010-12-09 | 2010-12-09 | 走査型電子顕微鏡 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US8610061B2 (ja) |
JP (1) | JP5259688B2 (ja) |
DE (1) | DE102011087955B4 (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2014157772A (ja) * | 2013-02-18 | 2014-08-28 | Horon:Kk | 走査型電子顕微鏡および検査装置 |
JP2018092952A (ja) * | 2018-03-15 | 2018-06-14 | 株式会社ホロン | 走査型電子顕微鏡および検査装置 |
Families Citing this family (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US8476585B2 (en) * | 2011-03-02 | 2013-07-02 | Gatan, Inc. | Microtome utilizing a movable knife in a retardation field scanning electron microscope and a retardation field scanning electron microscope including the same |
JP5759815B2 (ja) * | 2011-07-19 | 2015-08-05 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 電子顕微鏡 |
US8735815B2 (en) | 2012-06-22 | 2014-05-27 | Edax, Inc. | Method and apparatus for electron pattern imaging |
DE102017123288B4 (de) * | 2017-10-06 | 2019-11-21 | Airbus Defence and Space GmbH | Vorrichtung und Verfahren zum Prüfen elektronischer Bauelemente |
CN112349570B (zh) * | 2020-11-09 | 2023-09-26 | 宁波工程学院 | 一种新型的扫描电子显微镜 |
Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5632656A (en) * | 1979-08-23 | 1981-04-02 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | Scanning electron microscope device |
JPH06215716A (ja) * | 1993-01-18 | 1994-08-05 | Hitachi Ltd | 走査電子顕微鏡 |
JPH07142022A (ja) * | 1993-11-19 | 1995-06-02 | Hitachi Ltd | 集束イオンビーム装置及び荷電粒子検出器 |
JP2002203507A (ja) * | 2000-12-28 | 2002-07-19 | Shimadzu Corp | 凹凸像形成装置及び電子線分析装置 |
JP2004031207A (ja) * | 2002-06-27 | 2004-01-29 | Canon Inc | 電子線照射装置および走査型電子顕微鏡装置 |
JP2007311117A (ja) * | 2006-05-17 | 2007-11-29 | Hitachi High-Technologies Corp | 電子レンズ及びそれを用いた荷電粒子線装置 |
Family Cites Families (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
FR2316035A1 (fr) | 1975-07-02 | 1977-01-28 | Sciaky Sa | Installation d'usinage sous vide par faisceau electronique |
CS267642B1 (en) | 1987-12-18 | 1990-02-12 | Josef Ing Melkes | Portable rastering electron microscope |
JPH04349964A (ja) | 1991-02-06 | 1992-12-04 | Toshiba Lighting & Technol Corp | 溶液の塗付装置 |
SG74599A1 (en) | 1997-09-27 | 2000-08-22 | Inst Of Material Res & Enginee | Portable high resolution scanning electron microscope column using permanent magnet electron lenses |
JP4473964B2 (ja) * | 2000-10-18 | 2010-06-02 | エフ・イ−・アイ・カンパニー | Fibカラム |
US6797953B2 (en) * | 2001-02-23 | 2004-09-28 | Fei Company | Electron beam system using multiple electron beams |
NL1023260C1 (nl) | 2003-04-24 | 2004-10-27 | Fei Co | Deeltjes-optisch apparaat met een permanent magnetische lens en een elektrostatische lens. |
JP4349964B2 (ja) | 2003-09-10 | 2009-10-21 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 小型電子銃 |
NL1026006C2 (nl) | 2004-04-22 | 2005-10-25 | Fei Co | Deeltjes-optisch apparaat voorzien van lenzen met permanent magnetisch materiaal. |
US7880144B2 (en) * | 2006-01-20 | 2011-02-01 | Juridical Foundation Osaka Industrial Promotion Organization c/o Mydome Osaka | Liquid medium for preventing charge-up in electron microscope and method of observing sample using the same |
CZ298798B6 (cs) | 2007-07-30 | 2008-01-30 | Tescan, S. R. O. | Zarízení pro prostorové zobrazování vzorku v reálném case |
JP2010274626A (ja) | 2009-06-01 | 2010-12-09 | Pilot Ink Co Ltd | 塗布具 |
WO2011132789A1 (ja) * | 2010-04-19 | 2011-10-27 | シチズンホールディングス株式会社 | エッジング前レンズ及びエッジングレンズの製造方法 |
-
2010
- 2010-12-09 JP JP2010274626A patent/JP5259688B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
2011
- 2011-12-07 US US13/313,606 patent/US8610061B2/en active Active
- 2011-12-08 DE DE102011087955.2A patent/DE102011087955B4/de not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5632656A (en) * | 1979-08-23 | 1981-04-02 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | Scanning electron microscope device |
JPH06215716A (ja) * | 1993-01-18 | 1994-08-05 | Hitachi Ltd | 走査電子顕微鏡 |
JPH07142022A (ja) * | 1993-11-19 | 1995-06-02 | Hitachi Ltd | 集束イオンビーム装置及び荷電粒子検出器 |
JP2002203507A (ja) * | 2000-12-28 | 2002-07-19 | Shimadzu Corp | 凹凸像形成装置及び電子線分析装置 |
JP2004031207A (ja) * | 2002-06-27 | 2004-01-29 | Canon Inc | 電子線照射装置および走査型電子顕微鏡装置 |
JP2007311117A (ja) * | 2006-05-17 | 2007-11-29 | Hitachi High-Technologies Corp | 電子レンズ及びそれを用いた荷電粒子線装置 |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2014157772A (ja) * | 2013-02-18 | 2014-08-28 | Horon:Kk | 走査型電子顕微鏡および検査装置 |
JP2018092952A (ja) * | 2018-03-15 | 2018-06-14 | 株式会社ホロン | 走査型電子顕微鏡および検査装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP5259688B2 (ja) | 2013-08-07 |
US20120145899A1 (en) | 2012-06-14 |
US8610061B2 (en) | 2013-12-17 |
DE102011087955A1 (de) | 2012-06-14 |
DE102011087955B4 (de) | 2019-06-19 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5259688B2 (ja) | 走査型電子顕微鏡 | |
JP3776887B2 (ja) | 電子線装置 | |
JP6814282B2 (ja) | 荷電粒子線装置 | |
JP2002042713A (ja) | 対物レンズ内検出器を備えた走査電子顕微鏡 | |
JP4354197B2 (ja) | 走査電子顕微鏡 | |
US11640897B2 (en) | Charged particle beam device | |
JP2004031207A (ja) | 電子線照射装置および走査型電子顕微鏡装置 | |
JP2007305499A (ja) | 差動排気走査形電子顕微鏡 | |
JP2008198471A (ja) | 荷電粒子ビーム装置 | |
JP4988308B2 (ja) | ガス増幅形検出器およびそれを用いた電子線応用装置 | |
JP5749028B2 (ja) | 走査型電子顕微鏡 | |
JP2002324510A (ja) | 走査電子顕微鏡 | |
JP2003151484A (ja) | 走査型荷電粒子ビーム装置 | |
US10460904B2 (en) | Imaging device for imaging an object and for imaging a structural unit in a particle beam apparatus | |
JPH08138611A (ja) | 荷電粒子線装置 | |
JP2010182596A (ja) | 荷電粒子ビーム装置 | |
JP2001006591A (ja) | 荷電粒子ビーム装置 | |
JP4146103B2 (ja) | 電界放射型電子銃を備えた電子ビーム装置 | |
JPH07169429A (ja) | 走査透過電子顕微鏡 | |
JP7307768B2 (ja) | 走査電子顕微鏡および対物レンズ | |
JPWO2018220809A1 (ja) | 荷電粒子線装置 | |
JP4079503B2 (ja) | 分析電子顕微鏡 | |
JP6016938B2 (ja) | 荷電粒子線装置およびそれを用いた観察方法 | |
JP3767443B2 (ja) | 荷電粒子線装置 | |
WO2021001935A1 (ja) | 荷電粒子線装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20121019 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20121030 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20121221 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20130129 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20130228 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20130416 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20130424 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20160502 Year of fee payment: 3 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5259688 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |