JP5252184B2 - 凹凸表面検査装置 - Google Patents

凹凸表面検査装置 Download PDF

Info

Publication number
JP5252184B2
JP5252184B2 JP2008064458A JP2008064458A JP5252184B2 JP 5252184 B2 JP5252184 B2 JP 5252184B2 JP 2008064458 A JP2008064458 A JP 2008064458A JP 2008064458 A JP2008064458 A JP 2008064458A JP 5252184 B2 JP5252184 B2 JP 5252184B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
imaging
optical axis
slit
unit
slit light
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP2008064458A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2009222418A (ja
Inventor
昌孝 戸田
聡彦 吉川
克也 犬塚
耕嗣 久野
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Aisin Corp
Original Assignee
Aisin Seiki Co Ltd
Aisin Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Aisin Seiki Co Ltd, Aisin Corp filed Critical Aisin Seiki Co Ltd
Priority to JP2008064458A priority Critical patent/JP5252184B2/ja
Priority to US12/400,140 priority patent/US8049868B2/en
Priority to EP09155027.7A priority patent/EP2101144B1/en
Publication of JP2009222418A publication Critical patent/JP2009222418A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP5252184B2 publication Critical patent/JP5252184B2/ja
Expired - Fee Related legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01BMEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
    • G01B11/00Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques
    • G01B11/24Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring contours or curvatures
    • G01B11/25Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring contours or curvatures by projecting a pattern, e.g. one or more lines, moiré fringes on the object

Description

本発明は、スリット光を測定対象物の凹凸表面に照射するスリット光源ユニットと、前記スリット光を照射された前記凹凸表面を撮像する撮像ユニットと、前記撮像ユニットによって取得された画像データに基づいて前記凹凸表面の3次元形状を算出する評価部とを備えた凹凸表面検査装置に関する。
上述した凹凸表面検査装置として、測定対象物にスリット光を照射するスリット光源と、このスリット光が測定対象物に当たっているときのスリット画像を撮影するカメラと、このカメラから得られるスリット画像から3次元データを求める画像処理部とからなる装置が知られている(例えば、特許文献1参照)。この従来装置では、凹凸として比較的深い溝が多数形成されている表面を検査する場合、スリット光がスリット光軸を中心として扇状に拡がっているため、スリット光軸から離れた周辺領域のスリット光によって照射される溝には死角が生じる。従って、この扇状に拡がったスリット光によって照射される表面を撮像した画像にはその底部が完全に写っていない溝が現れ、結果的にその隠れた部分の形状測定が不可能となる問題が発生する。
また、測定対象物に斜め方向からスリット光を照射する光源と、テレセントリック系レンズを介してスリット光の反射光像を撮像するイメージセンサと、このイメージセンサにより撮像されたリット光の反射光像から測定対象物表面部の高さを求める画像処理手段とを備えた高さ測定装置が知られている(例えば、特許文献2)。この装置では、さらに、スリット光の反射方向に設けられてスリット光の反射光像を透過するととともにその透過方向とは異なる向きに反射するハーフミラーが備えられ、複数のイメージセンサのそれぞれがハーフミラーを透過した反射光像およびハーフミラーにより反射された反射光像を撮像されるように配置されている。この装置では、テレセントリック系レンズを用いることでスリット光の反射光像をイメージセンサがより確実に撮像することができる。しかしながら、スリット光軸及び撮影光軸が鉛直軸に対して45度程度傾いており、これにより、比較的深い溝が多数形成されている表面に対する撮像する際には死角が生じることになる。
特開平4−301707号公報(段落番号0005−0006、図3) 特開2001−194116号公報(0011,0012、図1)
本発明の目的は、上述した実情に鑑み、スリット光を用いて被測定物の凹凸表面を検査する際の死角の発生を抑制した凹凸表面検査装置を提供することである。
上記課題を解決するため、本発明による凹凸表面検査装置は、スリット光を測定対象物の凹凸表面に照射するスリット光源ユニットと、前記スリット光を照射された前記凹凸表面を前記スリット光源ユニットのスリット光軸に対して30度以下の狭角で交差する撮像光軸で撮像する撮像ユニットと、前記撮像ユニットによって取得された画像データに基づいて前記凹凸表面の3次元形状を算出する評価部とを備え、前記スリット光源ユニットは、スリット光源と、当該スリット光源から出た前記スリット光をその光軸に平行な平行光とするシリンドリカルレンズとを有し、前記撮像ユニットは、テレセントリックレンズと、前記凹凸表面における合焦範囲を拡大するために前記スリット光軸と前記撮像光軸との交差角に対応したあおり傾斜角でその撮像面が前記撮像光軸に対して傾けられている撮像部とを有し、カバーガラスが設けられた前記撮像面にS偏光が入射することを抑制するように前記撮像光軸上にP偏光板が配置されている。
本発明では、スリット光軸と撮像光軸と30度以下の狭角で交差させる構成を採用しているので、スリット光照射領域に対する撮像死角が生じにくく、かつスリット光源ユニットと撮像ユニットとをコンパクトにまとめることが可能となる。また、スリット光をシリンドリカルレンズによって平行光として、測定対象物に照射しているので、スリット光軸から離れた周辺領域のスリット光であっても、測定対象物の凹凸に対して照射死角が生じにくくなる。さらには、撮像素子からなる撮像部の撮像面を撮像光軸に対して傾斜させていることにより、つまりあおり撮影の原理で被写界深度を稼ぐことにより、レンズのもつ被写界深度以上の測定範囲を確保している。このため、スリット光軸と撮像光軸との交差角度が30度以下という狭角であっても、十分な合焦測定範囲を得ることができる。撮像部の撮像面にあおり傾斜角をもたせた場合、撮像光が撮像素子に斜めから入射することになり、撮像素子のカバーガラスの裏面反射に起因するノイズが発生するという問題がある。この問題は、撮像光軸上にP偏光板が配置し、60度前後の大きな入射角においてはS偏光に比べてきわめて低い反射率を示すP偏光だけを撮像素子に導くようにすることで、解決されている。
上述したように、多数の深溝からなる凹凸表面の検査において撮像死角を少なくするためには、前記スリット光軸と前記撮影光軸との交差角度を小さくする必要がある。しかしながら、小さい交差角度は、測定領域における合焦範囲の低下、スリット光源ユニットと撮像ユニットとの配置の困難さ、三角測量における精度の低下など、種々の問題を引き起こす。そのような問題は上述した本発明の特徴によって低減することができるが、検査すべき凹凸形状によってその最適解が変動する。本発明の構成を採用した場合、矩形断面の深溝からなる凹凸表面の検査などでは、前記スリット光軸と前記撮影光軸との交差角度を11度近傍とすることが最適であることが実験的に確かめられている。
また、本発明に係る凹凸表面検査装置は、さらに、前記スリット光軸又は前記撮影光軸のいずれかが鉛直方向となるように前記スリット光源ユニットと前記撮像ユニットとが配置されていることを特徴とする。この特徴によれば、前記スリット光軸又は前記撮影光軸のいずれかが測定対象物の凹凸表面に対して鉛直方向に当たることになり、特に凹凸表面が矩形断面を有する深溝によって形成されている場合などでは、照射死角又は撮像死角が生じにくくなる。
P偏光板は、テレセントリックレンズと撮像部との間に配置することもできるし、テレセントリックレンズと測定対象物との間に配置することもできる。しかしながら、P偏光板をテレセントリックレンズと撮像部との間に配置すると、テレセントリックレンズと撮像部との間の光路長が変化することになり、光学設計が複雑になる。これに比べ、P偏光板をテレセントリックレンズと測定対象物との間に配置した場合、そのテレセントリックレンズと測定対象物との間の光路長の変化はピント調整で簡単に調整できるので、好都合である。
以下に、本発明に係る凹凸表面検査装置の一実施形態として、表面に多数の直線上の深溝が整列形成されている測定対象物の溝断面を検査する表面検査装置を図面を用いて説明する。図1は、この表面検査装置の構成を模式的に示す斜視図である。
表面検査装置は、測定装置部1と、この測定装置部1に対する制御及びその測定結果に対する評価を行うコントローラ100を備えている。測定装置部1は、測定系の主な構成要素として、スリット光を発生させるレーザタイプのスリット光源ユニット2と、測定対象物のスリット光が照射されている領域を撮像する撮像ユニット3とを備えている。このスリット光源ユニット2と撮像ユニット3とは測定ヘッドMHとして一体的に組み付けられている。また測定装置部1は、機構系の主な構成要素として、基台10と、基台10に立設された門形フレーム11、門形フレーム11の中央部分で測定ヘッドMHを昇降可能に支持している昇降機構12を備えている。さらに、測定対象物のポジショニング機構として、測定対象物を載置させるとともに回転する回転テーブル13、回転テーブル13をX−Y平面(スリット光軸に直交する平面)上で移動させるためのX−Y移動機構を構成するX方向移動可能なXステージ14及びY方向移動可能なYステージ15を備えている。
コントローラ100は、実質的にはコンピュータユニットとして形成されており、本発明に関係するものとして、光源制御部80、画像メモリ81、画像処理部82、評価部83、昇降機構制御部84、回転テーブル制御部85、Xステージ制御部86、Yステージ制御部87を備えている。回転テーブル制御部85、Xステージ制御部86、Yステージ制御部87はそれぞれ、回転テーブル13、Xステージ14、Yステージ15の動作を制御して、測定対象物を測定平面(X−Y平面)内の適正な測定位置に設定する。昇降機構制御部84は、昇降機構12の動作を制御して、測定ヘッドMHの測定対象物までの高さを測定可能高さに設定する。
スリット光源ユニット2は、図2に示すように、スリット光源としてのレーザスリット投光器20と、レーザスリット投光器20から出たスリット光をその光軸に平行な平行光とするシリンドリカルレンズ21とを備えている。シリンドリカルレンズ21により、レーザスリット投光器20から出た扇状に拡がっていくスリット光はスリット光軸に平行な平行光に変換され、測定対象物を照射する。
撮像ユニット3は、テレセントリックレンズユニット30と、面状に配置された多数の受光素子(CCDやCMOS)からなる撮像部31と、テレセントリックレンズユニット30の被写体側に配置されたP偏光板32とを備えている。スリット光光源ユニット2からのスリット光が測定対象物の表面に照射され、そこで反射した反射光が、撮像ユニット3の撮像光軸に沿って、P偏光板32とテレセントリックレンズユニット30とを通過して撮像部31に達する様子が図3に示されている。スリット光光源ユニット2のスリット光軸と撮像ユニット3の撮像光軸とが交差する交差角、つまり撮像角αは、この実施の形態では約11度という極めて狭い角度を採用している。従って、図3において点線で示すように、撮像部31の撮像面31aが撮像光軸に直角となる姿勢であると、スリット光軸方向に沿った測定深さの範囲がテレセントリックレンズユニット30の被写界深度を超えていると測定深さの範囲においてピントの合わない領域が生じる。これを回避するため、撮像部31の撮像面31aを撮像光軸に対してあおり角βを作り出すように傾け、あおり撮影の原理で被写界深度を稼いでいる。これにより、テレセントリックレンズユニット30のもつ被写界深度以上の測定範囲においてもピンボケのない撮影画像が取得できる。
ただし、このあおり角βが大きくなると、撮像部31の撮像面31aに設けられているカバーガラス31bの裏面で反射が生じ、撮像画像におけるノイズとなる。あおり角βは撮影光軸の入射角θ1とほぼ等しくするのが好ましいので、もし入射角θ1とあおり角βをほぼ70度とした場合、図4から理解できるように、ほぼ70度の入射角でガラスへ入射した場合、S偏光の反射率が約30%を超えるのに対して、P偏光の反射率はわずか3%程度である。このことから、この実施の形態では、P偏光板32を撮像光軸上に配置し、あおり角βをほぼ70度とすることで、カバーガラス31bの裏面反射に起因するノイズを低減し、かつあおり撮影の原理による被写界深度の拡張効果も十分に得られるようにしている。
撮像ユニット3からコントローラ100に送られてきた撮像画像(画像データ)は、画像メモリ81に展開される。さらに、必要に応じて、画像処理部82によって座標変換やレベル補正、エッジ検出などの画像処理を施され、スリット光による光切断線Sが検出される。評価部83は、スリット光の照射点や照射角度、スリット光軸と撮像光軸とのなす角度が既知なので、画像処理部82で検出された光切断線Sの座標値から三角測量法に基づいて演算することで、光切断線Sつまり複数の直線状深溝の3次元断面形状を得ることができる。なお、三角測量法に基づく演算に代えて、その演算結果を格納したテーブルを用いる方法を採用してもよい。評価部83では、測定対象物において予め区分けされた所定ブロックの測定が完了すると、測定データを用意した該当ブロックにおける形状寸法データと比較することで、検査判定を行う。
上述したように構成された表面検査装置を用いた、測定対象物の検査手順を図5に示されたフローチャートを用いて以下に説明する。ここでの測定対象物は、長方形のプレート体に表面に多数の直線状の深溝が形成されたもので、その測定領域は400mm×300mm程度である。この測定領域は100mm×15mmの測定ブロックに区分けされており、1回のX軸方向走査で4つの測定ブロックを走査して、直線状深溝の3次元断面形状データを取得して、測定ブロック毎に区分けしてメモリに格納する。1回のX軸方向走査が完了する毎に所定ピッチでY軸方向移動を行い、次の測定ブロックに対するX軸方向走査を逆方向で行う。このような、X軸方向走査とY軸方向移動を繰り返すことで、全測定領域おける直線状深溝の3次元断面形状データを取得する。さらに、測定死角の発生を考慮して、測定対象物を90度回転させた状態で、再度測定領域にわたる測定を行う。なお、取得した3次元断面形状データを用いた測定対象物の測定結果に対する評価は、つまり測定対象物に対する検査は、各ブロック単位で行われ、各ブロック単位での検査結果をまとめて、最終的な総合判定が行われる。
上述した検査を行うために、測定対象物が回転テーブル13にセットされる(#01)。図示されていない測定開始ボタンが操作されると(#02Yes分岐)、測定が開始される。まず、光源制御部80によってレーザスリット投光器20がONされ、スリット光が照射される(#03)。測定開始ポイントである1番目の測定ブロックの左エッジがスリット光によって照射されるように、Xステージ14及びYステージ15、回転テーブル13を動作させる(#04)。
Xステージ14を正方向に定速移動させながらX軸方向走査を行う(#05)。それとともに、撮像ユニット3からの画像データを画像メモリ81に転送する(#06)。このX軸方向走査と画像データの取得は、スリット光が測定対象物の側端に達するまで行われる。スリット光が測定対象物の側端に達すると(#07Yes)、X軸方向走査を停止する(#08)。
X軸方向走査を停止すると、画像処理部82は、転送された画像データを処理し、その光切断線画素位置情報を生成する(#09)。評価部83は、画素位置とその画素位置から三角測量法に基づいて演算された3次元位置との関係を格納したテーブルを利用して、光切断線画素位置情報に基づき深溝の三次元形状データを読み出し、測定位置に対応付けられたメモリアドレスに格納する(#10)。もちろん、テーブルを用いずに、その都度、光切断線画素位置情報を用いて三角測量法に基づく演算を行い、深溝の三次元形状データを求めてもよい。続いて、測定ブロック単位で、得られた三次元形状データと目標三次元形状データであるマスタデータとを照合する(#11)。この照合結果に基づいて、測定ブロック毎に深溝形状の欠陥閾値を用いた欠陥判定が行われる(#12)。なお、X軸方向走査を停止すると、Yステージ15が動作され、所定のピッチでY軸方向のシフトが行われる(#13)。従って、ステップ#09から#12までの評価処理と、Y軸方向のシフト処理が同時に行われる。この評価処理とシフト処理の両方が終わると、X軸方向走査がまだ残っているかどうかのチェックが行われる(#14)。
ステップ#14のチェックでX軸方向走査がまだ残っている場合(#14Yes分岐)、X軸方向走査の方向を反転し(#15)、ステップ#05に戻ってX軸方向走査を行う。ステップ#14のチェックでX軸方向走査が残っていない場合(#14No分岐)、レーザスリット投光器20がOFFされ、スリット光の照射が停止する(#16)。さらに、回転テーブル13を90度回転測定死角の発生に伴う測定不能箇所の測定データを補完するために、回転テーブル13を90度回転させる必要があるかどうかをチェックする(#17)。回転テーブル13を90度回転させる必要がある場合は(#17Yes分岐)、回転テーブル13の90度回転動作を行い、再びステップ#03に戻り、この測定を繰り返す。なお、この90度の追加回転で不十分な場合には、さらに90度毎のあと2回までの回転(最初の姿勢位置に対する180度位置と270度位置)が行われる。回転テーブル13を90度回転させる必要がない場合は(#17No分岐)、全ての測定ブロックにおける検査結果に基づく総合判定を行う(#17)。この総合判定では、全測定ブロックで一箇所でも欠陥があれば不良品と判定される。また、この総合判定において、欠陥の位置を測定対象物の全体を示す全体図の上でマーキングした欠陥位置表示図をモニタ又はプリントを通じて出力する。
上記実施の形態では、測定対象物を載置する基準水平面を作り出している回転テーブル13の鉛直線方向にスリット光軸が位置するようにスリット光源ユニット2が配置されている。従って、撮像ユニット3がその撮像光軸が鉛直線に対して、30度以下、好ましくは11度程度傾斜するように配置されていた。このような測定ヘッドMHのレイアウトに代えて、スリット光源ユニット2と撮像ユニット3との配置関係を逆にしてもよい。
また上記実施の形態では、P偏光板32がテレセントリックレンズ30の直前に配置されていたが、撮像部31の撮像面31aにP偏光だけが入射してS偏光が入射することが抑制できるような配置であれば、前述したレイアウトにこだわる必要はない。例えば、テレセントリックレンズ30と撮像部31との間の撮像光軸上にP偏光板を配置するレイアウトを採用してもよい。
本発明による凹凸表面検査装置を組み込んだ表面検査装置の構成を模式的に示す斜視図 測定ヘッドの構成を示す図解斜視図 スリット光軸と撮像光軸との関係及び撮像光軸と撮像面との関係を模式的に示す展開図 撮像部に入射した光の反射挙動を説明する説明図であり、撮像部での光ビームを示す模式図で、(b)はP偏光とS偏光の反射率と透過率を示すグラフ 筒体内面検査システムにおける検査手順をしめすフローチャート
1: 想定装置部
2:スリット光源ユニット
3: 撮像ユニット
20:レーザスリット投光器
21:シリンドリカルレンズ
30:テレセントリックレンズユニット
31:撮像部
31a:撮像面
32:P偏光板
83:評価部
100:コントローラ

Claims (3)

  1. スリット光を測定対象物の凹凸表面に照射するスリット光源ユニットと、前記スリット光を照射された前記凹凸表面を前記スリット光源ユニットのスリット光軸に対して30度以下の狭角で交差する撮像光軸で撮像する撮像ユニットと、前記撮像ユニットによって取得された画像データに基づいて前記凹凸表面の3次元形状を算出する評価部とを備え、
    前記スリット光源ユニットは、スリット光源と、当該スリット光源から出た前記スリット光をその光軸に平行な平行光とするシリンドリカルレンズとを有し、
    前記撮像ユニットは、テレセントリックレンズと、前記凹凸表面における合焦範囲を拡大するために前記スリット光軸と前記撮像光軸との交差角に対応したあおり傾斜角でその撮像面が前記撮像光軸に対して傾けられている撮像部とを有し、
    カバーガラスが設けられた前記撮像面にS偏光が入射することを抑制するように前記撮像光軸上にP偏光板が配置されている凹凸表面検査装置。
  2. 前記スリット光軸又は前記撮影光軸のいずれかが鉛直方向となるように前記スリット光源ユニットと前記撮像ユニットとが配置されている請求項1に記載の凹凸表面検査装置。
  3. 前記P偏光板が前記テレセントリックレンズと前記測定対象物との間に配置されている請求項1又は2に記載の凹凸表面検査装置。
JP2008064458A 2008-03-13 2008-03-13 凹凸表面検査装置 Expired - Fee Related JP5252184B2 (ja)

Priority Applications (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2008064458A JP5252184B2 (ja) 2008-03-13 2008-03-13 凹凸表面検査装置
US12/400,140 US8049868B2 (en) 2008-03-13 2009-03-09 Concave-convex surface inspection apparatus
EP09155027.7A EP2101144B1 (en) 2008-03-13 2009-03-12 Concave-convex surface inspection apparatus

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2008064458A JP5252184B2 (ja) 2008-03-13 2008-03-13 凹凸表面検査装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2009222418A JP2009222418A (ja) 2009-10-01
JP5252184B2 true JP5252184B2 (ja) 2013-07-31

Family

ID=40589885

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2008064458A Expired - Fee Related JP5252184B2 (ja) 2008-03-13 2008-03-13 凹凸表面検査装置

Country Status (3)

Country Link
US (1) US8049868B2 (ja)
EP (1) EP2101144B1 (ja)
JP (1) JP5252184B2 (ja)

Families Citing this family (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE102009059855A1 (de) 2009-12-21 2011-06-22 Weber Maschinenbau GmbH, 35236 Abtasteinrichtung
JP5445848B2 (ja) * 2010-02-05 2014-03-19 アイシン精機株式会社 物体形状評価装置
JP2012122844A (ja) 2010-12-08 2012-06-28 Aisin Seiki Co Ltd 表面検査装置
KR101240947B1 (ko) * 2010-12-30 2013-03-18 주식회사 미르기술 비전검사장치
TWI461656B (zh) 2011-12-01 2014-11-21 Ind Tech Res Inst 距離感測裝置及距離感測方法
JP2013257245A (ja) * 2012-06-13 2013-12-26 Daido Steel Co Ltd 物品の検査装置
JP5994413B2 (ja) * 2012-06-13 2016-09-21 大同特殊鋼株式会社 リング状物品の欠肉の検査装置
JP6079664B2 (ja) * 2014-02-25 2017-02-15 トヨタ自動車株式会社 被測定物の表面測定装置およびその表面測定方法
DE102015103426B4 (de) * 2015-03-09 2020-07-02 Carl Zeiss Meditec Ag Mikroskopsystem und Verfahren zum automatisierten Ausrichten eines Mikroskops
DE112015007146T5 (de) * 2015-11-25 2018-08-02 Mitsubishi Electric Corporation Vorrichtung und verfahren zur dreidimensionalen bildmessung
TWI571649B (zh) * 2015-12-03 2017-02-21 財團法人金屬工業研究發展中心 A scanning device and method for establishing an outline image of an object
JP6690460B2 (ja) * 2016-08-11 2020-04-28 株式会社デンソー 照明ユニット及びヘッドアップディスプレイ装置
US11176651B2 (en) * 2017-10-18 2021-11-16 Anthony C. Liberatori, Jr. Computer-controlled 3D analysis of collectible objects
CN114062390A (zh) * 2020-07-31 2022-02-18 觉芯电子(无锡)有限公司 一种缝隙检测方法及装置
CN112304249B (zh) * 2020-09-22 2022-03-18 江苏大学 一种透明材料三维表面及厚度分布同时检测系统及方法

Family Cites Families (22)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4736229A (en) 1983-05-11 1988-04-05 Alphasil Incorporated Method of manufacturing flat panel backplanes, display transistors and displays made thereby
JPH0390807A (ja) * 1989-09-01 1991-04-16 Fuji Electric Co Ltd 測距装置
JPH04268404A (ja) * 1991-02-22 1992-09-24 Tokai Rika Co Ltd 変位測定装置及び形状測定装置
JPH04301707A (ja) 1991-03-29 1992-10-26 Aisin Seiki Co Ltd 非接触容積測定装置
JP2689359B2 (ja) * 1991-04-20 1997-12-10 日商精密光学 株式会社 光切断顕微鏡
JPH07120232A (ja) * 1993-10-21 1995-05-12 Yunisun:Kk 非接触型三次元形状測定装置
JPH08122021A (ja) * 1994-10-25 1996-05-17 Tokai Rika Co Ltd 寸法測定器
JPH08145639A (ja) * 1994-11-18 1996-06-07 Kao Corp 皮膚表面三次元形状測定装置
JPH08145619A (ja) * 1994-11-24 1996-06-07 Olympus Optical Co Ltd レーザ干渉計
JPH095048A (ja) * 1995-06-16 1997-01-10 Sony Corp 表面形状測定装置
JPH09280830A (ja) * 1996-04-12 1997-10-31 Nippon Seiko Kk 間隙測定装置
DE19721688B4 (de) 1997-03-06 2012-12-27 Institut Straumann Ag Oberflächenerfassungseinrichtung und Verfahren zur Oberflächenerfassung
JP3942252B2 (ja) * 1997-12-19 2007-07-11 Juki株式会社 3次元測定装置
JP2001194116A (ja) 2000-01-14 2001-07-19 Yasunaga Corp 高さ測定装置
US6590645B1 (en) * 2000-05-04 2003-07-08 Kla-Tencor Corporation System and methods for classifying anomalies of sample surfaces
JP2001326789A (ja) * 2000-05-16 2001-11-22 Ricoh Co Ltd 固体撮像素子の取付け構造
JP4301707B2 (ja) 2000-08-03 2009-07-22 アロン化成株式会社 ます
JP2002139304A (ja) * 2000-10-30 2002-05-17 Honda Motor Co Ltd 距離測定装置、及び距離測定方法
US6809809B2 (en) * 2000-11-15 2004-10-26 Real Time Metrology, Inc. Optical method and apparatus for inspecting large area planar objects
JP4406873B2 (ja) * 2004-05-28 2010-02-03 株式会社ニコン スキャン測定検査装置
JP2006317391A (ja) * 2005-05-16 2006-11-24 Nippon Avionics Co Ltd スリット光照射装置
US7714996B2 (en) * 2007-01-23 2010-05-11 3i Systems Corporation Automatic inspection system for flat panel substrate

Also Published As

Publication number Publication date
US20090231570A1 (en) 2009-09-17
JP2009222418A (ja) 2009-10-01
EP2101144B1 (en) 2013-07-03
US8049868B2 (en) 2011-11-01
EP2101144A1 (en) 2009-09-16

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5252184B2 (ja) 凹凸表面検査装置
JP3960390B2 (ja) 台形歪み補正装置を備えたプロジェクタ
JP5120625B2 (ja) 内面測定装置
CN101652626B (zh) 形状测定装置及形状测定方法
EP2463618A1 (en) Surface profile inspection device
JP6415281B2 (ja) プローブ装置及びプローブ方法
TW201604609A (zh) 自動聚焦系統
JP6473206B2 (ja) 三次元検出装置及び三次元検出方法
JP6417645B2 (ja) 表面形状測定装置のアライメント方法
JP5782786B2 (ja) 形状測定装置
JP5049246B2 (ja) 物体形状評価装置
JP5006005B2 (ja) 異物検査装置及び異物検査方法
JP2016000421A (ja) レーザ加工用システムおよびレーザ加工方法
JP2010256151A (ja) 形状測定方法
JP2017062159A (ja) 欠陥検査装置および欠陥検査方法
JP5049247B2 (ja) 表面欠陥評価装置
JP2010164377A (ja) 表面形状測定システム及び表面形状測定方法
JP2018115988A (ja) 表面形状測定装置の測定準備アライメント方法及び表面形状測定装置
JP2011085402A (ja) 表面性状測定機
JP4258401B2 (ja) 凹凸面の表面欠陥検査装置
JP7017916B2 (ja) 基板検査装置
JP2018146496A (ja) 表面形状測定方法
JP2009098044A (ja) 形状測定装置
JP6840590B2 (ja) 校正用システム、校正治具、校正方法、及び校正用プログラム
JP2008051733A (ja) 形状測定方法及び形状測定装置

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20110224

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20120613

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20120614

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20120726

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20130321

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20130403

R151 Written notification of patent or utility model registration

Ref document number: 5252184

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R151

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20160426

Year of fee payment: 3

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees