JP5245326B2 - 化学増幅型レジスト組成物の酸発生剤用の塩 - Google Patents
化学増幅型レジスト組成物の酸発生剤用の塩 Download PDFInfo
- Publication number
- JP5245326B2 JP5245326B2 JP2007215728A JP2007215728A JP5245326B2 JP 5245326 B2 JP5245326 B2 JP 5245326B2 JP 2007215728 A JP2007215728 A JP 2007215728A JP 2007215728 A JP2007215728 A JP 2007215728A JP 5245326 B2 JP5245326 B2 JP 5245326B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- formula
- group
- carbon atoms
- alkyl group
- represented
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 0 C*C12C=CCC[C@]1C2 Chemical compound C*C12C=CCC[C@]1C2 0.000 description 7
- YIBFJCKIOIVKIU-UHFFFAOYSA-N OC(C(F)(F)S(O)(=O)=O)=O Chemical compound OC(C(F)(F)S(O)(=O)=O)=O YIBFJCKIOIVKIU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GBGBCPSGWNTKEK-UHFFFAOYSA-N c(cc1)ccc1S(c1ccccc1)c1ccccc1 Chemical compound c(cc1)ccc1S(c1ccccc1)c1ccccc1 GBGBCPSGWNTKEK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BDVXEAUDMKVSLC-MELADBBJSA-N CC(C=C1)=C[C@@H](C2)[C@@]12[I+][C@@H](CCCOC)C=[IH] Chemical compound CC(C=C1)=C[C@@H](C2)[C@@]12[I+][C@@H](CCCOC)C=[IH] BDVXEAUDMKVSLC-MELADBBJSA-N 0.000 description 1
- NKORIGCIKCPRBS-UHFFFAOYSA-N CCC(C(C)(C)CC(CC(C)CC1C(OC(C)(C)C)=[O]C1C)c1ccccc1)c(cc1)ccc1O Chemical compound CCC(C(C)(C)CC(CC(C)CC1C(OC(C)(C)C)=[O]C1C)c1ccccc1)c(cc1)ccc1O NKORIGCIKCPRBS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NUTVTNKQMAYOQD-UHFFFAOYSA-N CCC(C(C)(C)CC(CC1(C)C(OC(C)(C)C)=[O]C1C)C1C=CC=CC1)c(cc1)ccc1O Chemical compound CCC(C(C)(C)CC(CC1(C)C(OC(C)(C)C)=[O]C1C)C1C=CC=CC1)c(cc1)ccc1O NUTVTNKQMAYOQD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZTSHVUPYTBINOO-UHFFFAOYSA-N CCC(CC(C(C)CC1C(OC(C)(C)C)=[O]C1C)c1cccc(O)c1)c(cc1)ccc1O Chemical compound CCC(CC(C(C)CC1C(OC(C)(C)C)=[O]C1C)c1cccc(O)c1)c(cc1)ccc1O ZTSHVUPYTBINOO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WXOOVSPMFZTCLV-UHFFFAOYSA-N CCOC(C(F)(F)[S](O)(=N)(=O)=O)=O Chemical compound CCOC(C(F)(F)[S](O)(=N)(=O)=O)=O WXOOVSPMFZTCLV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AUEQXBRWRDOVBC-UHFFFAOYSA-N N=[S](C(C(O)=O)(F)F)(O)(=O)=O Chemical compound N=[S](C(C(O)=O)(F)F)(O)(=O)=O AUEQXBRWRDOVBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MCTBFSVSIVWMBN-UHFFFAOYSA-N OCC1(CC2C3)C2C3(CC2)CC2C1 Chemical compound OCC1(CC2C3)C2C3(CC2)CC2C1 MCTBFSVSIVWMBN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SGKNLOHWIRPHER-UHFFFAOYSA-N OS(C(C(OCC1(CC(C2)C3)CC3(COC(C3CCCCC3)=O)CC2C1)=O)(F)F)(=O)=O Chemical compound OS(C(C(OCC1(CC(C2)C3)CC3(COC(C3CCCCC3)=O)CC2C1)=O)(F)F)(=O)=O SGKNLOHWIRPHER-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WLOQLWBIJZDHET-UHFFFAOYSA-N c(cc1)ccc1[S+](c1ccccc1)c1ccccc1 Chemical compound c(cc1)ccc1[S+](c1ccccc1)c1ccccc1 WLOQLWBIJZDHET-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Description
半導体の微細加工においては、より高い解像度のパターンを形成することが望ましく、化学増幅型レジスト組成物としては、より高い解像度を示すものが求められている。
(式(I)中、Xは、脂環式炭化水素を含み炭素数が3〜30の基を表し、Xに含まれる炭素原子はその一部が酸素原子により置換されていてもよく、カルボニル基を形成していてもよい。Yは、炭素数が3〜30の環式炭化水素基を表し、Yに含まれる炭素原子はその一部が酸素原子により置換されていてもよい。さらに、Yは炭素数1〜6のアルキル基、炭素数1〜6のアルコキシ基、炭素数1〜4のペルフルオロアルキル基、炭素数1〜6のヒドロキシアルキル基、水酸基またはシアノ基の1つ以上を置換基として含んでいてもよい。A+は有機対イオンを表し、Q1およびQ2は互いに独立にフッ素原子又は炭素数1〜6のペルフルオロアルキル基を表す。)
(式(VII)中、Xは、前記と同じ意味を表す。)
式(VIII)で示される化合物と、
(式(VIII)中、Yは前記と同じ意味を表す。)
式(IX)
(式(IX)中、Q1、Q2及びMは前記と同じ意味を表す。)
で示されるカルボン酸とを反応させることによる式(VI)で示される塩の製造方法を提供する。
(式(X)中、X及びYは前記と同じ意味を表す。)
式(IX)
(式(IX)中、Q1、Q2及びMは前記と同じ意味を表す。)
で示されるカルボン酸とをエステル化反応させることによる式(VI)で示される塩の製造方法を提供する。
(式(XI)中、A+は前記と同じ意味を表し、ZはF、Cl、Br、I、BF4、AsF6、SbF6、PF6、又はClO4を表す。)
(式(XII)中、Q1、Q2及びA+は前記と同じ意味を表す。)
と、式(VII)で示される化合物
(式(VII)中、Xは、前記と同じ意味を表す)
および式(VIII)で示される化合物
(式(VIII)中、Yは前記と同じ意味を表す)
と反応させることによる式(I)で示される塩の製造方法を提供する。
(式(XIII)中、Q1、Q2、X及びA+は前記と同じ意味を表す。)
式(VIII)で示される化合物
(式(VIII)中、Yは前記と同じ意味を表す。)
とを反応させることによる式(I)で示される塩の製造方法を提供する。
また本発明は、前記記載の樹脂組成物と塩基性化合物とを含有する化学増幅型レジスト組成物を提供する。
ここで、式(I)中、Xは、脂環式炭化水素を含む炭素数が3〜30の基を表し、Xに含まれる炭素原子はその一部が酸素原子により置換されていてもよく、カルボニル基を形成していてもよい。Yは、炭素数が3〜30の環式炭化水素基を表し、Yに含まれる炭素原子はその一部が酸素原子により置換されていてもよい。ただしYは炭素数1〜6のアルキル基、炭素数1〜6のアルコキシ基、炭素数1〜4のペルフルオロアルキル基、炭素数1〜6のヒドロキシアルキル基、水酸基またはシアノ基の1つ以上を置換基として含んでいてもよい。A+は有機対イオンを表し、Q1およびQ2は互いに独立にフッ素原子又は炭素数1〜6のペルフルオロアルキル基を表す。
なお、Xの炭素数には、酸素原子により置換された炭素原子は含まれず、カルボニル基を形成している炭素原子は含まれる(以下も同じ)。
Q1、Q2としてはそれぞれ独立にフッ素原子または−CF3である場合が好ましく、フッ素原子である場合がさらに好ましい。
式中、P1〜P3は、互いに独立に、直鎖状もしくは分岐状の炭素数1〜30のアルキル基又は炭素数3〜30の環式炭化水素基を表す。当該P1〜P3のいずれかがアルキル基である場合には、水酸基、炭素数1〜12のアルコキシ基又は炭素数3〜12の環式炭化水素基の一つ以上を置換基として含んでいてもよく、P1〜P3のいずれかが環式炭化水素基である場合には、水酸基、炭素数1〜12のアルキル基又は炭素数1〜12のアルコキシ基の一つ以上を置換基として含んでいてもよい。該アルキル基及び該アルコキシ基は、直鎖でも分岐していてもよい。
式(IIb)中、P4およびP5は、互いに独立に、水素原子、水酸基、炭素数1〜12のアルキル基又は炭素数1〜12のアルコキシ基を表し、該アルキル基及び該アルコキシ基は、直鎖でも分岐していてもよい。該アルキル基及び該アルコキシ基は、式(IIa)のアルキル基及びアルコキシ基と同じ意味を表す。
式(IIc)中、P6およびP7は、互いに独立に、炭素数1〜12のアルキル基又は炭素数3〜12のシクロアルキル基を表し、該アルキル基は、直鎖でも分岐していてもよい。該アルキル基の具体例としては、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、オクチル基、2−エチルヘキシル基などが挙げられる。該シクロアルキル基としては、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロデシル基などが挙げられる。また、P6とP7とが結合してアルキレン基などの炭素数3〜12の2価の炭化水素基であってもよい。P8が水素原子を表し、P9が炭素数1〜12のアルキル基、炭素数3〜12のシクロアルキル基もしくは置換されていてもよい芳香環基を表すか、またはP8とP9が結合して炭素数3〜12の2価の炭化水素基を表す。P9がアルキル基の場合、該アルキル基の具体例としては、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、オクチル基、2−エチルヘキシル基などが挙げられる。P9がシクロアルキル基の場合、該シクロアルキル基としては、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロデシル基などが挙げられる。ここで、式(IIc)における2価の炭化水素基に含まれる炭素原子は、その一部が、カルボニル基、酸素原子、硫黄原子に置換されていてもよい。
式(IId)中、P10〜P21は、互いに独立に、水素原子、水酸基、炭素数1〜12のアルキル基又は炭素数1〜12のアルコキシ基を表し、該アルキル基及び該アルコキシ基は、直鎖でも分岐していてもよい。Bは、硫黄原子又は酸素原子を表す。kは、0又は1を表す。
式(IIIa)〜式(IIIe)中、P22〜P24は互いに独立に、直鎖状又は分岐状の炭素数1〜20のアルキル基を表すか又はフェニル基以外の炭素数3〜30の環式炭化水素基を表す。P22〜P24がアルキル基である場合には、水酸基、炭素数1〜12のアルコキシ基又は炭素数3〜12の環式炭化水素基の一つ以上を置換基として含んでいてもよく、P22〜P24が環式炭化水素基の場合には、水酸基、炭素数1〜12のアルキル基又は炭素数1〜12のアルコキシ基の一つ以上を置換基として含んでいてもよい。P25〜P30は、水酸基、炭素数1〜12のアルキル基、炭素数1〜12のアルコキシ基又は炭素数3〜12の環式炭化水素基を表し、l、m、n、o、pおよびqは、互いに独立に0〜5の整数を表す。P31は置換されていてもよい芳香環基を表し、P32およびP33は互いに独立に、炭素数1〜12のアルキル基又は炭素数3〜12のシクロアルキル基を表し、該アルキル基は、直鎖でも分岐していてもよい。または、P32とP33とが結合して炭素数3〜12の2価の炭化水素基を表す。P34は炭素数1〜12のアルキル基、炭素数3〜12のシクロアルキル基を表す。ここで、2価の炭化水素基に含まれる炭素原子は、その一部が、カルボニル基、酸素原子、硫黄原子に置換されていてもよい。)
式(IVa)〜(IVe)中、X2は単結合または炭素数1〜6の2価の炭化水素基を表し、含まれる炭素原子はその一部が酸素原子により置換されていてもよく、カルボニル基を形成していてもよい。Y2は炭素数が3〜30の環式炭化水素基を表し、Y2に含まれる炭素原子はその一部が酸素原子により置換されていてもよい。さらに、Y2はシクロペンタン骨格、シクロヘキサン骨格、ベンゼン骨格、ナフタレン骨格、アントラセン骨格、フェナントレン骨格、フルオレン骨格のいずれか、またはこれらの骨格を2つ以上有する。ただし、Y2に含まれるいずれの骨格も炭素数1〜6のアルキル基、炭素数1〜6のアルコキシ基、炭素数1〜4のペルフルオロアルキル基、炭素数1〜6のヒドロキシアルキル基、水酸基またはシアノ基の1つ以上を置換基として含んでいてもよい。P22〜P34は前記と同じ意味を表し、l、m、n、o、pおよびqは、互いに独立に0〜5の整数を表す。
(式(VI)中、X、Y、Q1及びQ2は前記と同じ意味を表し、MはLi、Na、KまたはAgを表す。)、式(VI)で示される塩と式(XI)で示される化合物とを反応させることにより製造することができる。
(式(XI)中、A+は、前記と同じ意味を表し、ZはF、Cl、Br、I、BF4、AsF6、SbF6、PF6又はClO4を表す。)
(式(VII)中、Xは、前記と同じ意味を表す。)
式(VIII)で示される化合物と、
(式(VIII)中、Yは前記と同じ意味を表す。)
式(IX)
(式(IX)中、Q1、Q2及びMは前記と同じ意味を表す。)
で示されるカルボン酸とを反応させる製造方法が挙げられる。
前記反応における式(IX)で示されるカルボン酸の使用量としては、式(VII)で示されるアルコール1モルに対して、0.2〜3モル程度、好ましくは0.5〜2モル程度である。VIIIで示される化合物はVIIで示されるアルコール1モルに対して、0.5〜2モル程度でもよく、また溶媒に相当する量でも良い。前記反応における酸触媒は式(VII)で示されるアルコール1モルに対して、触媒量でも溶媒に相当する量でもよく、通常、0.001モル程度〜5モル程度である。前記反応における脱水剤は式(VII)で示されるアルコール1モルに対して、0.2〜5モル程度、好ましくは0.5〜3モル程度である。
(式中、X及びYは前記と同じ意味を表す。)
式(IX)
(式(IX)中、Q1、Q2及びMは前記と同じ意味を表す。)
で示されるカルボン酸とをエステル化反応させることによる製造方法が挙げられる。
前記反応における式(IX)で示されるカルボン酸の使用量としては、式(X)で示されるアルコール1モルに対して、0.2〜3モル程度、好ましくは0.5〜2モル程度である。前記反応における酸触媒は式(X)で示されるアルコール1モルに対して、触媒量でも溶媒に相当する量でもよく、通常、0.001モル程度〜5モル程度である。前記反応における脱水剤は式(X)で示されるアルコール1モルに対して、0.2〜5モル程度、好ましくは0.5〜3モル程度である。
(式(XII)中、Q1、Q2及びA+は前記と同じ意味を表す。)と、式(VII)で示される化合物
(式(VII)中、Xは、前記と同じ意味を表す。)
および式(VIII)で示される化合物
(式(VIII)中、Yは前記と同じ意味を表す。)
と反応させることによる製造方法が挙げられる。
前記反応における式(XII)で示されるカルボン酸の使用量としては、式(VII)で示されるアルコール1モルに対して、0.2〜3モル程度、好ましくは0.5〜2モル程度である。式(VIII)で示される化合物は式(VII)で示されるアルコール1モルに対して、0.5〜2モル程度でもよく、また溶媒に相当する量でも良い。前記反応における酸触媒は式(VII)で示されるアルコール1モルに対して、触媒量でも溶媒に相当する量でもよく、通常、0.001モル程度〜5モル程度である。前記反応における脱水剤は式(VII)で示されるアルコール1モルに対して、0.2〜5モル程度、好ましくは0.5〜3モル程度である。
(式(IX)中、Q1、Q2及びMは前記と同じ意味を表す。)
と前記式(XI)で示される塩
(式(XI)中、A+およびZは前記と同じ意味を表す。)
とを反応させることにより製造することができる。
(式(XIII)中、Q1、Q2、X及びA+は前記と同じ意味を表す。)と、式(VIII)で示される化合物
(式(VIII)中、Yは前記と同じ意味を表す。)
と反応させることによる製造方法が挙げられる。
式(XIII)で示される化合物は、特開2006−257078号公報に記載の方法と同様にして合成できる。
前記反応における式(XIII)で示される塩の使用量としては、式(VIII)で示される化合物1モルに対して、0.2〜3モル程度、好ましくは0.5〜2モル程度である。前記反応における酸触媒は式(XIII)で示される塩1モルに対して、触媒量でも溶媒に相当する量でもよく、通常、0.001モル程度〜5モル程度、好ましくは0.5〜2モル程度である。前記反応における脱水剤は式(XIII)で示される塩1モルに対して、0.2〜5モル程度、好ましくは0.5〜3モル程度である。
ここで、4級炭素原子とは、水素原子以外の置換基と結合していて水素とは結合していない炭素原子を意味し、酸に不安定な基としては、酸素原子に隣接する炭素原子(エーテル結合のα位の炭素原子)が3つの炭素原子と結合した4級炭素原子であることが好ましい。
かかるモノマーとしては、酸に不安定な基として、2−アルキル−2−アダマンチル基、1−(1−アダマンチル)−1−アルキルアルキル基などのような脂環式構造などの嵩高い基を含むモノマーが、得られるレジストの解像度が優れる傾向があることから好ましい。
具体的には、アクリル酸やメタクリル酸のような遊離のカルボン酸基を有するモノマーに由来する構造単位、無水マレイン酸や無水イタコン酸のような脂肪族不飽和ジカルボン酸無水物に由来する構造単位、2−ノルボルネンに由来する構造単位、(メタ)アクリロニトリルに由来する構造単位、酸素原子に隣接する炭素原子が2級炭素原子または3級炭素原子のアルキルエステルや1−アダマンチルエステルである(メタ)アクリル酸エステル類に由来する構造単位、p−又はm−ヒドロキシスチレンなどのスチレン系モノマーに由来する構造単位、ラクトン環がアルキル基で置換されていてもよい(メタ)アクリロイロキシ−γ−ブチロラクトンに由来する構造単位などを挙げることができる。尚、1−アダマンチルエステルは、酸素原子に隣接する炭素原子が4級炭素原子であるが、酸に安定な基であり、1−アダマンチルエステルには水酸基などが結合していてもよい。
R5及びR6が基−COOUである場合は、カルボキシル基がエステル基となったものであり、Uに相当するアルコール残基としては、例えば、置換されていてもよい炭素数1〜8程度のアルキル基、2−オキソオキソラン−3−又は−4−イル基などを挙げることができる。ここで、該アルキル基は、水酸基や脂環式炭化水素残基などが置換基として結合していてもよい。
R5及びR6がアルキル基である場合の具体例としては、メチル基、エチル基、プロピル基などが挙げられ、水酸基が結合したアルキル基の具体例としては、ヒドロキシメチル基、2−ヒドロキシエチル基などが挙げられる。
2−ノルボルネン、
2−ヒドロキシ−5−ノルボルネン、
5−ノルボルネン−2−カルボン酸、
5−ノルボルネン−2−カルボン酸メチル、
5−ノルボルネン−2−カルボン酸2−ヒドロキシ−1−エチル、
5−ノルボルネン−2−メタノール、
5−ノルボルネン−2,3−ジカルボン酸無水物。
具体的には、以下に示されるような共重合体からなる樹脂が挙げられる。
(式(XIVa)中、R21は炭素数1〜4のアルキル基を表わし、R22は炭素数1〜6のアルキル基または炭素数5〜7のシクロアルキル基を表わす。また、R21とR22が結合してトリメチレン基またはテトラメチレン基を形成してもよい。)
で示される構造単位と式(XIVb)
で示される構造単位を含むポリ(ヒドロキシスチレン)が好適に用いられ、式(XIVc)
(式(XIVc)中、R21は炭素数1〜4のアルキル基を表わし、R22は炭素数1〜6のアルキル基または炭素数5〜7のシクロアルキル基を表わす。また、R21とR22が結合してトリメチレン基またはテトラメチレン基を形成してもよい。)
で示される構造単位と式(XIVd)
で示される構造単位とを含むポリ(ヒドロキシスチレン)がより好ましい。
R21で示される炭素数1〜4のアルキル基としては、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基等の炭素数1〜4の直鎖状もしくは分枝鎖状のアルキル基が挙げられ、メチル基が好ましい。R22で示される炭素数1〜6のアルキル基としては、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、n−ペンチル基、n−ヘキシル基等の炭素数1〜6の直鎖状もしくは分枝鎖状のアルキル基が挙げられ、炭素数5〜7のシクロアルキル基としては、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基が挙げられ、エチル基、n−プロピル基、シクロヘキシル基が好ましい。
更に、該アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、又はアルコキシ基上の水素原子の少なくとも1個は、それぞれ独立に、ヒドロキシル基、アミノ基、又は1〜6個程度の炭素原子を有するアルコキシ基で置換されていてもよい。該アミノ基上の水素原子の少なくとも1個は、1〜4個の炭素原子を有するアルキル基で置換されていてもよい。
更に、該アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、又はアルコキシ基上の水素原子の少なくとも1個は、それぞれ独立に、ヒドロキシル基、アミノ基、又は1〜6個程度の炭素原子を有するアルコキシ基で置換されていてもよい。該アミノ基上の水素原子の少なくとも1個は、1〜4個の炭素原子を有するアルキル基で置換されていてもよい。
また、R11〜R20において、直鎖構造と分岐構造の両方をとり得るものについては、そのいずれでもよい。
また、化学増幅型レジスト組成物としてクエンチャーである塩基性化合物を用いる場合は、レジスト組成物の全固形分量を基準に、0.01〜1重量%程度の範囲で含有するのが好ましい。
実施例および比較例中、含有量ないし使用量を表す%及び部は、特記ないかぎり重量基準である。また重量平均分子量は、ポリスチレンを標準品として、ゲルパーミュエーションクロマトグラフィー(東ソー株式会社製HLC−8120GPC型、カラムはTSKgel Multipore HXL−M3本、溶媒はテトラヒドロフラン)により求めた値である。
また、化合物の構造はNMR(日本電子製GX−270型またはEX−270型)、質量分析(LCはAgilent製1100型、MASSはAgilent製LC/MSD型またはLC/MSD TOF型)で確認した。
(1)ジフルオロ(フルオロスルホニル)酢酸メチルエステル10000部、イオン交換水15000部に、氷浴下、30%水酸化ナトリウム水溶液25000部を滴下した。100℃で3時間還流し、冷却後、濃塩酸7754部で中和した。得られた溶液を濃縮し、得られた残渣にアセトニトリル6000部を加えて攪拌、ろ過した。ろ液を濃縮し、得られた固体をろ過した。ろ液を濃縮してアセトニトリル200部を加えて攪拌、ろ過した。得られた残渣にアセトニトリル200部を加えて攪拌、ろ過、乾燥し、ジフルオロスルホ酢酸 ナトリウム塩化合物(B8)を605部得た(無機塩を除去していないため純度97.6%)。
MS(ESI(+)Spectrum):M+ 263.0(C18H15S+=263.09)
MS(ESI(−)Spectrum):M− 413.2(C20H23F2O5S-=413.12)
(1)ジフルオロスルホ酢酸−3−トリル−1−アダマンチルメチルエステル ナトリウム塩化合物(B7)3.0部、クロロホルム9部、イオン交換水8部、1−(2−オキソ−2−フェニルエチル)テトラヒドロチオフェニウム ブロミド化合物(B12)2.2部を仕込んだ。室温で一晩攪拌後、さらにクロロホルムを6部添加した後、有機層を合わせてイオン交換水で中性になるまで洗浄を繰り返した。得られた有機層に活性炭0.5部を加えて攪拌、ろ過し、ろ液を濃縮した。残渣に、tert−ブチルメチルエーテル18部を加えて攪拌後静置し、上澄液を除去した。残渣にn−ヘプタン18部を加えて攪拌後静置し、上澄液を除去することにより、燈色油状物として1−(2−オキソ−2−フェニルエチル)テトラヒドロチオフェニウム (3−トリルアダマンチル)メトキシカルボニルジフルオロメタンスルホナート酸発生剤(B2)を2.5部得た。
MS(ESI(+)Spectrum):M+ 207.1(C12H15OS+=207.08)
MS(ESI(−)Spectrum):M− 413.1(C20H23F2O5S-=413.12)
(1)シクロヘキサンカルボン酸1.9部、1,3−アダマンタンジメタノール5.8部、トルエン116部を仕込み、硫酸をピペットで2滴加え、8時間加熱還流した。その後、1N水酸化ナトリウム水溶液100部を添加後イオン交換水で中性になるまで洗浄を行った。さらに1N水酸化ナトリウム水溶液50部を添加後イオン交換水で中性になるまで洗浄を行った。得られた有機層を濃縮し、濃縮液をカラムクロマトグラフィーで単離精製することにより、シクロヘキサンカルボン酸−3−ヒドロキシメチル−1−アダマンチルメチルエステル化合物(B9)を3.7部得た。
MS(ESI(+)Spectrum):M+ 263.0(C18H15S+=263.09)
MS(ESI(−)Spectrum):M− 463.2(C21H29F2O7S-=463.16)
(1)2−ブロモアセトフェノン150部をアセトン375部に溶解し、テトラヒドロチオフェン66.5部を滴下した。室温で24時間攪拌した後、得られた白色析出物をろ過し、洗浄を行い、乾燥することにより白色結晶として1−(2−オキソ−2−フェニルエチル)テトラヒドロチオフェニウム ブロマイド化合物(B12)を207.9部得た。
MS(ESI(+)Spectrum):M+ 207.2(C12H15OS+=207.08)
MS(ESI(−)Spectrum):M− 463.2(C21H29F2O7S-=463.16)
(1)14.2%トリフェニルスルホニウム クロライド水溶液573.7部に化合物(B8)の18.0%水溶液300.0部を加えて25℃で約20時間攪拌した。析出した白色固体をろ別、イオン交換水100部で洗浄した後、乾燥して化合物(B5)を88.4部得た。
MS(ESI(+)Spectrum):M+ 263.2(C18H15S+=263.09)
MS(ESI(−)Spectrum):M− 175.0(C2HF2O5S-=174.95)
特開2006−257078に記載の方法と同様にして合成した化合物(B6)50部、トルエン250部および濃硫酸2.4部を仕込んで還流下7時間攪拌した。反応後濃縮して得られた残渣にクロロホルム326部を加えて溶解した。イオン交換水で中性になるまで水洗を繰り返した。得られた有機層に活性炭4.5部を加えて攪拌後、ろ過、ろ液を濃縮した。得られた残渣に酢酸エチル260部を加えて攪拌し、得られた白色固体をろ過、乾燥して、(B1)を39.3部得た。1H−NMRは合成例1で得られた(B1)のスペクトルと同等であった。
(1)酸発生剤合成例1の(1)と同様の合成法で得られたジフルオロスルホ酢酸 ナトリウム塩化合物(B8)39.4部(純度63.5%)、1−アダマンタンメタノール21.0部、ジクロロエタン200部を仕込み、p−トルエンスルホン酸(p−TsOH)24.0部を加え、7時間加熱還流した。その後、濃縮してジクロロエタンを留去し、tert−ブチルメチルエーテル250部を加えて攪拌後静置し、上澄液を除去し、濾過した。残渣にアセトニトリル250部添加撹拌後ろ過し、濾液を濃縮することにより、ジフルオロスルホ酢酸−1−アダマンチルメチルエステル ナトリウム塩化合物(C2)を32.8部得た。
MS(ESI(+)Spectrum):M+ 263.2(C18H15S+=263.09)
MS(ESI(−)Spectrum):M− 323.0(C13H17F2O5S-=323.08)
酸発生剤C1の酸発生剤合成例(比較対照酸発生剤の合成例1)の(1)と同様の合成法で得られた化合物(C2)99.5部を仕込み、アセトニトリル298部に溶解させた。この溶液に、酸発生剤B4の酸発生剤合成例(酸発生剤合成例4)(1)と同様の合成法で得られた化合物(B12)79.5部、イオン交換水159部溶液を添加した。15時間撹拌後、濃縮し、クロロホルム500部で2回抽出した。有機層を合わせてイオン交換水で中性になるまで洗浄を繰り返し、得られた有機層を濃縮した。濃縮液にtert−ブチルメチルエーテル250部添加撹拌後ろ過することにより白色結晶として酸発生剤(C3)を116.9部得た。
MS(ESI(+)Spectrum):M+ 207.0(C12H15OS+=207.08)
MS(ESI(−)Spectrum):M− 323.0(C13H17F2O5S-=323.08)
メタクリル酸2−エチル−2−アダマンチル、メタクリル酸3−ヒドロキシ−1−アダマンチル、及びα−メタクリロイロキシ−γ−ブチロラクトンを、5:2.5:2.5のモル比で仕込み、全モノマーに対して2重量倍のメチルイソブチルケトンを加えて、溶液とした。そこに、開始剤としてアゾビスイソブチロニトリルを全モノマー量に対して2モル%添加し、80℃で約8時間加熱した。その後、反応液を大量のヘプタンに注いで沈殿させる操作を3回行い、精製した。その結果、重量平均分子量が約9200の共重合体を得た。この共重合体は、次式で示される各構造単位を有するものであり、これを樹脂A1とする。
冷却管、撹拌装置、温度計を備えた4つ口フラスコに、4−アセトキシスチレン147.6g(0.91モル)、メタクリル酸2−エチル−2−アダマンチル(以下EAMAと略記)96.9g(0.39モル)、メチルイソブチルケトン331gモルを仕込み80℃まで昇温した。そこに2,2’−アゾビス(イソ酪酸ジメチル)13.5g(0.585モル)をメチルイソブチルケトン36.0gに溶解した液を10分間かけて滴下した。その後80℃で15時間保温加熱した。その後、メタノール5000gと水625gの混合溶液を撹拌しながらその混合溶液に反応液を注ぎ、析出した樹脂を濾取した。得られた樹脂をメタノール489gに分散し、4−ジメチルアミノピリジン25.4g(0.208モル)を加え62℃で15時間保温加熱した。その後氷酢酸37.5g(0.624モル)を加え30分撹拌した後、大量の水7334gに撹拌しながら注ぎ、析出した樹脂を濾取、水洗し減圧乾燥することで、樹脂(A2)(HSTとEAMA共重合樹脂)195.5gを得た。得られた樹脂は、重量平均分子量(Mw)は約8200、分散度(Mw/Mn)1.68(GPC法:ポリスチレン換算)であり、13C−NMRよりHST70%、EAMA30%の共重合体であることがわかった。
仕込み比率を変えて樹脂合成例2と同様の操作を行い、以下に示す物性値の樹脂(A3)を合成した。
樹脂 HST EAMA Mw Mw/Mn
(A3) 80 20 8600 1.65
酸発生剤B1:トリフェニルスルホニウム (3−トリルアダマンチル)メトキシカルボニルジフルオロメタンスルホナート
酸発生剤B2:
酸発生剤B3:
酸発生剤C1:トリフェニルスルホニウム 1−アダマンチルメトキシカルボニルジフルオロメタンスルホナート
酸発生剤C3:
<クエンチャー>
クエンチャーQ1:2,6−ジイソプロピルアニリン
<溶剤>
溶剤Y1:
プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート 51.5部
2−ヘプタノン 35.0部
γ−ブチロラクトン 3.5部
溶剤Y2:
プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート 74.1部
以下の各成分を混合して溶解し、さらに孔径0.2μmのフッ素樹脂製フィルターで濾過して、レジスト液を調製した。
酸発生剤(種類及び量は表1記載)
クエンチャー(種類及び量は表1記載)
溶剤(種類は表1記載)
露光後は、ホットプレート上にて表1の「PEB」の欄に示す温度で60秒間ポストエキスポジャーベークを行い、さらに2.38重量%テトラメチルアンモニウムヒドロキシド水溶液で60秒間のパドル現像を行った。
━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━
例No. 樹脂 酸発生剤 クエンチャー 溶剤 PB/PEB
━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━
実施例1 A1/10部 B1/0.30部 Q1/0.0325部 Y1 125℃/125℃
───────────────────────────────────────
比較例1 A1/10部 C1/0.26部 Q1/0.0325部 Y1 125℃/125℃
━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━
━━━━━━━━━━━
例No. 解像度
(μm)
━━━━━━━━━━━
実施例1 0.12
───────────
比較例1 0.13
━━━━━━━━━━━
以下の各成分を混合して溶解し、さらに孔径0.2μmのフッ素樹脂製フィルターで濾過して、レジスト液を調製した。
酸発生剤(種類及び量は表3記載)
クエンチャー(種類及び量は表3記載)
溶剤(種類は表3記載)
露光後は、ホットプレート上にて表3の「PEB」の欄に示す温度で60秒間ポストエキスポジャーベークを行い、さらに2.38重量%テトラメチルアンモニウムヒドロキシド水溶液で15秒間の現像を行った。
有機反射防止膜基板上のもので現像後のラインアンドスペースパターンを走査型電子顕微鏡で観察、あるいはラインの線幅を測長し、その結果を表4および表5に示した。
解像度:実効感度の露光量で分離するラインアンドスペースパターンの最小寸法で表示した。
━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━
例No. 樹脂 酸発生剤 クエンチャー 溶剤 PB/PEB
━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━
実施例2 A1/10部 B2/0.46部 Q1/0.007部 Y1 100℃/110℃
───────────────────────────────────────
比較例2 A1/10部 C3/0.39部 Q1/0.007部 Y1 100℃/115℃
実施例3 A1/10部 B3/0.32部 Q1/0.0325部 Y1 120℃/120℃
───────────────────────────────────────
比較例3 A1/10部 C1/0.26部 Q1/0.0325部 Y1 120℃/120℃
━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━
━━━━━━━━━━━
例No. 解像度
(μm)
━━━━━━━━━━━
実施例2 0.090
───────────
比較例2 0.095
━━━━━━━━━━━
━━━━━━━━━━━
例No. 解像度
(μm)
━━━━━━━━━━━
実施例3 0.090
───────────
比較例3 0.105
━━━━━━━━━━━
以下の各成分を混合して溶解し、さらに孔径0.2μmのフッ素樹脂製フィルターで濾過して、レジスト液を調製した。
酸発生剤(種類及び量は表6記載)
クエンチャー(種類及び量は表6記載)
溶剤(種類は表6記載)
露光後は、ホットプレート上にて表6の「PEB」の欄に示す温度で60秒間ポストエキスポジャーベークを行い、さらに2.38重量%テトラメチルアンモニウムヒドロキシド水溶液で60秒間のパドル現像を行った。
━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━
例No. 樹脂 酸発生剤 クエンチャー 溶剤 PB/PEB
━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━
実施例4 A2/6部 A3/4部 B1/0.33部 Q1/0.0222部 Y2 110℃/110℃
───────────────────────────────────────
比較例4 A2/6部 A3/4部 C1/0.33部 Q1/0.0222部 Y2 110℃/110℃
━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━
━━━━━━━━━━━
例No. 解像度
(μm)
━━━━━━━━━━━
実施例4 0.15
───────────
比較例4 0.16
━━━━━━━━━━━
Claims (14)
- 式(I)で示されることを特徴とする塩。
(式(I)中、Xは、下記式
{式中、X2は単結合または炭素数1〜6の2価の炭化水素基を表し、含まれる炭素原子はその一部が酸素原子により置換されていてもよく、カルボニル基を形成していてもよい。}
で示される基を表し、Xに含まれる炭素原子はその一部が酸素原子により置換されていてもよく、カルボニル基を形成していてもよい。Yは、シクロヘキサン骨格、ベンゼン骨格、ナフタレン骨格のいずれかを有する炭素数が6〜30の環式炭化水素基を表し、さらに、Yは炭素数1〜6のアルキル基又は炭素数1〜6のアルコキシ基の1つ以上を置換基として含んでいてもよい。A+は式(IIIa)、式(IIIb)、式(IIIc)、式(IIId)または式(IIIe)
{式(IIIa)〜式(IIIe)中、P22〜P24は互いに独立に、直鎖状又は分岐状の炭素数1〜20のアルキル基を表すか又はフェニル基以外の炭素数3〜30の環式炭化水素基を
表す。P22〜P24がアルキル基である場合には、水酸基、炭素数1〜12のアルコキシ基又は炭素数3〜12の環式炭化水素基の一つ以上を置換基として含んでいてもよく、P22〜P24が環式炭化水素基の場合には、水酸基、炭素数1〜12のアルキル基又は炭素数1〜12のアルコキシ基の一つ以上を置換基として含んでいてもよい。P25〜P30は、水酸基、炭素数1〜12のアルキル基、炭素数1〜12のアルコキシ基又は炭素数3〜12の環式炭化水素基を表し、l、m、n、o、pおよびqは、互いに独立に0〜5の整数を表す。P31は置換されていてもよい芳香環基を表す。P32およびP33は互いに独立に、炭素数1〜12のアルキル基又は炭素数3〜12のシクロアルキル基を表し、該アルキル基は、直鎖でも分岐していてもよい。または、P32とP33とが結合して炭素数3〜12の2価の炭化水素基を表す。P34は炭素数1〜12のアルキル基、炭素数3〜12のシクロアルキル基を表す。ここで、2価の炭化水素基に含まれる炭素原子は、その一部が、カルボニル基、酸素原子、硫黄原子に置換されていてもよい。}
で示されるカチオンを表し、Q1およびQ2はフッ素原子を表す。)
- A + が式(IIIa)又は式(IIId)で示されるカチオンである請求項1〜3のいずれかに記載の塩。
- 請求項1〜4のいずれかに記載の塩を有効成分とすることを特徴とする酸発生剤。
- 式(VI)で示されることを特徴とする塩。
(式(VI)中、Xは、下記式
{式中、X2は単結合または炭素数1〜6の2価の炭化水素基を表し、含まれる炭素原子はその一部が酸素原子により置換されていてもよく、カルボニル基を形成していてもよい。}
で示される基を表し、Xに含まれる炭素原子はその一部が酸素原子により置換されていてもよく、カルボニル基を形成していてもよい。Yは、シクロヘキサン骨格、ベンゼン骨格、ナフタレン骨格のいずれかを有する炭素数が6〜30の環式炭化水素基を表し、さらに、Yは炭素数1〜6のアルキル基又は炭素数1〜6のアルコキシ基の1つ以上を置換基として含んでいてもよい。Q1及びQ2はフッ素原子を表し、MはLi、Na、KまたはAgを表す。)
- 式(VII)で示されるアルコールと、
(式(VII)中、Xは、下記式
{式中、X2は単結合または炭素数1〜6の2価の炭化水素基を表し、含まれる炭素原子はその一部が酸素原子により置換されていてもよく、カルボニル基を形成していてもよい。}
で示される基を表す。)
式(VIII)で示される化合物と、
(式(VIII)中、Yはシクロヘキサン骨格、ベンゼン骨格、ナフタレン骨格のいずれかを有する炭素数が6〜30の環式炭化水素基を表し、さらに、Yは炭素数1〜6のアルキル基又は炭素数1〜6のアルコキシ基の1つ以上を置換基として含んでいてもよい。)
式(IX)で示されるカルボン酸とを
(式(IX)中、Q1及びQ2はフッ素原子を表す。MはLi、Na、KまたはAgを表す。)
反応させることを特徴とする式(VI)で示される塩の製造方法。
(式(VI)中、Xは、下記式
{式中、X2は単結合または炭素数1〜6の2価の炭化水素基を表し、含まれる炭素原子はその一部が酸素原子により置換されていてもよく、カルボニル基を形成していてもよい。}
で示される基を表し、Xに含まれる炭素原子はその一部が酸素原子により置換されていてもよく、カルボニル基を形成していてもよい。Yは、シクロヘキサン骨格、ベンゼン骨格、ナフタレン骨格のいずれかを有する炭素数が6〜30の環式炭化水素基を表し、さらに、Yは炭素数1〜6のアルキル基又は炭素数1〜6のアルコキシ基の1つ以上を置換基として含んでいてもよい。Q1及びQ2はフッ素原子を表し、MはLi、Na、KまたはAgを表す。)
- 式(X)で示されるアルコールと、
(式(X)中、Xは、下記式
{式中、X2は単結合または炭素数1〜6の2価の炭化水素基を表し、含まれる炭素原子はその一部が酸素原子により置換されていてもよく、カルボニル基を形成していてもよい。}
で示される基を表し、Xに含まれる炭素原子はその一部が酸素原子により置換されていてもよく、カルボニル基を形成していてもよい。Yは、シクロヘキサン骨格、ベンゼン骨格、ナフタレン骨格のいずれかを有する炭素数が6〜30の環式炭化水素基を表し、さらに、Yは炭素数1〜6のアルキル基又は炭素数1〜6のアルコキシ基の1つ以上を置換基として含んでいてもよい。)
式(IX)
(式(IX)中、Q1及びQ2はフッ素原子を表す。MはLi、Na、KまたはAgを表す。)
で示されるカルボン酸とをエステル化反応させることを特徴とする式(VI)で示される塩の製造方法。
(式(VI)中、X、Y、Q1、Q2及びMは前記と同じ意味を表す。)
- 式(VI)
(式(VI)中、Xは、下記式
{式中、X2は単結合または炭素数1〜6の2価の炭化水素基を表し、含まれる炭素原子はその一部が酸素原子により置換されていてもよく、カルボニル基を形成していてもよい。}
で示される基を表し、Xに含まれる炭素原子はその一部が酸素原子により置換されていてもよく、カルボニル基を形成していてもよい。Yは、シクロヘキサン骨格、ベンゼン骨格、ナフタレン骨格のいずれかを有する炭素数が6〜30の環式炭化水素基を表し、さらに、Yは炭素数1〜6のアルキル基又は炭素数1〜6のアルコキシ基の1つ以上を置換基として含んでいてもよい。Q1及びQ2はフッ素原子を表し、MはLi、Na、KまたはAgを表す。)
で示される塩と式(XI)で示される化合物とを反応させることを特徴とする式(I)で示される塩の製造方法。
(式中、A+は、式(IIIa)、式(IIIb)、式(IIIc)、式(IIId)または式(IIIe)
{式(IIIa)〜式(IIIe)中、P22〜P24は互いに独立に、直鎖状又は分岐状の炭素数1〜20のアルキル基を表すか又はフェニル基以外の炭素数3〜30の環式炭化水素基を
表す。P22〜P24がアルキル基である場合には、水酸基、炭素数1〜12のアルコキシ基又は炭素数3〜12の環式炭化水素基の一つ以上を置換基として含んでいてもよく、P22〜P24が環式炭化水素基の場合には、水酸基、炭素数1〜12のアルキル基又は炭素数1〜12のアルコキシ基の一つ以上を置換基として含んでいてもよい。P25〜P30は、水酸基、炭素数1〜12のアルキル基、炭素数1〜12のアルコキシ基又は炭素数3〜12の環式炭化水素基を表し、l、m、n、o、pおよびqは、互いに独立に0〜5の整数を表す。P31は置換されていてもよい芳香環基を表す。P32およびP33は互いに独立に、炭素数1〜12のアルキル基又は炭素数3〜12のシクロアルキル基を表し、該アルキル基は、直鎖でも分岐していてもよい。または、P32とP33とが結合して炭素数3〜12の2価の炭化水素基を表す。P34は炭素数1〜12のアルキル基、炭素数3〜12のシクロアルキル基を表す。ここで、2価の炭化水素基に含まれる炭素原子は、その一部が、カルボニル基、酸素原子、硫黄原子に置換されていてもよい。}
で示されるカチオンを表し、ZはF、Cl、Br、I、BF4、AsF6、SbF6、PF6、又はClO4を表す。)
(式(I)中、X、Y、Q1、Q2及びA+は前記と同じ意味を表す。)
- 式(XII)で示されるカルボン酸と式(VII)で示されるアルコールおよび式(VIII)で示される化合物とを反応させることを特徴とする式(I)で示される塩の製造方法。
(式(XII)中、Q1及びQ2はフッ素原子を表す。A+は式(IIIa)、式(IIIb)、式(IIIc)、式(IIId)または式(IIIe)
{式(IIIa)〜式(IIIe)中、P22〜P24は互いに独立に、直鎖状又は分岐状の炭素数1〜20のアルキル基を表すか又はフェニル基以外の炭素数3〜30の環式炭化水素基を
表す。P22〜P24がアルキル基である場合には、水酸基、炭素数1〜12のアルコキシ基又は炭素数3〜12の環式炭化水素基の一つ以上を置換基として含んでいてもよく、P22〜P24が環式炭化水素基の場合には、水酸基、炭素数1〜12のアルキル基又は炭素数1〜12のアルコキシ基の一つ以上を置換基として含んでいてもよい。P25〜P30は、水酸基、炭素数1〜12のアルキル基、炭素数1〜12のアルコキシ基又は炭素数3〜12の環式炭化水素基を表し、l、m、n、o、pおよびqは、互いに独立に0〜5の整数を表す。P31は置換されていてもよい芳香環基を表す。P32およびP33は互いに独立に、炭素数1〜12のアルキル基又は炭素数3〜12のシクロアルキル基を表し、該アルキル基は、直鎖でも分岐していてもよい。または、P32とP33とが結合して炭素数3〜12の2価の炭化水素基を表す。P34は炭素数1〜12のアルキル基、炭素数3〜12のシクロアルキル基を表す。ここで、2価の炭化水素基に含まれる炭素原子は、その一部が、カルボニル基、酸素原子、硫黄原子に置換されていてもよい。}
で示されるカチオンを表す。)
(式(VII)中、Xは、下記式
{式中、X2は単結合または炭素数1〜6の2価の炭化水素基を表し、含まれる炭素原子はその一部が酸素原子により置換されていてもよく、カルボニル基を形成していてもよい。}
で示される基を表す。)
(式(VIII)中、Yはシクロヘキサン骨格、ベンゼン骨格、ナフタレン骨格のいずれかを有する炭素数が6〜30の環式炭化水素基を表し、さらに、Yは炭素数1〜6のアルキル基又は炭素数1〜6のアルコキシ基の1つ以上を置換基として含んでいてもよい。)
(式(I)中、X、Y、A+、Q1およびQ2は前記と同じ意味を表す。)
- 式(XIII)で示される塩と、式(VIII)で示される化合物とを反応させることを特徴とする式(I)で示される塩の製造方法。
(式(XIII)中、Q1およびQ2はフッ素原子を表す。Xは、下記式
{式中、X2は単結合または炭素数1〜6の2価の炭化水素基を表し、含まれる炭素原子はその一部が酸素原子により置換されていてもよく、カルボニル基を形成していてもよい。}
で示される基を表す。A+は式(IIIa)、式(IIIb)、式(IIIc)、式(IIId)または式(IIIe)
{式(IIIa)〜式(IIIe)中、P22〜P24は互いに独立に、直鎖状又は分岐状の炭素数1〜20のアルキル基を表すか又はフェニル基以外の炭素数3〜30の環式炭化水素基を
表す。P22〜P24がアルキル基である場合には、水酸基、炭素数1〜12のアルコキシ基又は炭素数3〜12の環式炭化水素基の一つ以上を置換基として含んでいてもよく、P22〜P24が環式炭化水素基の場合には、水酸基、炭素数1〜12のアルキル基又は炭素数1〜12のアルコキシ基の一つ以上を置換基として含んでいてもよい。P25〜P30は、水酸基、炭素数1〜12のアルキル基、炭素数1〜12のアルコキシ基又は炭素数3〜12の環式炭化水素基を表し、l、m、n、o、pおよびqは、互いに独立に0〜5の整数を表す。P31は置換されていてもよい芳香環基を表す。P32およびP33は互いに独立に、炭素数1〜12のアルキル基又は炭素数3〜12のシクロアルキル基を表し、該アルキル基は、直鎖でも分岐していてもよい。または、P32とP33とが結合して炭素数3〜12の2価の炭化水素基を表す。P34は炭素数1〜12のアルキル基、炭素数3〜12のシクロアルキル基を表す。ここで、2価の炭化水素基に含まれる炭素原子は、その一部が、カルボニル基、酸素原子、硫黄原子に置換されていてもよい。}
で示されるカチオンを表す。)
(式(VIII)中、Yはシクロヘキサン骨格、ベンゼン骨格、ナフタレン骨格のいずれかを有する炭素数が6〜30の環式炭化水素基を表し、さらに、Yは炭素数1〜6のアルキル基又は炭素数1〜6のアルコキシ基の1つ以上を置換基として含んでいてもよい。)
(式(I)中、X、Y、A+、Q1およびQ2は前記と同じ意味を表す。)
- 請求項5に記載の酸発生剤と樹脂とを含有する樹脂組成物であって、該樹脂は酸に不安定な基を有し、アルカリ水溶液に不溶又は難溶な樹脂であり、酸と作用した該樹脂はアルカリ水溶液で溶解し得る樹脂であることを特徴とする樹脂組成物。
- 樹脂が嵩高い基及び酸に不安定な基を有するモノマーに由来する構造単位を含む樹脂である請求項12に記載の樹脂組成物。
- 請求項12又は13に記載の樹脂組成物と塩基性化合物とを含有することを特徴とする化学増幅型レジスト組成物。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007215728A JP5245326B2 (ja) | 2006-08-22 | 2007-08-22 | 化学増幅型レジスト組成物の酸発生剤用の塩 |
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006225059 | 2006-08-22 | ||
JP2006225059 | 2006-08-22 | ||
JP2007215728A JP5245326B2 (ja) | 2006-08-22 | 2007-08-22 | 化学増幅型レジスト組成物の酸発生剤用の塩 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2008074843A JP2008074843A (ja) | 2008-04-03 |
JP5245326B2 true JP5245326B2 (ja) | 2013-07-24 |
Family
ID=39347263
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2007215728A Active JP5245326B2 (ja) | 2006-08-22 | 2007-08-22 | 化学増幅型レジスト組成物の酸発生剤用の塩 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5245326B2 (ja) |
Families Citing this family (31)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5135791B2 (ja) * | 2005-12-27 | 2013-02-06 | 住友化学株式会社 | 化学増幅型レジスト組成物の酸発生剤用の塩 |
JP5033471B2 (ja) * | 2007-05-09 | 2012-09-26 | 住友化学株式会社 | 有機化合物の結晶およびその製造方法 |
JP5205027B2 (ja) * | 2007-07-18 | 2013-06-05 | 東京応化工業株式会社 | 化合物の製造方法 |
JP5186249B2 (ja) * | 2007-12-21 | 2013-04-17 | 東京応化工業株式会社 | 新規な化合物およびその製造方法、酸発生剤、レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 |
US9034556B2 (en) | 2007-12-21 | 2015-05-19 | Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd. | Compound and method of producing the same, acid generator, resist composition and method of forming resist pattern |
JP5297671B2 (ja) * | 2008-03-25 | 2013-09-25 | 東京応化工業株式会社 | レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 |
JP2010152341A (ja) * | 2008-11-27 | 2010-07-08 | Sumitomo Chemical Co Ltd | 液浸露光用化学増幅型フォトレジスト組成物 |
JP6030818B2 (ja) * | 2009-06-23 | 2016-11-24 | 住友化学株式会社 | レジスト組成物の酸発生剤用の塩 |
JP5675125B2 (ja) * | 2009-09-30 | 2015-02-25 | 富士フイルム株式会社 | 感活性光線性または感放射線性樹脂組成物、及び該感光性組成物を用いたパターン形成方法 |
JP5808902B2 (ja) * | 2009-11-10 | 2015-11-10 | 住友化学株式会社 | 塩及びレジスト組成物 |
JP5609569B2 (ja) * | 2009-11-18 | 2014-10-22 | 住友化学株式会社 | 酸発生剤用の塩及びレジスト組成物 |
US8765351B2 (en) | 2009-11-18 | 2014-07-01 | Sumitomo Chemical Company, Limted | Salt and photoresist composition containing the same |
JP5703701B2 (ja) * | 2009-11-18 | 2015-04-22 | 住友化学株式会社 | 酸発生剤用の塩及びレジスト組成物 |
KR101771395B1 (ko) * | 2009-11-18 | 2017-08-25 | 스미또모 가가꾸 가부시키가이샤 | 염 및 이를 함유하는 포토레지스트 조성물 |
TWI476172B (zh) | 2009-11-18 | 2015-03-11 | Sumitomo Chemical Co | 鹽及含有該鹽之光阻組成物 |
JP5703702B2 (ja) * | 2009-11-18 | 2015-04-22 | 住友化学株式会社 | 酸発生剤用の塩及びレジスト組成物 |
JP5598274B2 (ja) * | 2009-11-18 | 2014-10-01 | 住友化学株式会社 | 酸発生剤用の塩及びレジスト組成物 |
JP5609570B2 (ja) * | 2009-11-18 | 2014-10-22 | 住友化学株式会社 | 酸発生剤用の塩及びレジスト組成物 |
KR101769153B1 (ko) | 2010-02-18 | 2017-08-17 | 스미또모 가가꾸 가부시끼가이샤 | 염 및 포토레지스트 조성물 |
JP5677673B2 (ja) * | 2010-03-02 | 2015-02-25 | 住友化学株式会社 | 酸発生剤用の塩、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法 |
JP5664328B2 (ja) * | 2010-03-03 | 2015-02-04 | 住友化学株式会社 | 塩及びレジスト組成物 |
JP5824823B2 (ja) * | 2010-03-26 | 2015-12-02 | 住友化学株式会社 | 塩及びレジスト組成物 |
US8932795B2 (en) * | 2010-05-19 | 2015-01-13 | Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd. | Resist composition, method of forming resist pattern, novel compound, and acid generator |
JP5903840B2 (ja) * | 2010-12-06 | 2016-04-13 | 住友化学株式会社 | 塩及びレジスト組成物 |
JP5890163B2 (ja) * | 2010-12-24 | 2016-03-22 | 住友化学株式会社 | 塩、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法 |
JP6010954B2 (ja) * | 2011-04-12 | 2016-10-19 | 住友化学株式会社 | 塩、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法 |
JP5891993B2 (ja) * | 2011-08-08 | 2016-03-23 | 住友化学株式会社 | 塩、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法 |
JP6121122B2 (ja) * | 2011-10-13 | 2017-04-26 | 住友化学株式会社 | 化合物、樹脂、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法 |
JP7245583B2 (ja) * | 2018-05-09 | 2023-03-24 | 住友化学株式会社 | レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法 |
JP2020029451A (ja) * | 2018-08-17 | 2020-02-27 | 住友化学株式会社 | 塩、酸発生剤、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法 |
JP7240301B2 (ja) | 2019-11-07 | 2023-03-15 | 信越化学工業株式会社 | レジスト組成物及びパターン形成方法 |
Family Cites Families (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5226994B2 (ja) * | 2006-09-11 | 2013-07-03 | 住友化学株式会社 | 化学増幅型レジスト組成物の酸発生剤の中間体 |
JP5012122B2 (ja) * | 2007-03-22 | 2012-08-29 | 住友化学株式会社 | 化学増幅型レジスト組成物 |
-
2007
- 2007-08-22 JP JP2007215728A patent/JP5245326B2/ja active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2008074843A (ja) | 2008-04-03 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5245326B2 (ja) | 化学増幅型レジスト組成物の酸発生剤用の塩 | |
JP5266688B2 (ja) | 化学増幅型レジスト組成物の酸発生剤用の塩 | |
JP5374836B2 (ja) | 化学増幅型レジスト組成物の酸発生剤用の塩 | |
JP4967365B2 (ja) | 化学増幅型レジスト組成物の酸発生剤用の塩 | |
JP5061484B2 (ja) | 化学増幅型レジスト組成物の酸発生剤用の塩 | |
JP5070814B2 (ja) | 化学増幅型レジスト組成物の酸発生剤用の塩 | |
JP5494714B2 (ja) | 化学増幅型レジスト組成物 | |
JP5194375B2 (ja) | 化学増幅型レジスト組成物の酸発生剤用の塩 | |
JP5125057B2 (ja) | 化学増幅型レジスト組成物の酸発生剤用の塩 | |
JP5109688B2 (ja) | 化学増幅型レジスト組成物 | |
JP5135791B2 (ja) | 化学増幅型レジスト組成物の酸発生剤用の塩 | |
JP5070802B2 (ja) | 化学増幅型レジスト組成物の酸発生剤用の塩 | |
JP5018439B2 (ja) | 化学増幅型レジスト組成物 | |
JP4946846B2 (ja) | 化学増幅型レジスト組成物 | |
JP5070801B2 (ja) | 化学増幅型レジスト組成物の酸発生剤用の塩 | |
JP5504819B2 (ja) | 化学増幅型フォトレジスト組成物 | |
JP5223260B2 (ja) | 化学増幅型レジスト組成物の酸発生剤用の塩 | |
JP5012122B2 (ja) | 化学増幅型レジスト組成物 | |
JP5109649B2 (ja) | 化学増幅型レジスト組成物 | |
JP4844436B2 (ja) | 化学増幅型レジスト組成物 | |
JP4483447B2 (ja) | 酸発生剤及びレジスト組成物 | |
JP2011051981A (ja) | 酸発生剤用の塩、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法 | |
JP4379028B2 (ja) | 酸発生剤及びレジスト組成物 | |
JP2011006402A (ja) | 酸発生剤用の塩及びレジスト組成物 | |
JP4289121B2 (ja) | 化学増幅型ポジ型レジスト組成物 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
RD05 | Notification of revocation of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7425 Effective date: 20080204 |
|
RD05 | Notification of revocation of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7425 Effective date: 20080516 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20100602 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20121106 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20121113 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20121226 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20130205 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20130213 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20130312 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20130325 |
|
R151 | Written notification of patent or utility model registration |
Ref document number: 5245326 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R151 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20160419 Year of fee payment: 3 |
|
S531 | Written request for registration of change of domicile |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |