JP5245208B2 - 多孔性金属錯体の製造方法 - Google Patents
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XOOC−R ・・・(I)
(ただし、Rはアルキル基、アルキニル基、アルケニル基又はアリール基を示す。Xはアルカリ金属又はアルカリ土類金属を示す。)で表されるモノカルボン酸誘導体を含むことが好ましい。この場合、アルキル基、アルキニル基、アルケニル基又はアリール基は置換基を有していても良い。
実施例1 安息香酸銅−ピラジンの合成
モノカルボン酸誘導体として安息香酸ナトリウムを、第2の金属塩として酢酸銅を用いた。まず、安息香酸ナトリウム2.10[g]と酢酸銅一水和物2.60[g]を水/メタノール溶液に溶解して攪拌後室温にて18[時間]放置した。析出した固体を吸引濾過により回収し、粗結晶を得た。粗結晶をアセトンに溶解し、ピラジンを加えて室温で6[時間]攪拌し、吸引濾過を行った。その後、100[℃]で2[時間]真空乾燥を行い、目的物である安息香酸銅−ピラジンを得た。
モノカルボン酸誘導体としてナフトエ酸のイオン交換により合成したナフトエ酸ナトリウムを、第2の金属塩として酢酸銅を用いた。ナフトエ酸ナトリウム2.60[g]と酢酸銅一水和物2.60[g]を水/メタノール溶液に溶解して攪拌後室温にて26[時間]放置した。析出した固体を吸引濾過により回収し、粗結晶を得た。粗結晶をアセトンに溶解し、ピラジンを加えて室温で10[時間]攪拌し、吸引濾過を行った。その後、100[℃]で2[時間]真空乾燥を行い、目的物であるナフトエ酸銅−ピラジンを得た。
モノカルボン酸誘導体として安息香酸カリウムを、第2の金属塩として酢酸銅を用いた。安息香酸カリウム2.42[g]と酢酸銅一水和物2.60[g]を水/メタノール溶液に溶解して攪拌後室温にて26[時間]放置した。析出した固体を吸引濾過により回収し、粗結晶を得た。粗結晶をアセトンに溶解し、ピラジンを加えて室温で10[時間]攪拌し、吸引濾過を行った。その後、100[℃]で2[時間]真空乾燥を行い、目的物である安息香酸銅−ピラジンを得た。
モノカルボン酸誘導体として安息香酸ナトリウムを、第2の金属塩として酢酸ロジウム二水和物を用いた。安息香酸ナトリウム2.10[g]と酢酸ロジウム二水和物2.60[g]を水/メタノール溶液に溶解して攪拌後室温にて26[時間]放置した。析出した固体を吸引濾過により回収し、粗結晶を得た。粗結晶をアセトンに溶解し、ピラジンを加えて室温で10[時間]攪拌し、吸引濾過を行った。その後、100[℃]で2[時間]真空乾燥を行い、目的物である安息香酸ロジウム−ピラジンを得た。
モノカルボン酸誘導体として安息香酸ナトリウムを、第2の金属塩として酢酸銅を用いた。まず、安息香酸ナトリウム2.88[g]と酢酸銅一水和物2.00[g]を水/メタノール溶液に溶解して攪拌後室温にて18[時間]放置した。析出した固体を吸引濾過により回収し、その後、80[℃]で2[時間]真空乾燥を行い、目的物である安息香酸銅を得た。
モノカルボン酸誘導体としてナフトエ酸のイオン交換により合成したナフトエ酸ナトリウムを、第2の金属塩として酢酸銅を用いた。ナフトエ酸ナトリウム3.88[g]と酢酸銅一水和物2.00[g]を水/メタノール溶液に溶解して攪拌後室温にて24[時間]放置した。析出した固体を吸引濾過により回収し、その後、80[℃]で2[時間]真空乾燥を行い、目的物であるナフトエ酸銅を得た。
モノカルボン酸誘導体として安息香酸カリウムを、第2の金属塩として酢酸銅を用いた。安息香酸カリウム3.20[g]と酢酸銅一水和物2.00[g]を水/メタノール溶液に溶解して攪拌後室温にて24[時間]放置した。析出した固体を吸引濾過により回収し、その後、80[℃]で2[時間]真空乾燥を行い、目的物である安息香酸銅を得た。
モノカルボン酸誘導体として安息香酸ナトリウムを、第2の金属塩として酢酸ロジウム二水和物を用いた。安息香酸ナトリウム2.88[g]と酢酸ロジウム二水和物4.78[g]を水/メタノール溶液に溶解して攪拌後室温にて24[時間]放置した。析出した固体を吸引濾過により回収し、その後、80[℃]で2[時間]真空乾燥を行い、目的物である安息香酸ロジウムを得た。
モノカルボン酸誘導体として安息香酸ナトリウムを、第2の金属塩として酢酸銅を用いた。まず、安息香酸ナトリウム2.88[g]とピラジン0.40[g]と酢酸銅一水和物2.00[g]を水/メタノール溶液に溶解して攪拌後室温にて18[時間]放置した。析出した固体を吸引濾過により回収し、その後、80[℃]で2[時間]真空乾燥を行い、目的物である安息香酸銅−ピラジンを得た。
モノカルボン酸誘導体としてナフトエ酸のイオン交換により合成したナフトエ酸ナトリウムを、第2の金属塩として酢酸銅を用いた。ナフトエ酸ナトリウム3.85[g]とピラジン0.40[g]と酢酸銅一水和物2.00[g]を水/メタノール溶液に溶解して攪拌後室温にて20[時間]放置した。析出した固体を吸引濾過により回収し、その後、80[℃]で2[時間]真空乾燥を行い、目的物であるナフトエ酸銅−ピラジンを得た。
モノカルボン酸誘導体として安息香酸カリウムを、第2の金属塩として酢酸銅を用いた。安息香酸カリウム3.20[g]とピラジン0.40[g]と酢酸銅一水和物2.00[g]を水/メタノール溶液に溶解して攪拌後室温にて20[時間]放置した。析出した固体を吸引濾過により回収し、その後、80[℃]で2[時間]真空乾燥を行い、目的物である安息香酸銅−ピラジンを得た。
モノカルボン酸誘導体として安息香酸ナトリウムを、第2の金属塩として酢酸ロジウム二水和物を用いた。安息香酸ナトリウム2.88 [g]とピラジン0.40[g]と酢酸ロジウム二水和物4.78[g]を水/メタノール溶液に溶解して攪拌後室温にて20[時間]放置した。析出した固体を吸引濾過により回収し、その後、80[℃]で2[時間]真空乾燥を行い、目的物である安息香酸ロジウム−ピラジンを得た。
モノカルボン酸として安息香酸を用いた。まず、安息香酸1.00[g]と酢酸銅一水和物0.50[g]をジエチレングリコールメチルエステルに溶解し、攪拌後室温にて36[時間]放置した。析出した固体を吸引濾過により回収し粗結晶を得た。粗結晶をアセトンに溶解し、ピラジンを加えて室温で10[時間]攪拌し、吸引濾過を行った。その後、100[℃]で2[時間]真空乾燥を行い、目的物である安息香酸銅−ピラジンを得た。
モノカルボン酸として安息香酸を用いた。まず、安息香酸1.00[g]と酢酸ロジウム二水和物0.50[g]をジエチレングリコールメチルエステルに溶解し、攪拌後室温にて48[時間]放置した。析出した固体を吸引濾過により回収し粗結晶を得た。粗結晶をアセトンに溶解し、ピラジンを加えて室温で10[時間]攪拌し、吸引濾過を行った。その後、100[℃]で2[時間]真空乾燥を行い、目的物である安息香酸ロジウム−ピラジンを得た。
実施例1及び参考例2で得られた試料について、ガス貯蔵能力を測定した。測定方法は、JIS H 7201の水素吸蔵放出測定試験に従った。試料を秤量して測定用耐圧試料管に入れ、200[℃]で3[時間]真空引きして試料管内に残留しているガスを放出させて、水素が吸蔵されていない原点を得た後測定を行った。測定温度は25[℃]とした。その後大気圧まで減圧して水素放出量の確認を行った。
合成した試料の結晶構造の確認にはマックスサイエンス社製X線回折装置(MXP 18VAHF)を用い、電圧40[kV]、電流300[mA]、X線波長CuKαで測定を行った。
合成した試料の組成は、元素分析により確認した。炭素、水素、窒素の確認には、JPI-5S-65-2004を用い、金属元素の確認には、誘導結合プラズマ発光分光分析法を用いた。
2 中心金属
3 有機配位子
4 架橋配位子
Claims (8)
- 中心金属とカルボキシレート基を有する有機配位子とを備える金属錯体の三次元的多孔性骨格構造からなる多孔性金属錯体の製造方法であって、
前記有機配位子の塩をモノカルボン酸金属塩として調製する工程と、
前記中心金属の塩を第2の金属塩として調製する工程と、
前記モノカルボン酸金属塩及び第2の金属塩を反応させる工程と、
を備え、
前記反応においては、ピラジンが加えられ、
前記モノカルボン酸金属塩は、次の一般式(I)
XOOC−R ・・・(I)
(ただし、Rはアリール基を示し、XはNa又はKを示す。)で表されるモノカルボン酸誘導体を含み、
前記第2の金属塩は、2〜4価の金属を含む金属群から選択された金属を含み、
前記モノカルボン酸金属塩は、安息香酸ナトリウム又は安息香酸カリウムであり、
前記中心金属は、Cu又はRhであることを特徴とする多孔性金属錯体の製造方法。 - 前記第2の金属塩は、硝酸塩、硫酸塩、酢酸塩、炭酸塩及び蟻酸塩を含む金属塩群から選択される金属塩を含むことを特徴とする請求項1に記載の多孔性金属錯体の製造方法。
- 前記モノカルボン酸金属塩の調製は、前記モノカルボン酸金属塩を第1の溶媒に溶解して第1の溶液を得ることを含み、
前記第2の金属塩の調製は、前記第2の金属塩を第2の溶媒に溶解して第2の溶液を得ることを含み、
前記反応は、前記第1及び第2の溶液を混合することを含むことを特徴とする請求項1又は2に記載の多孔性金属錯体の製造方法。 - 前記モノカルボン酸金属塩の調製、前記第2の金属塩の調製及び前記反応のいずれか一つは、前記第1又は第2の溶液に超音波を照射することを含むことを特徴とする請求項3に記載の多孔性金属錯体の製造方法。
- 前記第1及び第2の溶媒の一方は、N,N’−ジメチルホルムアミド、N,N’-ジエチルホルムアミド、水、アルコール類、テトラヒドロフラン、ベンゼン、トルエン、ヘキサン、アセトン及びアセトニトリルを含む溶媒群から選択された溶媒を含むことを特徴とする請求項3又は4に記載の多孔性金属錯体の製造方法。
- 前記第1及び第2の溶媒の一方は、N,N’−ジメチルホルムアミド、N,N’-ジエチルホルムアミド、水、アルコール類を含む溶媒群から選択された溶媒を含むことを特徴とする請求項5に記載の多孔性金属錯体の製造方法。
- 前記反応は、硝酸ナトリウム、硫酸ナトリウム、酢酸ナトリウム、炭酸ナトリウム、蟻酸ナトリウム、硝酸カリウム、硫酸カリウム、酢酸カリウム、炭酸カリウム及び蟻酸カリウムを含む金属塩群から選択された金属塩を副生成物として得ることを含むことを特徴とする請求項1乃至6のいずれか一項に記載の多孔性金属錯体の製造方法。
- 前記多孔性金属錯体は、8〜10のpHを有することを特徴とする請求項1乃至7のいずれか一項に記載の多孔性金属錯体の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006115836A JP5245208B2 (ja) | 2005-04-25 | 2006-04-19 | 多孔性金属錯体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005126355 | 2005-04-25 | ||
JP2005126355 | 2005-04-25 | ||
JP2006115836A JP5245208B2 (ja) | 2005-04-25 | 2006-04-19 | 多孔性金属錯体の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2006328050A JP2006328050A (ja) | 2006-12-07 |
JP5245208B2 true JP5245208B2 (ja) | 2013-07-24 |
Family
ID=37550118
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2006115836A Active JP5245208B2 (ja) | 2005-04-25 | 2006-04-19 | 多孔性金属錯体の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5245208B2 (ja) |
Families Citing this family (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5176286B2 (ja) * | 2005-04-28 | 2013-04-03 | 日産自動車株式会社 | 多孔性金属錯体の製造方法 |
JP5305278B2 (ja) * | 2007-01-31 | 2013-10-02 | 日産自動車株式会社 | 多孔性金属錯体、多孔性金属錯体の製造方法、吸着材、分離材、ガス吸着材及び水素吸着材 |
JP2013112660A (ja) * | 2011-11-30 | 2013-06-10 | Sumitomo Chemical Co Ltd | 多孔性金属錯体、多孔性金属錯体の製造方法及びガス吸蔵材料 |
JP6048750B2 (ja) * | 2012-06-27 | 2016-12-21 | 昭栄化学工業株式会社 | 複合体の製造方法 |
JP7038801B2 (ja) * | 2018-03-22 | 2022-03-18 | 富士フイルム株式会社 | 金属有機構造体の製造方法 |
Family Cites Families (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
GB9117191D0 (en) * | 1991-08-08 | 1991-09-25 | Tioxide Chemicals Limited | Preparation of titanium derivatives |
JP3545678B2 (ja) * | 2000-06-05 | 2004-07-21 | 大陽東洋酸素株式会社 | 酸素ガス吸収剤、その製造法、および酸素ガスの吸収方法 |
JP4258608B2 (ja) * | 2002-11-13 | 2009-04-30 | 大阪瓦斯株式会社 | 三次元型金属錯体、吸着材および分離材 |
JP2005232109A (ja) * | 2004-02-20 | 2005-09-02 | Mitsubishi Chemicals Corp | ポリカルボン酸金属錯体の製造方法 |
-
2006
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Publication number | Publication date |
---|---|
JP2006328050A (ja) | 2006-12-07 |
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A621 | Written request for application examination |
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A977 | Report on retrieval |
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