JP5245129B2 - 石英ガラスルツボの製造方法 - Google Patents
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Description
本願は、2007年7月27日に、日本に出願された特願2007−196649号に基づき優先権を主張し、その内容をここに援用する。
本発明は、上記知見に基づいて従来の上記問題を解決したものであり、石英粉の静電帯電量、ないし供給環境の相対湿度を好ましい範囲に制御することによって、肉厚が均一な石英ガラスルツボを得ることができる製造方法を提供する。
〔1〕石英粉を回転モールドの内壁面に堆積し、加熱溶融してガラス化する石英ガラスルツボの製造方法において、石英粉の静電帯電量を絶対値で1.0kV以下の範囲に制御し、前記制御下で前記石英粉をモールド内壁面に供給することによってモールド内壁面の堆積石英粉層の密度を一定範囲に維持し、石英ガラスルツボの肉厚を制御する石英ガラスルツボの製造方法。
〔2〕石英粉をモールド内壁面に供給する際に、石英粉の供給雰囲気の相対湿度を55%以上に調整することによって、石英粉の静電帯電量を0.0kV〜−1.0kVの範囲に制御して石英粉を堆積する石英ガラスルツボの製造方法。
〔3〕石英粉の静電帯電量を0.0kV〜−1.0kVの範囲に制御して前記石英粉をモールド内壁面に供給することによって、モールド底部に堆積する石英粉層の層厚を目標層厚に対して±1%未満に制御する石英ガラスルツボの製造方法。
6 石英粉供給装置
10 石英粉
12 石英粉堆積層
14 湿度調整装置
18 アーク放電装置
この実施形態の石英ガラスルツボの製造方法では、石英粉を回転モールドの内壁面に堆積し、加熱溶融してガラス化する石英ガラスルツボの製造方法において、石英粉の静電帯電量を絶対値で1.0kV以下の範囲に制御した状態で、前記石英粉をモールド内壁面に供給することによって、モールド内壁面の堆積石英粉層の密度を一定範囲に維持し、石英ガラスルツボの肉厚を制御する。なお、石英粉の帯電量は、ファラデーケージ法等を用いた周知の帯電量測定器により測定することができる。
図2において、符号1は有底円筒状のモールドであり、モールド1は、限定はされないが例えばカーボンから形成され、その内部にはモールド内面に開口する多数の減圧通路2が形成されている。減圧通路2には図示しない減圧機構が接続され、モールド1は駆動機構4により回転されると同時に、その内面から減圧通路2を通じて吸気することができる。
精製した高純度の石英粉(平均粒径250μm)を用い、この石英粉を18kg/minの割合で、供給装置により、回転するカーボン製モールド(内径720mmφ、回転数70rpm)の内表面に供給して堆積させた。このとき、モールド内に加湿した空気を供給することにより、石英粉が通過する領域の雰囲気ガスの相対湿度を種々の値に調整し、石英粉の静電帯電量を−2.9kV〜−0.9kVに調整した。相対湿度が約55%の時に静電帯電量が約−1.0kVとなった。
Claims (1)
- 有底円筒状のモールドを回転させつつ、石英粉をモールドの内壁面に堆積させる堆積工程と、
前記モールドの内壁面に堆積させた石英粉を加熱溶融してガラス化することにより、石英ガラスルツボを得る溶融工程とを具備し、
前記石英粉が接触する雰囲気ガスに、加湿した気体、水蒸気、あるいは純水の微粒子をアーク溶融熱加熱前に加え、前記堆積工程において、前記石英粉が接触する雰囲気ガスの相対湿度を55%以上に調整し、石英粉の静電帯電量を0.0kV〜−1.0kVの範囲に制御した状態で、前記石英粉をモールドの内壁面に供給することによって、モールドの内壁面の石英粉堆積層の密度を一定範囲に維持し、壁部の石英粉の層厚さを目標層厚となるように治具を用いて削り落とし、モールド底部に堆積する石英粉層の層厚を目標層厚に対して±1%未満に制御し、石英ガラスルツボの肉厚を制御することを特徴とする石英ガラスルツボの製造方法。
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DE102008030310B3 (de) * | 2008-06-30 | 2009-06-18 | Heraeus Quarzglas Gmbh & Co. Kg | Verfahren zur Herstellung eines Quarzglastiegels |
JP4922355B2 (ja) * | 2009-07-15 | 2012-04-25 | 信越石英株式会社 | シリカ容器及びその製造方法 |
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WO2011071178A1 (ja) * | 2009-12-11 | 2011-06-16 | ジャパンスーパークォーツ株式会社 | シリカガラスルツボ |
JP5781303B2 (ja) * | 2010-12-31 | 2015-09-16 | 株式会社Sumco | シリカガラスルツボ製造方法およびシリカガラスルツボ製造装置 |
JP5777880B2 (ja) * | 2010-12-31 | 2015-09-09 | 株式会社Sumco | シリカガラスルツボの製造方法 |
US20120272687A1 (en) * | 2011-04-27 | 2012-11-01 | Japan Super Quartz Corporation | Apparatus for manufacturing vitreous silica crucible |
JP7157932B2 (ja) * | 2019-01-11 | 2022-10-21 | 株式会社Sumco | シリカガラスルツボの製造装置および製造方法 |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2000072594A (ja) * | 1998-08-28 | 2000-03-07 | Shinetsu Quartz Prod Co Ltd | シリコン単結晶引き上げ用大口径石英ガラスるつぼ 及びその製造方法 |
JP2001348240A (ja) * | 2000-05-31 | 2001-12-18 | Shinetsu Quartz Prod Co Ltd | 石英ガラスルツボの製造方法 |
JP2004262690A (ja) * | 2003-02-28 | 2004-09-24 | Shinetsu Quartz Prod Co Ltd | シリコン単結晶引上げ用石英ガラスルツボの製造方法および該製造方法で製造された石英ガラスルツボ |
Family Cites Families (10)
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---|---|---|---|---|
DE3014311C2 (de) * | 1980-04-15 | 1982-06-16 | Heraeus Quarzschmelze Gmbh, 6450 Hanau | Verfahren zur Herstellung von Quarzglastiegeln und Vorrichtung zur Durchführung dieses Verfahrens |
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WO2009017068A1 (ja) * | 2007-07-28 | 2009-02-05 | Japan Super Quartz Corporation | 石英ガラスルツボの製造方法および製造装置 |
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JP2001348240A (ja) * | 2000-05-31 | 2001-12-18 | Shinetsu Quartz Prod Co Ltd | 石英ガラスルツボの製造方法 |
JP4592037B2 (ja) * | 2000-05-31 | 2010-12-01 | 信越石英株式会社 | 石英ガラスルツボの製造方法 |
JP2004262690A (ja) * | 2003-02-28 | 2004-09-24 | Shinetsu Quartz Prod Co Ltd | シリコン単結晶引上げ用石英ガラスルツボの製造方法および該製造方法で製造された石英ガラスルツボ |
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