JP5239230B2 - ガスバリアフィルム - Google Patents
ガスバリアフィルム Download PDFInfo
- Publication number
- JP5239230B2 JP5239230B2 JP2007177043A JP2007177043A JP5239230B2 JP 5239230 B2 JP5239230 B2 JP 5239230B2 JP 2007177043 A JP2007177043 A JP 2007177043A JP 2007177043 A JP2007177043 A JP 2007177043A JP 5239230 B2 JP5239230 B2 JP 5239230B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- organic compound
- compound layer
- gas barrier
- weight
- parts
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Images
Landscapes
- Coating Of Shaped Articles Made Of Macromolecular Substances (AREA)
- Laminated Bodies (AREA)
Description
しかし、蒸着法を用いてフッ素化合物膜を形成する場合、基材表面の凹凸をそのまま追従してフッ素化合物膜が形成されるため、フッ素化合物膜表面は平滑にはならず、バリア性向上への寄与はそれほど大きいものではなかった。
前記有機化合物層はウェット成膜法により形成されたものであり、
前記有機化合物層が少なくともフッ素系界面活性剤と2官能以上の(メタ)アクリル基を有する樹脂とからなり、
前記2官能以上の(メタ)アクリル基を有する樹脂100重量部に対し、前記フッ素系界面活性剤が0.01重量部以上1重量部以下配合してなり、
前記ポリエステル基材の前記有機化合物層を設ける面に易接着処理が施されており、前記ポリエステル基材の前記有機化合物層を設ける面における、JIS B 0601−1994に基づく表面凹凸の算術平均粗さ(Ra)が0.005μm以上0.015μm以下であり、最大高さ(Ry)が0.02μm以下である
ことを特徴とするガスバリアフィルムである。
前記有機化合物層はウェット成膜法により形成されたものであり、
前記有機化合物層が少なくともフッ素系樹脂と2官能以上の(メタ)アクリル基を有する樹脂とからなり、
前記2官能以上の(メタ)アクリル基を有する樹脂100重量部に対し、前記フッ素系樹脂が5重量部以上500重量部以下配合してなり、
前記ポリエステル基材の前記有機化合物層を設ける面に易接着処理が施されており、前記ポリエステル基材の前記有機化合物層を設ける面における、JIS B 0601−1994に基づく表面凹凸の算術平均粗さ(Ra)が0.005μm以上0.015μm以下であり、最大高さ(Ry)が0.02μm以下であることを特徴とするガスバリアフィルムである。
(ただしR1、R2は炭素数1〜8の有機基、Mは金属原子)
図1は、本発明におけるガスバリアフィルムの断面概略図である。本発明におけるガスバリアフィルム1は、ポリエステル基材2の少なくとも一方の面上に、有機化合物層3と無機酸化物層4とが順次形成されたものである。ここで、ポリエステル基材の両面に、有機化合物層と無機酸化物層とを順次形成してもよい。また、有機化合物層が2層以上の有機化合物層の積層体から構成されていてもよく、無機酸化物層が2層以上の無機酸化物層の積層体から構成されていてもよい。しかし、有機化合物層上に無機酸化物層が形成されている必要がある。
ジイソシアネートとしては、テトラメチレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、2,4−トリレンジイソシアネート、4,4−ジフェニルジイソシアネート、1,5−ナフタレンジイソシアネート、3,3−ジメチル−4,4−ジフェニルジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート等を挙げることができ、ジオールとしては、エチレングリコール、プロピレングリコール、1,3−ブタンジオール、1,4−ブタンジオール、1,6−ヘキサンジオール、1,9−ナノンジオール、ネオペンチルグリコール、1,4−シクロヘキサンジオール、ポリエチレンオキサイドジオール、ポリプロピレンオキサイドジオール、ポリテトラメチレンオキサイドジオール、ビスフェノールAのエチレンオキサイド付加物、ビスフェノールAのプロピレンオキサイド付加物、ポリカプロラクトンジオール、ポリエステルジール、ポリカーボネートジオール等を挙げることができる。また、水酸基含有(メタ)アクリレートとしては、2−ヒドロキシエチルアクリレート、2−ヒドロキシプロピルアクリレート、4−ヒドロキシブチルアクリレート、2−ヒドロキシエチルメタクリレート、2−ヒドロキシプロピルメタクリレート、2−ヒドロキシエチルアクリレートのカプロラクトン変性物、2−ヒドロキシエチルアクリレートオリゴマー、2−ヒドロキシプロピルアクリレートオリゴマー、ペンタエリスリトールトリアクリレート等を挙げることができる。
光重合開始剤としては、例えば、アセトフェノン類、ベンゾイン類、ベンゾフェノン類、ホスフィンオキシド類、ケタール類、アントラキノン類、チオキサントン類等が挙げることができる。
光増感剤としては、n−ブチルアミン、トリエチルアミン、ポリ−n−ブチルホスフィン等が挙げることができる。
紫外線照射手段としては、例えば、低圧水銀灯、中圧水銀灯、高圧水銀灯、カーボンアーク灯、メタルハライドランプ、キセノンランプ、無電極放電管等を用いることができる。照射条件として紫外線照射量は、通常100mJ/cm2以上800mJ/cm2以下程度である。
電子線照射手段としては、有機化合物層3表面に電子線を照射できるものであればよく、特に制限されるものではない。
なお、透明ガスバリアフィルムの性能は、下記の方法に従って評価した。
全光線透過率は、日本電色工業株式会社製、NDH−2000を用い、JIS−K7105に準拠して測定を行った。
水蒸気透過度は、JIS−Z0208に順ずる方法を用いてカップ法により測定し、40℃、90RH%の条件下において、フィルムを透過する水分を塩化カルシウムの重量変化により測定した。
50μmのポリエチレンテレフタレートフィルム基材(A4100、東洋紡績株式会社製)を用い、その易接着面に
アクリルモノマー(DPE−6A、共栄社化学株式会社製) 400重量部
フッ素系界面活性剤(BYK−340、ビックケミー・ジャパン株式会社製)
0.4重量部
溶媒(メチルイソブチルケトン、純正化学株式会社製) 600重量部
光重合開始剤(イルガキュアー184、チバスペシャリティケミカルズ社製)
20重量部
を攪拌、混合した塗布液を、バーコート法により硬化膜厚2μmになるように塗布、乾燥させ、メタルハライドランプにより400mJ/cm2の紫外線を照射し有機化合物層を形成した。その有機化合物層の上に電子ビーム加熱方式の真空蒸着装置を用いて、酸化珪素材料(SiO、キヤノンオプトロン株式会社製)を電子ビーム加熱によって蒸発させ、成膜中の圧力が1.5×10−2Paにおいて硬化膜厚50nmのSiOx膜を成膜した。ただし、このときの蒸着条件は、加速電圧が40kV、エミッション電流が0.2Aである。
このガスバリアフィルムの水蒸気透過率は0.5g/m2・day、全光線透過率は80%であった。
50μmのポリエチレンテレフタレートフィルム基材(A4100、東洋紡績株式会社製)を用い、その易接着面に
ウレタンアクリレート(U−6HA、新中村化学工業株式会社製) 400重量部
フッ素系界面活性剤(F−470、大日本インキ化学工業株式会社製)0.8重量部
溶媒(酢酸エチル、純正化学株式会社製) 600重量部
光重合開始剤(イルガキュアー907、チバスペシャリティケミカルズ社製)
20重量部
を攪拌、混合した塗布液を、バーコート法により硬化膜厚2μmになるように塗布、乾燥させ、メタルハライドランプにより400mJ/cm2の紫外線を照射し有機化合物層を形成した。その有機化合物層の上に電子ビーム加熱方式の真空蒸着装置を用いて、酸化珪素材料(SiO、キヤノンオプトロン株式会社製)を電子ビーム加熱によって蒸発させ、成膜中の圧力が1.5×10−2Paにおいて硬化膜厚50nmのSiOx膜を成膜した。蒸着条件は実施例1と同様である。
このガスバリアフィルムの水蒸気透過率は0.5g/m2・day、全光線透過率は79%だった。
50μmのポリエチレンテレフタレートフィルム基材(A4100、東洋紡績株式会社製)を用い、その易接着面に
ウレタンアクリレート(UA306I、共栄社化学株式会社製)
400重量部
フッ素系界面活性剤(BYK−340、ビックケミー・ジャパン株式会社製)
0.2重量部
溶媒(酢酸エチル、純正化学株式会社製) 600重量部
光重合開始剤(イルガキュアー907、チバスペシャリティケミカルズ社製)
20重量部
を攪拌、混合した塗布液を、バーコート法により硬化膜厚2μmになるように塗布、乾燥させ、メタルハライドランプにより400mJ/cm2の紫外線を照射し有機化合物層を形成した。その有機化合物層の上に電子ビーム加熱方式の真空蒸着装置を用いて、酸化珪素材料(SiO、キヤノンオプトロン株式会社製)を電子ビーム加熱によって蒸発させ、成膜中の圧力が1.5×10−2Paにおいて硬化膜厚50nmのSiOx膜を成膜した。蒸着条件は実施例1と同様である。
このガスバリアフィルムの水蒸気透過率は0.5g/m2・day、全光線透過率は79%だった。
50μmのポリエチレンテレフタレートフィルム基材(A4100、東洋紡績株式会社製)を用い、その易接着面に
アクリル樹脂(NKエステル A−DPH、新中村化学株式会社製)
400重量部
フッ素系界面活性剤(BYK−340、ビックケミー・ジャパン株式会社製)
2.8重量部
溶媒(酢酸エチル、純正化学株式会社製) 600重量部
光重合開始剤(イルガキュアー184、チバスペシャリティケミカルズ社製)
20重量部
を攪拌、混合した塗布液を、バーコート法により硬化膜厚2μmになるように塗布、乾燥させ、メタルハライドランプにより400mJ/cm2の紫外線を照射し有機化合物層を形成した。その有機化合物層の上に電子ビーム加熱方式の真空蒸着装置を用いて、酸化珪素材料(SiO、キヤノンオプトロン株式会社製)を電子ビーム加熱によって蒸発させ、成膜中の圧力が1.5×10−2Paにおいて硬化膜厚50nmのSiOx膜を成膜した。蒸着条件は実施例1と同様である。
このガスバリアフィルムの水蒸気透過率は0.5g/m2・day、全光線透過率は79%だった。
50μmのポリエチレンテレフタレートフィルム基材(A4100、東洋紡績株式会社製)を用い、その易接着面に
アクリル樹脂(DPE−6A、共栄社化学株式会社製) 400重量部
フッ素系樹脂(ビスコート8F、大阪有機化学工業株式会社製)
20重量部
溶媒(メチルイソブチルケトン、和光純薬株式会社製) 630重量部
光重合開始剤(イルガキュアー907、チバスペシャリティケミカルズ社製)
21重量部
を攪拌、混合した塗布液を、バーコート法により硬化膜厚2μmになるように塗布、乾燥させ、メタルハライドランプにより400mJ/cm2の紫外線を照射し有機化合物層を形成した。その有機化合物層の上に電子ビーム加熱方式の真空蒸着装置を用いて、酸化珪素材料(SiO、キヤノンオプトロン株式会社製)を電子ビーム加熱によって蒸発させ、成膜中の圧力が1.5×10−2Paにおいて硬化膜厚50nmのSiOx膜を成膜した。蒸着条件は実施例1と同様である。
このガスバリアフィルムの水蒸気透過率は0.6g/m2・day、全光線透過率は78%であった。
<実施例6>
50μmのポリエチレンテレフタレートフィルム基材(A4100、東洋紡績株式会社製)を用い、その易接着面に
アクリル樹脂(DPE−6A、共栄社化学株式会社製) 400重量部
フッ素系樹脂(ビスコート8F、大阪有機化学工業株式会社製)
20重量部
溶媒(メチルイソブチルケトン、和光純薬株式会社製) 630重量部
光重合開始剤(イルガキュアー907、チバスペシャリティケミカルズ社製)
21重量部
を攪拌、混合した塗布液を、バーコート法により硬化膜厚2μmになるように塗布、乾燥させ、メタルハライドランプにより400mJ/cm2の紫外線を照射し有機化合物層を形成した。その有機化合物層の上に電子ビーム加熱方式の真空蒸着装置を用いて、酸化珪素材料(SiO、キヤノンオプトロン株式会社製)を電子ビーム加熱によって蒸発させ、成膜中の圧力が1.5×10−2Paにおいて硬化膜厚50nmのSiOx膜を成膜した。蒸着条件は実施例1と同様である。
このガスバリアフィルムの水蒸気透過率は0.6g/m2・day、全光線透過率は78%であった。
<実施例7>
50μmのポリエチレンテレフタレートフィルム基材(A4100、東洋紡績株式会社製)を用い、その易接着面に
アクリル樹脂(NKエステル A−DPH、新中村化学株式会社製)
100重量部
フッ素系樹脂(ビスコート4F、大阪有機化学工業株式会社製株式会社製)
400重量部
溶媒(メチルイソブチルケトン、和光純薬株式会社製) 750重量部
光重合開始剤(イルガキュアー184、チバスペシャリティケミカルズ社製)
25重量部
を攪拌、混合した塗布液を、バーコート法により硬化膜厚2μmになるように塗布、乾燥させ、メタルハライドランプにより400mJ/cm2の紫外線を照射し有機化合物層を形成した。その有機化合物層の上に電子ビーム加熱方式の真空蒸着装置を用いて、酸化珪素材料(SiO、キヤノンオプトロン株式会社製)を電子ビーム加熱によって蒸発させ、成膜中の圧力が1.5×10−2Paにおいて硬化膜厚50nmのSiOx膜を成膜した。蒸着条件は実施例1と同様である。
このガスバリアフィルムの水蒸気透過率は0.6g/m2・day、全光線透過率は78%であった。
50μmのポリエチレンテレフタレートフィルム基材(A4100、東洋紡績株式会社製)を用い、その易接着面に、フラッシュ蒸着法を用いて、プロポキシ化ネオペンチルグリコールジアクリレート(共栄社化学株式会社製)とフッ素樹脂HFIP−M(セントラル化学株式会社製)が重量比にて1:1の割合で混合した樹脂を、厚さ(硬化膜厚)が200nmとなるよう形成した。ここでフラッシュ蒸着法とは重合しうるアクリル系のモノマー、もしくは、モノマーとオリゴマーの混合物からなる樹脂成分を真空下において高温蒸発源直上で瞬間的に加熱気化させた後、電子線や紫外線照射等により硬化させる方法のことを言う。
その有機化合物層の上に、さらに、電子ビーム加熱方式の真空蒸着装置を用いて、酸化珪素材料(SiO、キヤノンオプトロン株式会社製)を電子ビーム加熱によって蒸発させ、成膜中の圧力が1.5×10−2Paにおいて硬化膜厚50nmのSiOx膜を成膜した。蒸着条件は実施例1と同様である。
このガスバリアフィルムの水蒸気透過率は5.0g/m2・day、全光線透過率は79%であった。
<比較例2>
50μmのポリエチレンテレフタレートフィルム基材(A4100、東洋紡績株式会社製)を用い、その易接着面に
アクリルモノマー(DPE−6A、共栄社化学株式会社製) 400重量部
溶媒(メチルイソブチルケトン、和光純薬株式会社製) 600重量部
光重合開始剤(イルガキュアー184、チバスペシャリティケミカルズ社製)
20重量部
を攪拌、混合した塗布液を、バーコート法により硬化膜厚2μmになるように塗布、乾燥させ、メタルハライドランプにより400mJ/cm2の紫外線を照射し有機化合物層を形成した。その有機化合物層の上に電子ビーム加熱方式の真空蒸着装置を用いて、酸化珪素材料(SiO、キヤノンオプトロン株式会社製)を電子ビーム加熱によって蒸発させ、成膜中の圧力が1.5×10−2Paにおいて硬化膜厚50nmのSiOx膜を成膜した。蒸着条件は実施例1と同様である。このガスバリアフィルムの水蒸気透過率は1.5g/m2・day、全光線透過率は80%だった。
50μmのポリエチレンテレフタレートフィルム基材(A4100、東洋紡績株式会社製)を用い、その易接着面に電子ビーム加熱方式の真空蒸着装置を用いて、酸化珪素材料(SiO、キヤノンオプトロン株式会社製)を電子ビーム加熱によって蒸発させ、成膜中の圧力が1.5×10−2Paにおいて硬化膜厚50nmのSiOx膜を成膜した。蒸着条件は実施例1と同様である。
このガスバリアフィルムの水蒸気透過率は10g/m2・day、全光線透過率は80%だった。
50μmのポリエチレンテレフタレートフィルム基材(A4100、東洋紡績株式会社製)を用い、その易接着面に電子ビーム加熱方式の真空蒸着装置を用いて、酸化珪素材料(SiO、キヤノンオプトロン株式会社製)を電子ビーム加熱によって蒸発させ、成膜中の圧力が1.5×10−2Paにおいて硬化膜厚50nmのSiOx膜を成膜した。蒸着条件は実施例1と同様である。その蒸着膜上に
ウレタンアクリレート(U−6HA、新中村化学工業株式会社製) 400重量部
フッ素系界面活性剤(F−470、大日本インキ化学工業株式会社製)0.8重量部
溶媒(酢酸エチル、純正化学株式会社製) 600重量部
光重合開始剤(イルガキュアー907、チバスペシャリティケミカルズ社製)
20重量部
を攪拌、混合した塗布液を、バーコート法により硬化膜厚2μmになるように塗布、乾燥させ、メタルハライドランプにより400mJ/cm2の紫外線を照射し有機化合物層を形成した。
このガスバリアフィルムの水蒸気透過率は8g/m2・day、全光線透過率は85%だった。
2 ポリエステル基材
3 有機化合物層
4 無機酸化物層
5 オーバーコート層
Claims (7)
- ポリエステル基材の少なくとも一方の面上に、1層以上の有機化合物層と1層以上の無機酸化物層とを順次設けた透明ガスバリアフィルムにおいて、
前記有機化合物層はウェット成膜法により形成されたものであり、
前記有機化合物層が少なくともフッ素系界面活性剤と2官能以上の(メタ)アクリル基を有する樹脂とからなり、
前記2官能以上の(メタ)アクリル基を有する樹脂100重量部に対し、前記フッ素系界面活性剤が0.01重量部以上1重量部以下配合してなり、
前記ポリエステル基材の前記有機化合物層を設ける面に易接着処理が施されており、前記ポリエステル基材の前記有機化合物層を設ける面における、JIS B 0601−1994に基づく表面凹凸の算術平均粗さ(Ra)が0.005μm以上0.015μm以下であり、最大高さ(Ry)が0.02μm以下であることを特徴とするガスバリアフィルム。 - ポリエステル基材の少なくとも一方の面上に、1層以上の有機化合物層と1層以上の無機酸化物層とを順次設けた透明ガスバリアフィルムにおいて、
前記有機化合物層はウェット成膜法により形成されたものであり、
前記有機化合物層が少なくともフッ素系樹脂と2官能以上の(メタ)アクリル基を有する樹脂とからなり、
前記2官能以上の(メタ)アクリル基を有する樹脂100重量部に対し、前記フッ素系樹脂が5重量部以上500重量部以下配合してなり、
前記ポリエステル基材の前記有機化合物層を設ける面に易接着処理が施されており、前記ポリエステル基材の前記有機化合物層を設ける面における、JIS B 0601−1994に基づく表面凹凸の算術平均粗さ(Ra)が0.005μm以上0.015μm以下であり、最大高さ(Ry)が0.02μm以下であることを特徴とするガスバリアフィルム。 - 前記有機化合物層の膜厚が10nm以上20μm以下であることを特徴とする請求項1または2に記載のガスバリア性積層フィルム。
- 前記無機酸化物層の膜厚が10nm以上1000nm以下であることを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載のガスバリアフィルム。
- 前記無機酸化物層が物理気相成長法あるいは化学気相成長法により形成されたものであることを特徴とする請求項1〜4のいずれかに記載のガスバリアフィルム。
- 前記無機酸化物層の上層にR1(M−OR2)で表される少なくとも一種類以上の金属アルコキシドを含有するオーバーコート層を設けることを特徴とする請求項1〜5のいずれかに記載のガスバリアフィルム。
(ただしR1、R2は炭素数1〜8の有機基、Mは金属原子) - 前記無機酸化物層の上層に少なくとも2官能以上の(メタ)アクリル基を有する樹脂を含有するオーバーコート層を設けることを特徴とする請求項1〜5のいずれかに記載のガスバリアフィルム。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007177043A JP5239230B2 (ja) | 2007-07-05 | 2007-07-05 | ガスバリアフィルム |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007177043A JP5239230B2 (ja) | 2007-07-05 | 2007-07-05 | ガスバリアフィルム |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2009012310A JP2009012310A (ja) | 2009-01-22 |
JP5239230B2 true JP5239230B2 (ja) | 2013-07-17 |
Family
ID=40353805
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2007177043A Expired - Fee Related JP5239230B2 (ja) | 2007-07-05 | 2007-07-05 | ガスバリアフィルム |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5239230B2 (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2016155241A (ja) * | 2015-02-23 | 2016-09-01 | Jnc株式会社 | ガスバリアフィルム積層体とそれを用いた電子部品 |
US10967617B2 (en) | 2016-10-24 | 2021-04-06 | Toppan Printing Co., Ltd. | Gas barrier film and color conversion member |
Families Citing this family (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5625560B2 (ja) * | 2010-07-08 | 2014-11-19 | 凸版印刷株式会社 | 積層体 |
JP5668450B2 (ja) * | 2010-12-15 | 2015-02-12 | 凸版印刷株式会社 | 積層体 |
WO2012137662A1 (ja) * | 2011-04-05 | 2012-10-11 | 東レ株式会社 | ガスバリア性フィルム |
JP5849790B2 (ja) * | 2012-03-14 | 2016-02-03 | コニカミノルタ株式会社 | 水蒸気バリアーフィルムの製造方法、水蒸気バリアーフィルム及び電子機器 |
KR101809653B1 (ko) | 2013-12-06 | 2017-12-15 | 주식회사 엘지화학 | 발수성 및 발유성을 갖는 고분자 박막 및 이의 제조 방법 |
Family Cites Families (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH08300589A (ja) * | 1995-05-12 | 1996-11-19 | Toppan Printing Co Ltd | 被覆層形成用フィルムと被覆フィルム |
JP2003154596A (ja) * | 2001-11-22 | 2003-05-27 | Nitto Denko Corp | 透明ガスバリア性フィルム、及びそれを用いた透明導電性電極基材、表示素子、太陽電池又は面状発光体 |
JP4145636B2 (ja) * | 2002-04-12 | 2008-09-03 | 住友ベークライト株式会社 | 光学フィルムシートおよびこれを用いた表示素子 |
JP4211295B2 (ja) * | 2002-06-11 | 2009-01-21 | 住友ベークライト株式会社 | バリア膜付き光学フィルムシートおよびこれを用いた表示素子 |
JP4254350B2 (ja) * | 2002-12-16 | 2009-04-15 | 住友ベークライト株式会社 | 透明バリアフィルム |
JP4310783B2 (ja) * | 2004-05-14 | 2009-08-12 | 恵和株式会社 | 高バリア性シート |
JP2006292834A (ja) * | 2005-04-06 | 2006-10-26 | Fuji Photo Film Co Ltd | 偏光板用保護フィルム、偏光板および液晶表示装置 |
-
2007
- 2007-07-05 JP JP2007177043A patent/JP5239230B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2016155241A (ja) * | 2015-02-23 | 2016-09-01 | Jnc株式会社 | ガスバリアフィルム積層体とそれを用いた電子部品 |
US10967617B2 (en) | 2016-10-24 | 2021-04-06 | Toppan Printing Co., Ltd. | Gas barrier film and color conversion member |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2009012310A (ja) | 2009-01-22 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5239230B2 (ja) | ガスバリアフィルム | |
JP4295588B2 (ja) | 反射防止ガスバリア性基板 | |
JP6666836B2 (ja) | 長尺のガスバリア性積層体およびその製造方法 | |
JP4917942B2 (ja) | 高平滑ガスバリアフィルムおよびその製造方法 | |
JPWO2005100014A1 (ja) | 透明ガスバリア性積層フィルム | |
JP5326341B2 (ja) | ガスバリア性積層フィルム | |
JP4917943B2 (ja) | ガスバリアフィルムの製造方法 | |
JP6207679B2 (ja) | 積層薄膜の製造方法、及び積層薄膜 | |
WO2007037276A1 (ja) | 反射防止膜 | |
JPWO2014017425A1 (ja) | 積層体、積層体の製造方法、電極、el素子、面発光体及び太陽電池 | |
JP6108136B2 (ja) | 無機粒子を含む保護コーティング層が積層されたガスバリヤ性フィルム | |
JP2005313560A (ja) | ガスバリア性フィルム | |
JP4318577B2 (ja) | 低反射部材 | |
JPWO2007111076A1 (ja) | 透明バリア性シートおよび透明バリア性シートの製造方法 | |
JP2009125965A (ja) | ガスバリアフィルム | |
JP5543818B2 (ja) | ガスバリア性フィルム、ガスバリア層、装置及びガスバリア性フィルムの製造方法 | |
WO2017104332A1 (ja) | ガスバリアーフィルム | |
JP2010184409A (ja) | ガスバリア性積層フィルムの製造方法 | |
JP6185867B2 (ja) | 機能性積層材料、機能性積層材料の製造方法、および機能性積層材料を含む有機電界発光装置 | |
JP4298556B2 (ja) | 透明ガスバリアフィルム | |
TW201841773A (zh) | 功能性薄膜及裝置 | |
WO2017047346A1 (ja) | 電子デバイス及び電子デバイスの封止方法 | |
JP7137282B2 (ja) | ガスバリアフィルム用基材、ガスバリアフィルム、電子デバイス用部材、及び電子デバイス | |
JP6318636B2 (ja) | ガスバリア性フィルム | |
JP5729080B2 (ja) | 透明導電性フィルムの製造方法およびタッチパネル |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20100625 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20110621 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20111012 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20111025 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20111221 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20120605 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20120802 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20130305 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20130318 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20160412 Year of fee payment: 3 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |