JP5239145B2 - 光学用部品およびその製造方法 - Google Patents
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Description
また、本明細書では、屈折率の測定方法はJIS K7142に準拠し、また、配合を示す「部」は、質量基準とする。
ガスバリア層が多層である場合は、各層にそれぞれ異なる材料を用いても良い。
ガスバリア層の厚さが50nmに満たない場合、ガスバリア層のガスバリア性が不安定となり、また、ガスバリア層の厚さが2μmを超える場合、ガスバリア層の柔軟性が失われ、ガスバリア層にクラックが生じる事が懸念される。
また、本発明の光学用部品を用いて有機EL表示体を作製した場合、有機EL表示体の発光効率を長期間に渡り高い水準で維持する事ができる。
塗布量(塗布膜厚)は、引上速度で制御が可能であり、引上速度を速くすれば塗布量が多く(塗布膜厚が厚く)、引上速度を遅くすれば塗布量が少なく(塗布膜厚が薄く)なる。
当該波長範囲の紫外線および当該波長範囲の電子線を用いることにより、1μm以下の微細パターンを有するストラクチャー層を短時間に安価に製造することができる。
光学用部品の反射防止層側に、100個の碁盤目状の切り込みを、隙間間隔1mmのカッターガイドを用いて付け、その上に粘着テープ(ニチバン社製、CT24)を升目状の切り傷面に張り付け、指の腹で圧し、密着させた後、表面から90°の方向に一気に引き剥がして、目視により反射防止層のハードコート層からの剥離状況を確認し、反射防止層が剥離しなかったものを合格(○)、反射防止層が剥離したものを不合格(×)とした。
JIS K7129 B法を用いて、光学用部品の撥水層側から透明電極側への水蒸気透過率を測定した。
JIS K7126 B法を用いて、光学用部品の撥水層側から透明電極側への酸素透過率を測定した。
η=π・S・L/Vm・I
(スタンパの作製)
まず、ガラス板(コーニング社製、1737(商品名))表面を島田理化社製の自動洗浄装置で洗浄し、その後、このガラス板をベーパーオーブン内にて、HMDS(ヘキサメチルジシラザン)(東京応化工業社製、OAP(商品名))蒸気を用いて、90℃下において2分間ベーパー処理を行った。
スルファルミ酸ニッケル・4水塩・・・500g/L
硼酸・・・・・・・・・・・・・・・・37g/L
pH・・・・・・・・・・・・・・・・3.8
まず、メチルエチルケトン(MEK)を用いて、紫外線硬化型アクリルモノマーR128H(商品名)(日本化薬社製)を固形分45質量%に希釈したペーストを、ディップコート法を用いて、厚さ60μmのメタアクリル樹脂フィルム(住友化学社製、テクノロイSN101(商品名))の両面に、膜厚3±1μmになるように塗布し、その後、60℃にて予備乾燥した。
評価結果を表1に示した。
光学用部品の(撥水層側から透明電極側への)水蒸気透過率と酸素透過率の評価結果を表1に示した。
平坦化層を形成しなかった以外は、実施例1と同様の方法を用いて、光学用部品の反射防止層とハードコート層の密着評価、光学用部品の作製および評価を行った。
評価結果を表1に示した。
平坦化層を形成しなかった以外は、実施例2と同様の方法を用いて、光学用部品の反射防止層とハードコート層の密着評価、光学用部品の作製および評価を行った。
評価結果を表1に示した。
平坦化層を形成しなかった以外は、実施例3と同様の方法を用いて、光学用部品の反射防止層とハードコート層の密着評価、光学用部品の作製および評価を行った。
評価結果を表1に示した。
まず、メチルエチルケトン(MEK)を用いて、紫外線硬化型アクリルモノマーR128H(商品名)(日本化薬社製)を固形分45質量%に希釈したペーストを、ディップコート法を用いて、厚さ60μmのメタアクリル樹脂フィルム(住友化学社製、テクノロイSN101(商品名))の両面に、膜厚3±1μmになるように塗布し、その後、60℃にて予備乾燥した。
評価結果を表1に示した。
(光学用部品を内蔵した有機EL表示体の作製)
まず、3×10−4Pa下において、m−MTDATXAを蒸着速度0.2nm/secにて、実施例1で作製した光学用部品の透明電極(表面温度25±1℃)上に真空蒸着することにより、膜厚50±11nmの正孔輸送層を形成した。
実施例1で作製した光学用部品でなく、実施例2で作製した光学用部品を用いて、参考例1と同様に有機EL表示体を作製し、その後、有機EL表示体の発光効率を測定し、該測定結果を図5に示した。
実施例1で作製した光学用部品でなく、実施例3で作製した光学用部品を用いて、参考例1と同様に有機EL表示体を作製し、その後、有機EL表示体の発光効率を測定し、該測定結果を図5に示した。
2・・・・・・・電離放射線硬化型アクリル樹脂(電離放射線未照射)
2´・・・・・・ハードコート層
3・・・・・・・電離放射線硬化型アクリル樹脂
3´・・・・・・ストラクチャーパターン
3´´・・・・・ストラクチャー層
4・・・・・・・反射防止層
5・・・・・・・平坦化層
6・・・・・・・ガスバリア層
7・・・・・・・透明電極
8・・・・・・・撥水層
100・・・・・スタンパ用基板
200・・・・・フォトレジスト
200´・・・・可溶化処理したフォトレジスト
200´´・・・フォトレジスト
300・・・・・Ni導電化層
400・・・・・Niめっき層
500・・・・・スタンパ
Claims (8)
- 基材の両面に電離放射線硬化型樹脂をコーティングし、その後、前記基材の一方の面上に形成された前記電離放射線硬化型樹脂上に無機化合物を蒸着し、その後、前記基材のもう一方の面上に形成された前記電離放射線硬化型樹脂上に、ストラクチャー形成用スタンパを押圧し、その後、前記無機化合物側から電離放射線を照射し、その後、前記スタンパを除去することを特徴とする光学用部品の製造方法。
- 請求項1に記載の製造方法により製造された、反射防止層、ハードコート層、基材、ストラクチャー層が順次積層された光学用部品。
- 前記反射防止層が、前記ハードコート層よりも屈折率が小さい無機化合物からなることを特徴とする請求項2に記載の光学用部品。
- 前記無機化合物がMgF2、CaF2またはSiO2であることを特徴とする請求項1に記載の光学用部品の製造方法。
- 前記ストラクチャー層上に平坦化層が形成されたことを特徴とする請求項2又は請求項3に記載の光学用部品。
- 前記平坦化層上にガスバリア層が形成されたことを特徴とする請求項5に記載の光学用部品。
- 前記ガスバリア層上に透明電極が形成されたことを特徴とする請求項6に記載の光学用部品。
- 前記反射防止層上に撥水層が形成されたことを特徴とする請求項2乃至請求項3、又は、請求項5乃至請求項7のいずれか1項に記載の光学用部品。
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