JP5200361B2 - 光学用部品の製造方法 - Google Patents
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Description
また、本明細書では、屈折率の測定方法はJIS K7142に準拠し、また、配合を示す「部」は、質量基準とする。
また、本明細書に記載されている「マイクロレンズアレイ」とは、規則正しく配列された複数のマイクロレンズの総称である。
前記第1層の屈折率をDnとし、前記基材の屈折率をKnとし、前記ストラクチャー層の屈折率をSnとし、前記平坦化層の屈折率をHnとし、前記バリア層の屈折率をBnとし、前記透明電極の屈折率をTnとするとき、
Sn、KnおよびDnが略同一(有効数字上3桁が同じ)であり、
かつ、Tn≦Bn≦Hnの関係があることを特徴とする光学用部品である。
該紫外線および該電子線を用いることにより、1μm以下の微細パターンを有するストラクチャー層を短時間に安価に製造することができる。
η=π・S・L/Vm・I
(スタンパの作製)
まず、ガラス板(コーニング社製、1737(商品名))表面を島田理化社製の自動洗浄装置で洗浄し、その後、このガラス板をベーパーオーブン内にて、HMDS(ヘキサメチルジシラザン)(東京応化工業社製、OAP(商品名))蒸気を用いて、90℃下において2分間ベーパー処理を行った。
スルファルミ酸ニッケル・4水塩・・・500g/L
硼酸・・・・・・・・・・・・・・・・37g/L
pH・・・・・・・・・・・・・・・・3.8
まず、メチルエチルケトン(MEK)を用いて、紫外線硬化型アクリルモノマーR128H(商品名)(日本化薬社製)を固形分45質量%に希釈したペーストを、厚さ60μmのメタアクリル樹脂フィルム(住友化学社製、テクノロイSN101(商品名))上に、グラビアコーターを用いて、膜厚3±1μmになるように塗布し、その後、60℃にて予備乾燥した。
2次元的な微細な周期構造を有する第1層(マイクロレンズアレイ)の屈折率(Dn)は、1.49であった。
基材の屈折率(Kn)は、1.49であった。
ストラクチャー層の屈折率(Sn)は、1.49であった。
平坦化層の屈折率(Hn)は、1.91であった。
バリア層の屈折率(Bn)は、1.90であった。
透明電極の屈折率(Tn)は、1.90であった。
まず、3×10−4Pa下において、m−MTDATXAを蒸着速度0.2nm/secにて透明電極(表面温度25±1℃)上に真空蒸着することにより、膜厚50±11nmの正孔輸送層を形成した。
基材として、厚さ60μmのメタアクリル樹脂フィルム(住友化学社製、テクノロイSN101(商品名))(屈折率1.49)でなく、厚さ60μmの高密度ポリエチレンフィルム(三井東圧化学社製、ハイブロン(商品名))(屈折率1.54)を用いた以外は、実施例1と同様に有機EL表示体を作製し、発光効率を評価し、その結果を図6に示した。
透明電極として、ZnOでなく、SnO2(屈折率2.09)を用いた以外は、実施例1と同様に有機EL表示体を作製し、発光効率を評価し、その結果を図6に示した。
2・・・・・・・電離放射線硬化型アクリル樹脂を主成分としたペースト
2´・・・・・・ストラクチャーパターン
2´´・・・・・ストラクチャー層
3・・・・・・・マイクロレンズアレイ(2次元的な微細な周期構造を有する第1層)
4・・・・・・・平坦化層
5・・・・・・・ガスバリア層
6・・・・・・・透明電極
7・・・・・・・正孔輸送層
8・・・・・・・発光層
9・・・・・・・正孔阻止層
10・・・・・・電子輸送層
11・・・・・・裏面電極バッファー層
12・・・・・・裏面電極
100・・・・・スタンパ用基板
200・・・・・フォトレジスト
200´・・・・可溶化処理したフォトレジスト
200´´・・・フォトレジスト
300・・・・・Ni導電化層
400・・・・・Niめっき層
500・・・・・スタンパ
Claims (1)
- 2次元的な微細な周期構造を有する第1層(マイクロレンズアレイ)、基材、ストラクチャー層、平坦化層、バリア層、透明電極が順次積層された光学用部品の製造方法であって、
(1)ガラス基板の表面をHMDS蒸気を用いて90℃下にて2分間ベーパー処理する工程と
(2)前記ガラス基板の表面にポジ型のフォトレジストを塗布する工程と
(3)レーザー及び光学系マスク(開口数0.89〜0.91)を用いて選択的に前記フォトレジストを露光することにより前記フォトレジストの露光された箇所を可溶化処理し、アルカリ溶液にて、前記フォトレジストを現像する工程と
(4)可溶化処理された前記フォトレジストにNi導電化層を形成する工程と
(5)前記Ni導電化層を電極として電気鍍金法にて前記Ni導電化層上にNiめっき層を形成する工程と
(6)前記ガラス基板及び前記フォトレジストを剥離することによりスタンパを得る工程と
(7)メタアクリル樹脂フィルム上に電離放射線硬化型アクリル樹脂を固形分40〜50%に溶媒で希釈したペーストを積層したものの上に前記スタンパを押圧する工程と
(8)前記メタアクリル樹脂フィルム側から電離放射線を照射することによりストラクチャーパターンを形成する工程と
(9)前記スタンパを除去し、前記ストラクチャーパターンを形成したメタアクリル樹脂フィルム面と逆側の面上に該電離放射線硬化型アクリル樹脂を塗布し、該電離放射線硬化型アクリル樹脂塗布面に1MPaの圧力をかけて1分間マイロレンズアレイ形成用スタンパを圧接した後、前記ストラクチャー層側から750mJ/cm2のエネルギーで波長250nmの紫外線を照射して前記電離放射線硬化型アクリル樹脂を硬化することによりマイロレンズアレイを形成し、その後、前記マイロレンズアレイ形成用スタンパを除去してマイクロレンズアレイを形成する工程と
(10)前記ストラクチャー層上にトリメチルアミンとエタノールおよびフルオロアルキルチタンメトキシドの混合液に、エタノールと二酸化硫黄およびフルオロアルキルチタンメトキシドの混合液を加え、その後、チタンエトキシドとエタノールの混合液を加え、その後、水と塩酸およびエタノールの混合液を加えた混合溶液を塗布し、その後、大気中で130〜150℃下にて焼成して平坦化層を形成する工程と
(11)前記平坦化層の上にプラズマCVD法にてバリア層を形成する工程と
(12)前記バリア層上に透明電極を形成する工程と
を有することを特徴とする光学用部品の製造方法。
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