JP5237592B2 - 基板処理装置、基板処理装置の排気ガス処理方法及び基板処理方法 - Google Patents
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Description
図2は、本発明の第1の実施形態に係る排気系のトラップを詳細に示す概念図である。トラップ3の上端部には第1の開口部3aが設けられており、この第1の開口部3aには、反応室(反応管)に接続されたプロセス排気管2が接続されている。また、トラップ3の底部には、第2の開口部3bが設けられており、この第2の開口部3bには、捕集ライン12が接続されている。この捕集ライン12には、排気ガスG2から液化分離された副生成物(反応生成物)G3を貯えるタンク4が接続されている。さらに、トラップ3の上端部であって、第1の開口部3aと異なる位置には、第3の開口部3cが設けられており、この第3の開口部3cには、工場排気するためのエキゾースト排気管5が接続されている。
図3は、本発明の第2の実施形態に係るプロセス排気管のトラップを詳細に示す概念図である。図2のように冷却ガスG5を冷却パイプで導入/回収せずに、直接トラップ3の内部に流入しても冷却効果を得ることができる。すなわち、冷却ガス流入口12a,12b,12cより冷却ガスG5をトラップ3の内部に流入しても排気ガスG2を冷却することができる。
図4は、本発明の第3の実施形態に係るプロセス排気管のトラップを詳細に示す概念図である。トラップ3の容積がそれ程大きくない場合か又はトラップ3が軽い場合は、トラップ3の内壁を二重構造にして、冷却剤流入口13aから内壁隙間14に冷却ガスG5又は冷却液G4を流して冷却剤流出口13bへ循環させても、トラップ3内の排気ガスG2の冷却効果が得られる。
図2、図3,図4に示すように、上記の第1,第2,第3の実施形態に共通して、トラップ3の排気ガス流入口から底面への案内経路8の出口付近に排気ガスを滞留させるための遮蔽部材11を設ければ、排気ガスG2を一時的に確実に滞留させることができる。その結果、排気ガスG2の流速を落とす効果が得られるので、排気ガスG2の冷却効果及び捕集効果をさらに高めることができる。
11 遮蔽部材、12 捕集ライン、12a,12b,12c 冷却ガス流入口、13a 冷却剤流入口、13b 冷却剤流出口、14 内壁隙間
Claims (4)
- 処理室より排出された排気ガスに含まれる副生成物を捕捉するトラップを排気系に付設する基板処理装置であって、
前記処理室内のガスを排気する第一の排気ラインと前記トラップとを連通する前記トラップの上部に設けられた第一の開口部と、
前記トラップと前記排気ガスの中に含まれる副生成物を補集する補集ラインとを連通する前記トラップの底部に設けられた第二の開口部と、
前記トラップと前記トラップ内の排気ガスを排気する第二の排気ラインとを連通する前記トラップの上部に設けられた第三の開口部と、
を有し、
前記トラップは、
前記第三の開口部から遠ざかる方向に前記第一の開口部から前記排気ガスを前記トラップ内に案内する案内経路と、
前記案内経路から前記排気ガスを排気する第四の開口部と、
前記トラップの内部に、前記排気ガスを滞留させるための遮蔽手段と、
前記トラップの内部に設けられた強制冷却手段と、
を備え、
前記強制冷却手段は、前記第四の開口部を経て前記トラップ内に排気された前記排気ガスを冷却する基板処理装置。 - 基板を処理する処理室と、前記処理室内のガスを排気する第一の排気ラインと前記処理室内から排気される排気ガス中に含まれる副生成物を捕捉するトラップとを連通する前記トラップの上部に設けられた第一の開口部と、前記トラップと前記排気ガスの中に含まれる副生成物を補集する補集ラインとを連通する前記トラップの底部に設けられた第二の開口部と、前記トラップと前記トラップ内の排気ガスを排気する第二の排気ラインとを連通する前記トラップの上部に設けられた第三の開口部とを備える基板処理装置の排気ガス処理方法であって、
前記処理室から排気された排気ガスを第三の開口部から遠ざけるように案内経路によってトラップ内に案内する第1のステップと、
その案内経路から第四の開口部を経てトラップ内に排気ガスを排出する第2のステップと、
前記トラップ内に排気された前記排気ガスを前記トラップの内部に設けられた強制冷却手段によって冷却する第3のステップと、
冷却された排気ガスから副生成物を捕捉する第4のステップと、
副生成物の含まれない排気ガスを第五の開口部から排気する第5のステップと、
から構成される基板処理装置の排気ガス処理方法。 - 基板を処理する処理室と、その処理室内のガスを排気する第一の排気ラインと、
第一の排気ラインと第一の開口部にて連通し処理室から排気された排気ガスの中に含まれる処理室で生成された反応生成物を液化して除去するトラップと、トラップの底部に設けられた第二の開口部にて連通しトラップにより液化された反応生成物を捕集する捕集ラインと、トラップと第三の開口部にて連通しトラップから排気された排気ガスを排気する第二の排気ラインとを備える基板処理装置の排気ガス処理方法であって、
処理室から排気された排気ガスを第三の開口部から遠ざけるように案内経路によってトラップ内に案内する第1のステップと、
その案内経路から第四の開口部を経てトラップ内に排気ガスを排出する第2のステップと、
捕集ラインから第二の開口部を経て第三の開口部側まで延在する冷却手段によって第四の開口部から排出された排気ガスを冷却する第3のステップと、
冷却された排気ガスから液化副生成物を捕捉する第4のステップと、
液化副生成物の含まれない排気ガスを第5の開口部から工場排気させる第5のステップと、
から構成される基板処理装置の排気ガス処理方法。 - 基板を処理室内に搬入し処理する第1のステップと、前記処理室内から第一の排気ラインを通って排気された排気ガスをトラップ上部に設けられた第一の開口部を経て前記トラップ内に排気する第2のステップと、前記トラップにて前記排気ガスに含まれる副生成物を捕捉する第3のステップと、前記トラップの上部に設けられた第三の開口部を経て前記トラップ内の排気ガスを第二の排気ラインに排気する第4のステップと、を有する基板処理方法であって、
前記第3のステップは、
前記処理室から排気ガスを排気する第三の開口部から遠ざけるように案内経路によってトラップ内に案内する第5のステップと、
前記案内経路から第四の開口部を経て前記トラップ内に排気ガスを排出する第6のステップと、
前記トラップ内に排気された前記排気ガスを前記トラップの内部に設けられた強制冷却手段によって冷却する第7のステップと、
前記トラップの底部に設けられた第二の開口部にて連通し前記トラップにより捕捉された副生成物を捕集する捕集ラインに副生成物を捕捉する第8のステップと、
をさらに有する基板処理方法。
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