JP2006203033A - 熱処理装置 - Google Patents
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Abstract
【課題】 2重管構造の処理炉を有する熱処理装置において、ウエハの温度制御性の向上および熱処理のスループットの改善を実現することのできる熱処理装置を提供する。
【解決手段】 処理対象である基板を内部に収容する内管と、前記内管を囲むように前記内管と略同心に配置される外管と、前記外管を囲むように前記外管と略同心に配置される加熱部とを有する熱処理装置において、前記外管と前記内管との間に形成される第1の空間内のガスを排出するための第1の排気手段と、前記加熱部と前記外管との間に形成される第2の空間内のガスを排出するための第2の排気手段とを有し、前記第1の排気手段および第2の排気手段は、前記第1の空間内のガスと前記第2の空間内のガスとが上下方向において略反対方向に流れるように、それぞれ配置されていることを特徴とする。
【選択図】 図1
【解決手段】 処理対象である基板を内部に収容する内管と、前記内管を囲むように前記内管と略同心に配置される外管と、前記外管を囲むように前記外管と略同心に配置される加熱部とを有する熱処理装置において、前記外管と前記内管との間に形成される第1の空間内のガスを排出するための第1の排気手段と、前記加熱部と前記外管との間に形成される第2の空間内のガスを排出するための第2の排気手段とを有し、前記第1の排気手段および第2の排気手段は、前記第1の空間内のガスと前記第2の空間内のガスとが上下方向において略反対方向に流れるように、それぞれ配置されていることを特徴とする。
【選択図】 図1
Description
本発明は、2重管構造の処理炉を有する熱処理装置に関し、特にウエハの温度制御に関する。
図8に2重管構造の処理炉を備えた従来の熱処理装置Jの概略構成図を示す。同図に示す、従来の熱処理装置Jは、ヒータ207、均熱管206、反応管203、ボート217、ガス供給管2、バルブ3、ガス排気管4、バルブ5、ラジエタ6およびブロワ7を備えてなる構成となっている。
ヒータ207の下部には、ヒータ207と均熱管206との間の空間50内にガスを供給するためのガス供給管2がバルブ3を介して接続されている。また、ヒータ207の上部には、空間50内に供給されたガスを排出するためのガス排気管4がバルブ5、ラジエタ6、ブロワ7を介して接続されている。
均熱管206は、例えば反応管203及びウエハ200の温度を均一にするよう、熱容量の大きな物質(例えばSiC)を原材料としている。また、反応管203は耐熱温度が高く反応性が低い物質(例えば石英)を原材料としている。石英は比較的熱容量が大きい物質であり、反応管203内の雰囲気の真空置換にも耐えられるよう肉厚が厚く設定されている場合もあり、反応管203も大きな熱容量を持っている場合が多い。
図示しない基板移載機によりボート217に載置された未処理のウエハ200は、図示しないボートエレベータにより反応管203内に挿入される。そして、ウエハ200に対して、昇温工程、温度安定化工程、アニール(又は成膜)工程、降温工程などの基板処理が施される。反応管203内でのアニール工程(又は成膜工程)が終了し、反応管203内のウエハ200の温度を下げる場合(降温工程)、ヒータ207の出力を減少(又は停止)させるとともに、バルブ3およびバルブ5を開いてブロワ7を作動させ、ヒータ207と均熱管206との間の空間50にガスを流通させることで、空間50内の熱を放出し、ウエハ200の冷却速度を上げるようにしている(例えば、特許文献1および2参照。)。
特開2001−203211号公報 (第3―6頁、第1図)
特開2002−164298号公報 (第3―4頁、第1図)
しかし、上述のような従来の熱処理装置Jでは、大きな熱容量を持つ均熱管206、反応管203を有し、さらに冷却対象であるウエハ200は反応管203の内側に載置されているため、ヒータ207と均熱管206との間の空間50にガスを導入し排気したとしても、ウエハ200の冷却速度が遅く、熱処理装置における熱処理のスループットを向上させにくいという問題があった。
また、ウエハ200を加熱する場合であっても、ヒータ207から供給されるパワーは熱容量の大きな均熱管206及び反応管203を介してウエハ200へと伝達されるので、ウエハ温度の制御性が悪く、スムーズなウエハ昇温工程を実施しにくいという問題があった。
本発明は上述した問題点を解決するためになされたものであり、2重管構造の処理炉を有する熱処理装置において、ウエハの温度制御性の向上および熱処理のスループットの改善を実現することのできる熱処理装置を提供することを目的とする。
上述した課題を解決するため、本発明に係る熱処理装置は、処理対象である基板を内部に収容する内管と、前記内管を囲むように前記内管と略同心に配置される外管と、前記外管を囲むように前記外管と略同心に配置される加熱部とを有する熱処理装置において、前記外管と前記内管との間に形成される第1の空間内のガスを排出するための第1の排気手段と、前記加熱部と前記外管との間に形成される第2の空間内のガスを排出するための第2の排気手段とを有し、前記第1の排気手段および第2の排気手段は、前記第1の空間内のガスと前記第2の空間内のガスとが上下方向において略反対方向に流れるように、それぞれ配置されていることを特徴とするものである。
以上に詳述したように本発明によれば、2重管構造の処理炉を有する熱処理装置において、ウエハの温度制御性の向上および熱処理のスループットの改善を実現することのできる熱処理装置を提供することができる。
(第1の実施の形態)
以下、本発明の第1の実施の形態について図面を参照しつつ説明する。
以下、本発明の第1の実施の形態について図面を参照しつつ説明する。
図1は本発明の第1の実施の形態による熱処理装置N1の構成を示す図であり、図2は本実施の形態による熱処理装置N1の概略構成図である。
均熱管206は例えばSIC等の耐熱性材料からなり、上端が閉塞され、下端に開口を有する円筒状の形態である。例えば石英(SiO2)等の耐熱性材料からなり、処理対象である基板を内部に収容する反応容器(以下反応管203)は、下端に開口を有する円筒状の形態を有し、均熱管(外管)206内に同心円状に配置されている。すなわち、熱処理装置N1は、処理炉として反応管203と均熱管206とを有する(内管を囲むように内管と略同心に配置される外管を有する)2重管構造となっている。また、均熱管206の外側には、ヒータ207が同心円状に配置されている(外管を囲むように外管と略同心に配置される加熱部を有する)。
反応管(内管)203の下部には例えば石英からなるガスの供給管232と排気管231が連結されていて、供給管232と連結する導入口234は反応管203下部から、反応管203側部に添って例えば細管状に立ち上がり、天井部で反応管203内部に至る。排気管231は反応管203の排気口235に接続される。ガスは供給管232から反応管203天井部から内部にガスを流し、反応管203下部に接続された排気管231から排気されるようになっている。
反応管203の導入口234にはガスの供給管232により、処理用のガスが反応管203内に供給されるようになっている。このガスの供給管232はガスの流量制御手段(以下マスフローコントローラ(MFC)241)若しくは水分発生器(図示しない)に連結されており、MFC241はガス流量制御部に接続されており、供給するガス若しくは水蒸気(H2O)の流量を所定の量に制御し得る。
反応管203の排気口235には、圧力調節器(例えばAPC242)に連結されたガスの排気管231が接続されており、反応管203内を流れるガスを排出し、反応管203内をAPC242により圧力を制御することにより、所定の圧力にするよう圧力検出手段(以下圧力センサ245)により検出し、圧力制御部により制御する。
反応管203の下端開口部には、例えば石英からなる円盤状の保持体(以下ベース257)が、Oリング220を介して気密シール可能に着脱自在にあり、ベース257は円盤状の蓋体(以下シールキャップ219)の上に取付けられている。又、シールキャップ219には、回転手段(以下回転軸254)が連結されており、回転軸254により、保持体(以下石英キャップ218)及び基板保持手段(以下ボート217)、ボート217上に保持されている基板(以下ウエハ200)を回転させる。又、シールキャップ219は昇降手段(以下ボートエレベータ115)に連結されていて、ボート217を昇降させる。回転軸254、及びボートエレベータ115を所定のスピードにするように、駆動制御部により制御する。
均熱管206の外周には加熱部(以下ヒータ207)が同心円状に配置されている。ヒータ207は、反応管203内の温度を所定の処理温度にするよう温度検出手段(以下熱電対263)により温度を検出し、温度制御部により制御する。ヒータ207はカンタルヒータ線(Fe、Al、Crの合金線)であり、高温になるとFeイオン、Cuイオン、Alイオン、Crイオン、Liイオン等の金属イオンを放出する。均熱管206に用いられるSiCは金属イオンを捕捉するので、金属汚染を防止する機能を有している。
ヒータ207の下部には、ヒータ207と均熱管206との間の空間(第2の空間)50にガス(例えば不活性ガスやクリーンエアなど)を供給するためのガス供給管2がバルブ3を介して接続されている。また、ヒータ207の上部には、空間50に供給されたガスを排出するためのガス排気管(第2の排気手段に相当)4がバルブ5、ラジエタ6、ブロワ7を介して接続されている。なお、第2の排気手段が接続される部位が第2の排気口に相当する。このようにして、空間50内を流通するガスは、空間50における下方から導入され、空間50における上方から排出されるようになっている。
また、均熱管206の上部には、反応管203と均熱管206の間の空間(第1の空間)51に不活性ガス(例えば窒素ガスなど)を供給するためのガス供給管8がバルブ9を介して接続されている。また、均熱管206の下部には、空間51に供給されたガスを排出するためのガス排気管(第1の排気手段に相当)12が接続されており、ガス排気管12はバルブ11を介してガス排気管4に接続されている。なお、第1の排気手段が接続される部位が第1の排気口に相当する。このようにして、空間51内を流通するガスは、均熱管206の上方から導入され、均熱管206の下方から排出されるようになっている。
次に、本実施の形態による熱処理装置における基板処理工程の概略を説明する。図示しない基板移載機によりボート217に載置された未処理のウエハ200は図示しないボートエレベータにより反応管203内に挿入される。そして、ウエハ200に、昇温工程、温度安定化工程、アニール(又は成膜)工程、降温工程などの基板処理が施される。
このようにしてウエハ200に対する基板処理が終了すると、次のウエハ200の処理に移るべく、反応管203内のガスを所定のガスで置換するとともに、圧力を常圧にし、その後、不図示のボートエレベータによりボート217を下降させて、ボート217及び処理済のウエハ200を反応管203から取出す。反応管203から取出されたボート217上の処理済のウエハ200は、未処理のウエハ200と交換され、同様にして反応管203内に挿入され、基板処理が成される。
まず、昇温工程について説明する。昇温工程とは、ヒータ207を用いてウエハ200の温度を上げる工程である。昇温工程は、バルブ3、バルブ5、バルブ9およびバルブ11を開いてブロワ7を作動させ、空間50および空間51内にガスの流れを作った状態で行うことができる。空間50および空間51内にガスの流れを作った状態で昇温を行えば、熱容量の大きな反応管203及び均熱管206に余分な熱が蓄積されてない状態でウエハ200を昇温することができるので、ウエハ200の温度応答性が向上し(ウエハ温度制御性が向上)、ウエハの昇温時間を短くすることができる(ひいてはスループットの向上に寄与)。
次に、温度安定化工程について説明する。温度安定化工程とは、昇温工程の後、全てのウエハ温度が所定の温度にて安定するまでの待機工程を示している。もし、昇温工程でウエハ温度が所定の処理温度からオーバーシュートすれば、オーバーシュートが解消されるまで、ヒータ出力の減少(或いは停止)などの制御を行う必要がある。そのため、温度安定化工程においても、バルブ3、バルブ5、バルブ9およびバルブ11を開いてブロワ7を作動させ、空間50および空間51内にガスの流れを作った状態で行うことができる。これにより、ウエハ200の温度を下げる制御を行うとき、熱容量の大きな反応管203及び均熱管206に蓄積された熱をスムーズに排出できるため、ウエハ200に蓄積された余分な熱もスムーズに排出される(ウエハ温度制御性の向上に寄与)。したがって、ウエハ温度のオーバーシュートを早く解消することができ、温度安定化工程を短くすることができる(スループットの向上)という効果を奏する。
続いて、アニール(又は成膜)工程について説明する。アニール(又は成膜)工程とは、所定の温度に保持されたウエハ200に対し、処理ガス(例えば水素など)を供給し、ウエハ200の平滑化、再結晶化(又は所望の膜の成長)などを行う工程である。アニール(又は成膜)工程中であっても、ウエハ200の温度を所定の温度に維持するため、ヒータ出力の増減(ウエハ温度の制御)を行っている。したがって、アニール(又は成膜)工程においても、バルブ3、バルブ5、バルブ9およびバルブ11を開いてブロワ7を作動させ、空間50および空間51内にガスの流れを作っておけば、ウエハ温度制御性が向上し、より高い精度でウエハ温度が一定に維持できるようになるため、処理後のウエハ200の品質を向上することができる。
降温工程について説明する。降温工程とは、ウエハ200の温度を下げる工程である。上述のように、処理炉内には熱容量の大きな均熱管206、反応管203があるため、ウエハ200の温度は容易には下がらず、それゆえウエハ200の降温工程の時間が長くなり、スループットの低下の原因となる。従来の熱処理装置では、空間50内にガスを導入して吸引排気することで均熱管206を冷却し、ウエハ200の冷却速度を向上させていたが、本実施の形態による熱処理装置では、空間50のみではなく空間51にもガスを導入し排気するので、熱容量の大きな均熱管206及び反応管203に蓄積された熱を効率よく排出し、処理炉10の冷却速度(ひいてはウエハ200の冷却速度)をさらに向上させることができる(スループットの向上に寄与)。
このような構成によれば、特にガス供給管から供給されるガスによる冷却具合の方が、ガス排気管側に比べて勝っている場合、多くの熱が蓄積されている均熱管206および反応管203との間の空間51の上方から、冷却された新鮮なガスにより順次冷却してゆくことが可能となり、優先的に冷却されるので効率良くウエハ200の均一な冷却を行うことができる。
以上、本実施の形態によれば、ヒータ207と均熱管206との間の空間50に処理室内の温度より低い温度(例えば室温)であるクリーンエアを流通させ、さらに均熱管206と反応管203との間の空間51に処理室内の温度より低い温度である不活性ガスを流通させることにより、均熱管206と反応管203との間を不活性ガスによりパージするようにしているので、反応管203内に水素ガス等の爆発性の高い処理ガスを流す場合であっても、例えば、反応管203外に水素ガスがリークすることに起因する爆発を防止することができ、さらに、反応管203、空間51、均熱管206、空間50及びヒータ207等を急速に冷却することができる。
また、空間50における冷却ガスの流れと、空間51における冷却ガスの流れを、略反対方向とするようにそれぞれの空間におけるガス供給口およびガス排気口を設けた(すなわち、第1の排気手段を外管の上下方向におけるいずれか一端近傍に設け、第2の排気手段を加熱部の上下方向におけるいずれか他端近傍に設けた)ことで、例えば、冷却ガスの供給量が多い場合や冷却ガス自体の温度が非常に低い場合で且つガス排気口付近の冷却具合より勝るような場合、ガス供給側の方が冷却ガスが未だ熱を吸収していない状態で供給されるため、反応管203、空間51、均熱管206、空間50及びヒータ207等の熱を吸収しやすくなる。
これにより、空間50および空間51における冷却ガスの流れが同一方向である構成とすると供給口側である一方の方向が過剰に冷やされすぎ、熱むらが発生しやすくなってしまう問題を回避することができ、上下方向における均一な冷却を行うことが可能となる。もちろん、上述とは反対に、ガス供給側よりもガス排気側における冷却具合が勝っているような場合にも同様な効果を奏することができる。
また、空間50の排気については排気口をヒータ207の上端側とすることにより、空間51に排気口を設けるよりも大きく排気口を設けることができるため、空間50の雰囲気内で熱が多く蓄積されているヒータの上部近傍のガスを効率的に排出することができ、効率的な冷却処理を行うことが可能となる。また、空間51の排気については排気口を均熱管206の下端側とすることで、空間51の雰囲気内で熱が多く蓄積されているボート下部近傍のガスを効率的に排出することができ、効率的な冷却処理を行うことが可能となる。
ボート下部に熱が多く蓄積されている理由としては、炉口からの熱逃げを防止するため熱容量の大きな石英キャップ218や例えば断熱板が多量に存在していること等が考えられる。したがって、空間51内のガスを排出するための排気口を均熱管206の下部に設けることで、多くの熱を保有している石英キャップ218や例えば断熱板を早く冷却することができ、ひいてはウエハを早く冷やすことができる。
また、低温での基板処理(約50〜350℃)では、外気温との温度差が少なく炉外への熱放出量が少ないので、処理炉全体(ウエハを含む)の冷却速度が遅い。したがって、このような低温処理を行う処理炉においては、ウエハ温度制御性(特に降温特性)が悪いため、より効果的にウエハの降温速度の向上およびウエハの温度制御性を向上させるができ、スループットの向上に寄与することができる。
(第2の実施の形態)
次に、本発明の第2の実施の形態について図面を参照しつつ説明する。
(第2の実施の形態)
次に、本発明の第2の実施の形態について図面を参照しつつ説明する。
図3は、本発明の第2の実施の形態による熱処理装置の概略構成図である。本実施の形態は、上述の第1の実施の形態の変形例であり、空間50および空間51に対してガスを供給する構成が異なる。以下、上述の実施の形態においてすでに述べた部分と同一の部分には同一符号を付し、説明は割愛する。なお、本実施の形態および後述の第3の実施の形態から第6の実施の形態においては、説明の便宜上、装置の概略構成図のみを示すが、不図示の部分についても第1の実施の形態と同様な構成を有するものとする。
本実施の形態による熱処理装置N2では、空間50および空間51内に導入されるガスは空間50および空間51内に設けられたノズル13およびノズル14を介して導入される。空間50内のガスはヒータ207の上部に設けられたガス排気管4により排出され、空間51内のガスは均熱管206の下部に設けられたガス排気管12により排出されるようになっている。ノズル13およびノズル14には複数の開口が均熱管206、反応管203の方向に開いており、ガスを均熱管206、反応管203の全体に渡って均一に吹き付けることができるようになっている。このような構成によって、空間50内におけるガスの流れと、空間51内におけるガスの流れとは略反対方向となる。
なお、本実施の形態において示したノズル13およびノズル14は、単一の管に複数の開口が設けられた形状をしているが、これに限定されない。即ち、例えば、空間50(又は、空間51)内に複数本のノズルを立てて、ノズルの異なる高さの部分に開口を設けることで、均熱管206(又は反応管203)にガスが均一にあたるようにしてもよい。また、開口は、スリット形状や丸形状、角形状などの種々の形状にしてもよい。
(第3の実施の形態)
次に、本発明の第3の実施の形態について図面を参照しつつ説明する。
(第3の実施の形態)
次に、本発明の第3の実施の形態について図面を参照しつつ説明する。
図4は、本発明の第3の実施の形態による熱処理装置の概略構成図である。
本実施の形態は、上述した第2の実施の形態の変形例であり、空間50と空間51の排気ラインを別系統としており、空間51の排気ラインが供給ラインと接続され、空間51のガスを循環させる構成としている。以下、上述の実施の形態においてすでに述べた部分と同一の部分には同一符号を付し、説明は割愛する。
本実施の形態による熱処理装置N3は、空間50および空間51内に導入されるガスは空間50および空間51内に設けられたノズル13およびノズル14を介して導入され、空間50内に導入されたガスはヒータ207の上部に設けられているガス排気管4を介して排出され、空間51に導入されたガスは均熱管206の下部に設けられているガス排気管12を介して排気されるようになっている。ノズル13およびノズル14には複数の開口が均熱管206、反応管203の方向に開いており、ガスを均熱管206、反応管203の全体に渡って均一に吹き付けることができるようになっている。
また、本実施の形態による熱処理装置N3では、ガス排気管12を介して空間51から排出されたガスは、バルブ11、ラジエタ6、ブロワ7、捕集フィルタCおよびバルブ9を介して再び空間51内に戻される構成となっている。このような構成により、空間50内のガスは上方に向かって流れ、空間51内のガスは下方に向かって流れる。
このような構成とすることにより、空間51で使用する不活性ガスを有効に使用することができ、経費を抑えることができ、省エネにもつながる。また、循環させるガスを捕集フィルタCによってフィルタリングすることで、循環経路途中で発生、浮遊する不純物や汚染物を除去する構成としている。
なお、本実施の形態のように、空間50からガスを排気するラインと、空間51からガスを排気するラインとを別の系統として設けることにより、反応管203の直近の反応管203と均熱管206との間の空間51への酸素の混合をより確実に抑制することができ、万一反応管203内の水素が反応管203亀裂等何らかの原因でリークした場合でも、水素と酸素との反応による爆発等を防ぐことができるという効果を奏する。また、空間51内で利用する不活性ガスを独立した系統にすることでガスを再利用することにより経費節減および省エネに寄与することができる。
(第4の実施の形態)
次に、本発明の第4の実施の形態について図面を参照しつつ説明する。
(第4の実施の形態)
次に、本発明の第4の実施の形態について図面を参照しつつ説明する。
図5は、本発明の第4の実施の形態による熱処理装置の概略構成図である。
本実施の形態は、上述した第1の実施の形態の変形例であり、空間51におけるガスの流れが第1の実施の形態と異なる構成となっている。以下、上述の実施の形態においてすでに述べた部分と同一の部分には同一符号を付し、説明は割愛する。
本実施の形態による熱処理装置N4では、ヒータ207の下部には、ヒータ207と均熱管206との間の空間50にガス(例えば不活性ガスやクリーンエアなど)を供給するためのガス供給管2が配置されている。また、ヒータ207の上部には、空間50に供給されたガスを排出するためのガス排気管4が配置されている。
また、均熱管206の下部には、反応管203と均熱管206との間の空間51に不活性ガス(例えば、窒素ガスなど)を供給するためのガス供給管8が配置されている。また、均熱管206の上部には、空間51に供給されたガスを排出するためのガス排気管12が配置されている。
空間50内に導入されるガスは、ヒータ207の下部に設けられたガス供給管2を介して導入され、ヒータ207の上部に設けられたガス排気管4を介して排出される。また、空間51内に導入されるガスは、均熱管206の下部に設けられたガス供給管8を介して導入され、均熱管206の上部に設けられたガス排気管12を介して排出される。
水素ガスなどの可燃性の処理ガスを反応管203内に供給し、水素アニール等の処理を行う際、空間51の下方に微量の不活性ガス(例えば窒素ガス)を供給し排気している。これは、空間の酸素濃度を下げるとともに、空間に不活性ガスの流れを作ることによって、仮に処理ガスである水素ガスが空間内に漏出したとしても、空間51内で爆発する濃度に達しないようにしている。本発明は空間51内に多量の不活性ガス(例えば、窒素ガスなど)を供給し排気する構成とした。これにより、空間51内での水素爆発を防止するとともに、体積が大きく熱容量も大きな反応管203、均熱管206に蓄えられる熱を速やかに排出できるようにしたため、ウエハの降温速度を向上し、ウエハの温度制御性を向上することができる。
また、ガス冷却機により冷却されたガスをガス供給管2およびガス供給管8から供給すれば、均熱管206及び反応管203に蓄えられた熱をより多く排出できるので、ウエハの温度制御性をさらに向上させることができるとともに、降温工程におけるウエハの降温速度をさらに向上させることができる。
また、ガス冷却機により冷却されたガスをガス供給管2およびガス供給管8から供給すれば、より少ない流量のガスで済むため、省エネ化に寄与することができる。
(第5の実施の形態)
次に、本発明の第5の実施の形態について図面を参照しつつ説明する。
(第5の実施の形態)
次に、本発明の第5の実施の形態について図面を参照しつつ説明する。
図6は、本発明の第5の実施の形態による熱処理装置の概略構成図である。
本実施の形態は、上述の第2の実施の形態の変形例であり、空間50および空間51からガスを排出する構成が異なる。以下、上述の実施の形態においてすでに述べた部分と同一の部分には同一符号を付し、説明は割愛する。
本実施の形態による熱処理装置N5では、ヒータ207と均熱管206との間の空間50にガス(例えば不活性ガスやクリーンエアなど)を供給するためのノズル13が配置されている。また、ヒータ207の上部には、空間50に供給されたガスを排出するためのガス排気管4が配置されている。
また、反応管203と均熱管206との間の空間51に不活性ガス(例えば、窒素ガスなど)を供給するためのノズル14が配置されている。また、均熱管206の上部には、空間51に供給されたガスを排出するためのガス排気管12が配置されている。
空間50および空間51内に導入されるガスは、空間50および空間51内に設けられたノズル13およびノズル14を介して導入され、ガス排気管4およびガス排気管12により排出されるようになっている。ノズル13およびノズル14には複数の開口が均熱管206、反応管203の方向に開いており、ガスを均熱管206、反応管203の全体に渡って均一に吹き付けることができるようになっている。
(第6の実施の形態)
次に、本発明の第6の実施の形態について図面を参照しつつ説明する。
(第6の実施の形態)
次に、本発明の第6の実施の形態について図面を参照しつつ説明する。
図7は、本発明の第6の実施の形態による熱処理装置の概略構成図である。
本実施の形態は、上述の第5の実施の形態の変形例であり、空間50からガスを排出する系統と空間51からガスを排出する系統とを別系統とし、空間51からのガス排気ラインを空間51へのガス供給ラインと接続して、空間51内のガスを循環させる構成としている点が異なる。以下、上述の実施の形態においてすでに述べた部分と同一の部分には同一符号を付し、説明は割愛する。
本実施の形態による熱処理装置N6では、ヒータ207と均熱管206との間の空間50にガス(例えば不活性ガスやクリーンエアなど)を供給するためのノズル13が配置されている。また、ヒータ207の上部には、空間50に供給されたガスを排出するためのガス排気管4が配置されている。
また、反応管203と均熱管206との間の空間51に不活性ガス(例えば、窒素ガスなど)を供給するためのノズル14が配置されている。また、均熱管206の上部には、空間51に供給されたガスを排出するためのガス排気管12が配置されている。
空間50および空間51内に導入されるガスは、空間50および空間51内に設けられたノズル13およびノズル14を介して導入され、ガスはヒータ207の上部、均熱管206の上部から排出されるようになっている。ノズル13およびノズル14には、均熱管206および反応管203の方向に開いている複数の開口が形成されており、ガスを均熱管206および反応管203の全体に渡って均一に吹き付けることができるようになっている。
また、空間51からガス排気管12を介して排気されたガスは、バルブ11、ラジエタ6、ブロワ7、捕集フィルタCおよびバルブ9を介して再び空間51内に戻される構成となっている。
このような構成とすることにより、空間51で使用する不活性ガスを有効に使用することができ、経費を抑えることができ、省エネにもつながる。また、循環させるガスを捕集フィルタCによってフィルタリングすることで、循環経路途中で発生、浮遊する不純物や汚染物を除去する構成としている。
また、本実施の形態のように、空間50からガスを排気するラインと、空間51からガスを排気するラインとを別の系統として設けることにより、反応管203の直近の反応管203と均熱管206との間の空間51への酸素の混合をより確実に抑制することができ、万一反応管203内の水素が反応管203亀裂等何らかの原因でリークした場合でも、水素と酸素との反応による爆発等を防ぐことができるという効果を奏する。また、空間51内で利用する不活性ガスを独立した系統にすることでガスを再利用することにより経費節減および省エネに寄与することができる。
以上述べたように、本実施の形態によれば、基板を収容し処理する空間を形成する反応管と、前記反応管を覆うように設けられた均熱管と、前記反応管と前記均熱管との間にガスを導入するガス導入管と、前記ガスを排気する排気管とを有する熱処理装置であって、前記反応管内で基板を処理する間、ガスを前記ガス導入管から導入し前記ガス排気管から排気するようにしたので、体積が大きく熱容量も大きな反応管及び均熱管を用いたとしても、ウエハの温度制御性を向上させることができる。
また、前記ガスをガス冷却手段により冷却した後、前記ガス導入管より導入するようにすれば、前記ガスと前記反応管および前記均熱管との温度差が大きくなり、均熱管206及び反応管203に蓄えられた熱をより多く排出できるので、ウエハの温度制御性がさらに向上するとともに、降温工程におけるウエハの降温速度がさらに向上する。或いは、より少ない流量のガスで済むため、省エネ化を行うことができる。
なお、上述の第1〜第3の各実施の形態において、反応管203内に供給する処理ガスとして水素を用いない場合、空間51への供給ガスは不活性ガスではなく、クリーンエア等でもよい。このような構成とした場合においても、上述の各実施の形態と同様な効果を奏する。
なお、上述の各実施の形態において、アニール工程は、水素アニール、Arアニール等を示しているが、これらに限定されるものではない。また、アニール処理だけでなく、CVD処理などの種々の成膜処理を行う成膜工程(2重管構造を有する処理炉による処理を行う工程)でもよい。
以上、上述の各実施の形態によれば、内管と外管と加熱部が同心に設けられ、前記内管内部で基板が熱処理される熱処理装置において、前記内管と外管との間に形成される第1の空間と、該第1の空間内を排気する第1の排気口と、前記外管と前記加熱部との間に形成される第2の空間と、該第2の空間内を排気する第2の排気口と、前記第1の空間内と前記第2の空間内とのガスの流れが反対方向に流れるように前記第1、第2の排気口を設置することを特徴とする熱処理装置を提供することができる。
また、上述の各実施の形態によれば、内管と外管と加熱部が同心に設けられ、前記内管内部で基板が熱処理される熱処理装置において、前記内管と外管との間に形成される第一の空間と、該第一の空間内に冷却ガスを供給する第一の冷却ガス供給手段と、該第一の空間内を排気する第一の排気口と、前記外管と前記加熱部との間に形成される第二の空間と、該第二の空間内に冷却ガスを供給する第二の冷却ガス供給手段と、該第二の空間内を排気する第二の排気口と、前記第一の空間内と前記第二の空間内とのガスの流れが反対方向に流れるように一方の排気口を上端側に設置し、他方の排気口を下端側に設置することを特徴とする熱処理装置を提供することができる。
上述のような構成の熱処理装置において、前記第一の空間内を排気する第一の排気口を下端側に設置する構成とすることができる。
また、上述のような構成の熱処理装置において、前記加熱部は、天井側から開閉可能な構成とすることもできる。
この他、上述の各実施の形態によれば、内管と外管と加熱部が同心に設けられ、前記内管内部で基板が熱処理される熱処理装置であって、前記内管と外管との間に形成される第一の空間と、該第一の空間内に冷却ガスを供給する第一の冷却ガス供給手段と、該第一の空間内を排気する第一の排気口と、前記外管と前記加熱部との間に形成される第二の空間と、該第二の空間内に冷却ガスを供給する第二の冷却ガス供給手段と、該第二の空間内を排気する第二の排気口と、前記第一の空間内と前記第二の空間内とのガスの流れが反対方向に流れるように一方の排気口を上端側に設置し、他方の排気口を下端側に設置される熱処理装置を用いる半導体の製造方法において、前記加熱部が前記基板を加熱処理する工程と、前記第一の空間に前記第一の冷却ガス供給手段から前記冷却ガスが供給される工程と、前記第二の空間に前記第二の冷却ガス供給手段から前記冷却ガスが供給される工程と、前記第一の排気口から前記冷却ガスが排気される工程と、前記第二の排気口から前記冷却ガスが排気される工程と、を有することを特徴とする半導体の製造方法を提供することができる。
また、上述の各実施の形態によれば、基板を収容し処理する空間を形成する反応管と、前記反応管を覆うように設けられた均熱管と、前記反応管と前記均熱管との間にガスを導入するガス導入管と、前記ガスを排気する排気管とを有する熱処理装置であって、前記反応管内で基板を処理する間、ガスを前記ガス導入管から導入し前記ガス排気管から排気することを特徴とする熱処理装置を提供することができる。
上述のような構成の熱処理装置において、少なくとも前記反応管内に収容された基板の温度を下げるとき、ガスを前記ガス導入管から導入し前記ガス排気管から排気する構成とすることもできる。また、上述のような構成の熱処理装置において、少なくとも前記反応管内に収容された基板の温度を上げるとき、ガスを前記ガス導入管から導入し前記ガス排気管から排気する構成としてもよい。
また、上述のような構成の熱処理装置において、反応管内に収容された基板の温度を安定させるときも、ガスを前記ガス導入管から導入し前記ガス排気管から排気する構成とすることができる。
上述のような構成の熱処理装置において、前記ガスは、ガス冷却手段により冷却された後、前記ガス導入管より導入されるようにしてもよい。
200 ウエハ、207 ヒータ、206 均熱管、203 反応管、217 ボート、50, 51 空間、2,8 ガス供給管、4,12 ガス排気管、3,5,9,11 バルブ、6 ラジエタ、7 ブロワ、C 捕集フィルタ、N1〜N6 熱処理装置、J 熱処理装置。
Claims (1)
- 処理対象である基板を内部に収容する内管と、前記内管を囲むように前記内管と略同心に配置される外管と、前記外管を囲むように前記外管と略同心に配置される加熱部とを有する熱処理装置において、
前記外管と前記内管との間に形成される第1の空間内のガスを排出するための第1の排気手段と、
前記加熱部と前記外管との間に形成される第2の空間内のガスを排出するための第2の排気手段とを有し、
前記第1の排気手段および第2の排気手段は、前記第1の空間内のガスと前記第2の空間内のガスとが上下方向において略反対方向に流れるように、それぞれ配置されていることを特徴とする熱処理装置。
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7700054B2 (en) * | 2006-12-12 | 2010-04-20 | Hitachi Kokusai Electric Inc. | Substrate processing apparatus having gas side flow via gas inlet |
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KR20200029895A (ko) * | 2018-09-11 | 2020-03-19 | 주식회사 원익아이피에스 | 웨이퍼 공정용 리액터 |
KR102441994B1 (ko) * | 2021-12-27 | 2022-09-08 | 주식회사 에이치피에스피 | 고속 냉각 고압 챔버 |
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-
2005
- 2005-01-21 JP JP2005013870A patent/JP2006203033A/ja not_active Withdrawn
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