JP2601083Y2 - 縦型熱処理装置 - Google Patents
縦型熱処理装置Info
- Publication number
- JP2601083Y2 JP2601083Y2 JP1992047595U JP4759592U JP2601083Y2 JP 2601083 Y2 JP2601083 Y2 JP 2601083Y2 JP 1992047595 U JP1992047595 U JP 1992047595U JP 4759592 U JP4759592 U JP 4759592U JP 2601083 Y2 JP2601083 Y2 JP 2601083Y2
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- Japan
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- air flow
- wafer
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本考案は、半導体製造装置の１つ
である縦型処理装置に関するものである。
である縦型処理装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】半導体製造装置の１つに縦型熱処理装置
がある。
がある。
【０００３】縦型熱処理装置は半導体製造工程の１つで
あるウェーハに不純物の拡散或はウェーハ表面に化学気
相蒸着（Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｖａｐｏｒ Ｄｅｐｏｓｉ
ｔ）等の表面処理を行うものである。
あるウェーハに不純物の拡散或はウェーハ表面に化学気
相蒸着（Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｖａｐｏｒ Ｄｅｐｏｓｉ
ｔ）等の表面処理を行うものである。
【０００４】図２に於いて従来の縦型熱処理装置につい
て説明する。
て説明する。
【０００５】図２は縦型熱処理装置の特に反応炉の断面
を示しており、外周を外被断熱層１で覆われた筒状のヒ
ータ層２の内部に均熱管３、更に該均熱管３の内部に反
応管４を同心状に配設し、前記ヒータ層２と前記均熱管
３との間に形成される空気流路５は上端部に設けられた
ヒータ内熱排気ゲート６を介して排気ダクト７に連通さ
れ、該排気ダクト７には冷却器８、排気ファン９が設け
られている。
を示しており、外周を外被断熱層１で覆われた筒状のヒ
ータ層２の内部に均熱管３、更に該均熱管３の内部に反
応管４を同心状に配設し、前記ヒータ層２と前記均熱管
３との間に形成される空気流路５は上端部に設けられた
ヒータ内熱排気ゲート６を介して排気ダクト７に連通さ
れ、該排気ダクト７には冷却器８、排気ファン９が設け
られている。
【０００６】ウェーハ１０はウェーハ保持具１１に所要
のピッチで多段に保持される様になっており、該ウェー
ハ１０は前記ウェーハ保持具１１に保持された状態で前
記反応管４内に装入され、更に処理される様になってい
る。
のピッチで多段に保持される様になっており、該ウェー
ハ１０は前記ウェーハ保持具１１に保持された状態で前
記反応管４内に装入され、更に処理される様になってい
る。
【０００７】ウェーハ１０は前記ヒータ層２によって半
導体膜形成温度迄加熱され、且密閉された状態で処理さ
れる。処理が完了すると前記ヒータ内熱排気ゲート６が
開放され、前記排気ファン９が駆動して空気流路５の空
気を吸引排気して、前記反応管４及びその周囲を冷却
し、ウェーハ１０を前記反応管４より取出しても自然酸
化を誘起しない雰囲気となったところで前記ウェーハ保
持具１１が引出されていた。
導体膜形成温度迄加熱され、且密閉された状態で処理さ
れる。処理が完了すると前記ヒータ内熱排気ゲート６が
開放され、前記排気ファン９が駆動して空気流路５の空
気を吸引排気して、前記反応管４及びその周囲を冷却
し、ウェーハ１０を前記反応管４より取出しても自然酸
化を誘起しない雰囲気となったところで前記ウェーハ保
持具１１が引出されていた。
【０００８】前記した様に、ウェーハを前記反応管４よ
り引出す場合、雰囲気温度がウェーハの自然酸化が生じ
ない温度迄下がっていることが要求される。従って、前
記ウェーハ保持具１１を引出す前に前記ヒータ内熱排気
ゲート６を開放し、前記排気ファン９により吸引し、冷
却用の空気を前記空気流路５に流通させ、前記排気ダク
ト７、冷却器８を経て排気し、ヒータ層２、均熱管３を
冷却していた。
り引出す場合、雰囲気温度がウェーハの自然酸化が生じ
ない温度迄下がっていることが要求される。従って、前
記ウェーハ保持具１１を引出す前に前記ヒータ内熱排気
ゲート６を開放し、前記排気ファン９により吸引し、冷
却用の空気を前記空気流路５に流通させ、前記排気ダク
ト７、冷却器８を経て排気し、ヒータ層２、均熱管３を
冷却していた。
【０００９】
【考案が解決しようとする課題】ところが前記した従来
の縦型熱処理装置では冷却時に均熱管３と反応管４との
間は空気の流通がなく、反応炉の余熱の放出効果が充分
でなく前記ウェーハを引出す迄に多くの時間を要してい
た。
の縦型熱処理装置では冷却時に均熱管３と反応管４との
間は空気の流通がなく、反応炉の余熱の放出効果が充分
でなく前記ウェーハを引出す迄に多くの時間を要してい
た。
【００１０】本考案は斯かる実情に鑑み、反応炉の余熱
の放出効果を向上させ、該反応炉の高速降温を実現し、
スループットの向上及び自然酸化膜の生成を抑止しウェ
ーハの品質向上を図るものである。
の放出効果を向上させ、該反応炉の高速降温を実現し、
スループットの向上及び自然酸化膜の生成を抑止しウェ
ーハの品質向上を図るものである。
【００１１】
【課題を解決するための手段】本考案は、ボートに装填
されたウェーハが装入される反応管、該反応管を囲繞す
る均熱管、該均熱管を囲繞するヒータ層を順次同心多重
に配設した縦型拡散・ＣＶＤ装置に於いて、前記均熱管
が有天筒状であり、該均熱管の下部に下通気孔を穿設
し、又前記均熱管の上部に上通気孔を穿設し、前記均熱
管と前記反応管とが成す内側空気流路と前記均熱管と前
記ヒータ層とが成す空気流路とを連通させ、該空気流路
の上部より排気可能としたことを特徴とするものであ
る。
されたウェーハが装入される反応管、該反応管を囲繞す
る均熱管、該均熱管を囲繞するヒータ層を順次同心多重
に配設した縦型拡散・ＣＶＤ装置に於いて、前記均熱管
が有天筒状であり、該均熱管の下部に下通気孔を穿設
し、又前記均熱管の上部に上通気孔を穿設し、前記均熱
管と前記反応管とが成す内側空気流路と前記均熱管と前
記ヒータ層とが成す空気流路とを連通させ、該空気流路
の上部より排気可能としたことを特徴とするものであ
る。
【００１２】
【作用】ウェーハ処理完了後の降温時に、空気を内側空
気流路と空気流路とに流通させ、反応管、均熱管周辺の
余熱を迅速に排熱する。
気流路と空気流路とに流通させ、反応管、均熱管周辺の
余熱を迅速に排熱する。
【００１３】
【実施例】以下、図面に基づき本考案の一実施例を説明
する。
する。
【００１４】図１は、図２同様縦型熱処理装置の特に反
応炉の断面を示しており、図１中、図２中で示したもの
と同一のものは同符号を付し、その説明を省略する。
応炉の断面を示しており、図１中、図２中で示したもの
と同一のものは同符号を付し、その説明を省略する。
【００１５】有天筒状の均熱管１２の下部に下通気孔１
３を穿設し、均熱管１２の上部に上通気孔１４を穿設す
る。
３を穿設し、均熱管１２の上部に上通気孔１４を穿設す
る。
【００１６】前記均熱管１２の上下に下通気孔１３、上
通気孔１４を穿設することで、均熱管１２と反応管４と
の間に形成される空間が前記空気流路５と連通し、内側
空気流路１５として機能する。而して前記ウェーハ処理
が完了し、前記ヒータ内熱排気ゲート６が開放され、前
記排気ファン９が駆動して空気流路５の空気を吸引排気
すると、炉下端から吸引された空気は前記空気流路５を
上昇してヒータ内熱排気ゲート６を経て排気ダクト７に
至るが、前記吸引された空気の１部は前記下通気孔１３
を通って前記内側空気流路１５に入り、該内側空気流路
１５を上昇し、前記上通気孔１４より出て、前記空気流
路５を流れる空気と合流し、前記排気ダクト７に至る。
通気孔１４を穿設することで、均熱管１２と反応管４と
の間に形成される空間が前記空気流路５と連通し、内側
空気流路１５として機能する。而して前記ウェーハ処理
が完了し、前記ヒータ内熱排気ゲート６が開放され、前
記排気ファン９が駆動して空気流路５の空気を吸引排気
すると、炉下端から吸引された空気は前記空気流路５を
上昇してヒータ内熱排気ゲート６を経て排気ダクト７に
至るが、前記吸引された空気の１部は前記下通気孔１３
を通って前記内側空気流路１５に入り、該内側空気流路
１５を上昇し、前記上通気孔１４より出て、前記空気流
路５を流れる空気と合流し、前記排気ダクト７に至る。
【００１７】上述した様に、本実施例では空気が前記空
気流路５のみならず、前記内側空気流路１５を流通する
様にしたので、反応管４、均熱管１２周辺の余熱を効果
的に且迅速に排熱することができる。
気流路５のみならず、前記内側空気流路１５を流通する
様にしたので、反応管４、均熱管１２周辺の余熱を効果
的に且迅速に排熱することができる。
【００１８】尚、前記下通気孔１３、上通気孔１４の数
は適宜選択することができる。
は適宜選択することができる。
【００１９】
【考案の効果】以上述べた如く本考案によれば、炉内の
余熱を効果的に排熱することができるので、降温速度を
増加させ得、ウェーハ処理完了からウェーハ出入れ可能
な状態迄の時間を短縮することができ、スループットの
向上を図ることができると共にウェーハの自然酸化膜生
成を抑止できウェーハの製品品質の安定性を増大できる
という優れた効果を発揮する。
余熱を効果的に排熱することができるので、降温速度を
増加させ得、ウェーハ処理完了からウェーハ出入れ可能
な状態迄の時間を短縮することができ、スループットの
向上を図ることができると共にウェーハの自然酸化膜生
成を抑止できウェーハの製品品質の安定性を増大できる
という優れた効果を発揮する。
【図１】本考案の一実施例を示す断面図である。
【図２】従来例を示す断面図である。
２ ヒータ層 ４ 反応管 ５ 空気流路 １０ ウェーハ １１ ボート １２ 均熱管 １３ 下通気孔 １４ 上通気孔 １５ 内側空気流路
Claims (1)
- 【請求項１】 ボートに装填されたウェーハが装入され
る反応管、該反応管を囲繞する均熱管、該均熱管を囲繞
するヒータ層を順次同心多重に配設した縦型熱処理装置
に於いて、前記均熱管が有天筒状であり、該均熱管の下
部に下通気孔を穿設し、又前記均熱管の上部に上通気孔
を穿設し、前記均熱管と前記反応管とが成す内側空気流
路と前記均熱管と前記ヒータ層とが成す空気流路とを連
通させ、該空気流路の上部より排気可能としたことを特
徴とする縦型熱処理装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1992047595U JP2601083Y2 (ja) | 1992-06-15 | 1992-06-15 | 縦型熱処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1992047595U JP2601083Y2 (ja) | 1992-06-15 | 1992-06-15 | 縦型熱処理装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH062682U JPH062682U (ja) | 1994-01-14 |
| JP2601083Y2 true JP2601083Y2 (ja) | 1999-11-02 |
Family
ID=12779604
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1992047595U Expired - Fee Related JP2601083Y2 (ja) | 1992-06-15 | 1992-06-15 | 縦型熱処理装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2601083Y2 (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP4355441B2 (ja) * | 2000-11-29 | 2009-11-04 | 株式会社日立国際電気 | 熱処理装置及び熱処理方法及び半導体デバイスの製造方法 |
| JP2003289043A (ja) * | 2002-03-28 | 2003-10-10 | Hitachi Kokusai Electric Inc | 半導体製造装置 |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2958066B2 (ja) * | 1990-07-27 | 1999-10-06 | 東京エレクトロン株式会社 | 熱処理装置 |
-
1992
- 1992-06-15 JP JP1992047595U patent/JP2601083Y2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH062682U (ja) | 1994-01-14 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |