JP5231806B2 - レーザ光源、およびそれを用いたディスプレイ装置 - Google Patents
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Description
(実施の形態1)
以下、本発明の実施の形態1によるレーザ光源装置について説明する。
図1(a)は、本実施の形態1によるレーザ光源の構成を示す表面図である。
半導体レーザ102から出射されたレーザ光(808nm近傍の発振波長を有する。)は、固体レーザ結晶104の励起部601を励起し、1.06μm近傍の光を発生する。発生した光は、非線形材料103により高調波に波長変換され、波長0.53μmの緑色レーザ光107が発生し、外部に出力される。
本実施の形態1では、固体レーザ結晶104としてネオジウムドープイットリウムバナデート(Nd:YVO4)結晶を使用しており、この結晶のa軸方向、c軸方向における各結晶軸の熱膨張係数は、αa=4.43x10-6/K、αc=11.37x10-6/Kである。また、非線形材料103として、酸化マグネシウムドープニオブ酸リチウム(Mg:LiNbO3)を使用しており、この材料のa軸方向、c軸方向における各結晶軸の熱膨張係数は、αa=2.0x10-6/K、αc=2.2x10-6/Kとなっている。
以下、本発明の実施の形態2によるレーザ光源装置について説明する。
上記実施の形態1では、一つの固体レーザ結晶を一つの半導体レーザ光源で励起した場合における説明を行ったが、本実施の形態2では、複数の半導体レーザ光源を用いて固体レーザ結晶の複数箇所において励起を行う場合について説明する。
図4(a)は、本実施の形態2によるレーザ光源の構成を示す表面図であり、図4(b)は正面図である。
複数の半導体レーザ102から出射された複数のレーザ光(808nm近傍の発振波長を有する。)は、固体レーザ結晶104の複数の励起部601を励起し、1.06μm近傍の複数の光が発生する。この発生した複数の光はそれぞれ、非線形材料103により高調波に波長変換され、波長0.53μmの緑色レーザ光107が発生する。
レーザ共振器は、固体レーザ結晶と非線形光学材料一つの材料から構成されており、構造の簡素化が図れる。また、高出力化を行うためにはビームスポットを増やすことで対応することができる。
縦モードは、レーザ共振器内での発振スペクトルの多さであり、マルチモードとなって発振スペクトルが増大すると不安定となる。マイクロチップレーザは、共振器長を短くすることで発振モードを抑圧して出力の安定化を図ることが可能である。実際には、レーザ共振器の光学長を4mm以下にすることで、マルチモード発生の抑圧が可能になる。共振器長を変えて出力の安定性を実験した結果を図5(a)に示した。図5(a)から分かるように、媒質の屈折率が2程度の場合、レーザ共振器長が2mm以上になると、光学長が4mmのときの出力変動幅よりも増大する。
図4に示したように複数の励起光源で励起する場合、横モードの安定性が出力安定性には重要である。横モードは、本発明では固体レーザ結晶でのレーザ発振がそれぞれ独立して互いに干渉しないように励起部間隔をとっている。マイクロチップレーザは、平板間での共振器を用いるため、励起された固体レーザ結晶部分の熱レンズ効果を利用して共振器の安定化、低損失化を図っている。このため、固体レーザ結晶の励起部分が光学的にも、熱的にも互いに干渉すると発振が不安定になる。また共振器内での光のビームスポットが拡大するので非線形光学結晶での変換効率が低下する。このため、共振器内での横方向の干渉を十分抑える必要がある。図4(c)には固体レーザ結晶における横方向の温度分布を示している。この温度分布が横方向に分離されることで、互いの熱レンズの発生を安定化させることが可能となる。我々の検討では、励起半導体レーザの活性層の幅が50μm程度の時、励起部の間隔が200μm以上になると安定した発振が確認された。活性層幅が100μmのときは250μm以上の間隔が必要となる。半導体レーザの活性層幅は100μm以下が望ましく、50μm以下がさらに望ましい。活性層の幅は、固体レーザ結晶の励起部の大きさを決定し、固体レーザ結晶で発振する横モードの大きさを決める。横モードが大きいと、共振器内のパワー密度が低下し波長変換の効率が大幅に低下する。このため、活性層の幅は50μmが望ましい。
半導体レーザ102は、出力1Wを3つ、活性層の幅は50μm、半導体レーザの間隔は200μmでヒートシンク101上に固定した。固体レーザ結晶104は、Nd:YVO4であり、結晶長は0.5mmであり、非線形結晶103は、周期状の分極反転構造を有するMgドープLiNbO3で、結晶長は0.5mmであった。
図13(a)に示す固体レーザ結晶は、側面131と側面132が非平行となっており、側面133と側面134は平行となっている。また、固体レーザ結晶のほぼ中央には、3つの励起部135がある。
図7に示すレーザ光源は、固体レーザ結晶104にヒートシンク701を設けて、出力の安定化を図っている。
図8に示すレーザ光源は、図7に示すレーザ光源の構成に加え、さらに、ヒートシンク801を、固体レーザ結晶104の各励起部601間に設けることで、より高い冷却能力を実現している。これにより、さらなる高出力化が可能となる。
以下、本発明の実施の形態3によるレーザ光源装置について説明する。
本実施の形態3は、半導体レーザの傾ける角度と固体レーザ結晶の結晶軸の角度を合わせることを特徴としている。
複数の半導体レーザ102から出射された複数のレーザ光(808nm近傍の発振波長を有する。)は、固体レーザ結晶104の複数の励起部601を励起し、1.06μm近傍の複数の光が発生する。この発生した複数の光はそれぞれ、非線形材料103により高調波に波長変換され、波長0.53μmの緑色レーザ光107が発生する。
一般的に、マイクロチップレーザの構成は、半導体レーザからの光により固体レーザ結晶の端面を直接励起する構成であり、小型化、低コスト化に有効である。固体レーザ結晶の端面と半導体レーザの距離は50〜100μm程度であり、固体レーザ結晶内で励起されるレーザ発振の横モードと半導体レーザの励起光の強度分布が近い場所で励起効率が最大となる。半導体レーザが劣化する要因として、レーザの戻り光による影響が大きい。固体レーザ結晶の端面から反射された光は半導体レーザの活性層に帰還する。反射戻り光があると半導体レーザの出力が不安定になり、かつ寿命も大幅に低下する。
以下、本発明の実施の形態4によるレーザ光源装置について説明する。
半導体レーザ励起の固体レーザ結晶の問題として、固体レーザ結晶の吸収スペクトルが狭く、外部の温度変化により半導体レーザの発振波長が固体レーザ結晶の吸収スペクトルからずれることで出力が低下するという問題がある。この問題を解決する方法として、図10に示す構成を提案する。
図10は、本実施の形態4によるレーザ光源の構成を示す図であり、(a)は表面図、(b)は正面図である。
複数の半導体レーザ102から出射された複数のレーザ光(808nm近傍の発振波長を有する。)は、固体レーザ結晶104の複数の励起部601を励起し、1.06μm近傍の複数の光が発生する。この発生した複数の光はそれぞれ、非線形材料103により高調波に波長変換され、波長0.53μmの緑色レーザ光107が発生する。
本実施の形態4では、半導体レーザ102の後端面に、つまり、レーザ光源の裏面に体積グレーティング1001を備えたことを特徴としている。半導体レーザ102は、体積グレーティング1001からのブラッグ波長に固定されるため、外部の温度が変化しても波長が変動しない。これにより、安定した固体レーザ結晶の励起を実現することができ、外部の温度変動による出力の変動を大幅に抑えることができた。さらに、この構成においては、図9(b)で示した、半導体レーザ102を固体レーザ結晶104の端面に対して傾ける構成がより有効である。通常、グレーティングの回折光により半導体レーザの発振波長を固定する場合、半導体レーザに他の反射面からの戻り光が存在すると、安定な波長の固定が難しくなる。しかし、半導体レーザ102を固体レーザ結晶104の端面に対して傾けることで、固体レーザ結晶端面からの半導体レーザへの戻り光を低減できるので、半導体レーザの発振波長を安定に固定することができる。
以下、本発明の実施の形態5によるディスプレイ装置について説明する。
図1(b)は、本発明の実施の形態5にかかるディスプレイ装置の概略構成を示す正面図である。
レーザ光源108から出力された光107は、光学素子109を通った後、ロッドプリズム110に入射され、ロッドプリズム110内で矩形状に面内強度分布が整形された後、2次元画像変換スイッチであるSLM111により画像変換され、レンズ112により投射される。
第1の理由は、高出力、高安定な特性に優れている点、第2の理由はスペックルノイズが少ない点である。
102 半導体レーザ
103 非線形材料(非線形光学結晶)
104 固体レーザ結晶
105 反射コート(第2の反射層)
106 反射コート(第1の反射層)
107 レーザ光
108 レーザ光源装置
109 光学素子
110 ロッドプリズム
111 SLM
112 投影レンズ
201 傾き角0度の場合の発振特性
202 傾き角30度の場合の発振特性
203 傾き角90度の場合の発振特性
601 励起部
701,801 ヒートシンク
1001 体積グレーティング
121 半導体レーザ
122 半導体レーザ
123 励起部
131,132,133,134 側面
135 励起部
136 レーザ発振
137 溝
141 熱分離層
Claims (24)
- 励起光を出力する半導体レーザと、
前記半導体レーザからの励起光により励起される固体レーザ結晶と、該固体レーザ結晶より発する光の波長を変換する非線形光学結晶とが相互に接合され、その各々の反対側の面に第1の反射層と第2の反射層がそれぞれ形成されて構成されてなるレーザ共振器とを、備え、
前記固体レーザ結晶は、GdxY1−xVO4(0≦x≦1)であり、
前記非線形光学結晶は、LiNbO3またはLiTaO3であり、
前記固体レーザ結晶の結晶軸であるc軸を、前記非線形光学結晶のzx平面内で、該非線形光学結晶のz軸に対して傾け、
前記固体レーザ結晶の結晶軸であるc軸の垂線と、励起用半導体レーザからのレーザビームの出射方向とが略平行であり、
300mW以上の緑色光を発生する、
ことを特徴とするレーザ光源。 - それぞれ励起光を出力する複数の半導体レーザと、
前記複数の半導体レーザからの励起光によりそれぞれ励起される複数の励起部を有する固体レーザ結晶と、該固体レーザ結晶中の複数の励起部により励起される複数の光の波長を変換する非線形光学結晶とが相互に接合され、その各々の反対側の面に第1の反射層と第2の反射層がそれぞれ形成されて構成されてなるレーザ共振器とを備え、
前記固体レーザ結晶は、GdxY1−xVO4(0≦x≦1)であり、
前記非線形光学結晶は、LiNbO3またはLiTaO3であり、
前記固体レーザ結晶の結晶軸であるc軸を、前記非線形光学結晶のzx平面内で、該非線形光学結晶のz軸に対して傾け、
前記固体レーザ結晶の結晶軸であるc軸の垂線と、励起用半導体レーザからのレーザビームの出射方向とが略平行であり、
300mW以上の緑色光を発生する、
ことを特徴とするレーザ光源。 - 請求項1または2に記載のレーザ光源において、
前記固体レーザ結晶の結晶軸であるc軸の傾きが、0.5度〜10度の範囲内である、
ことを特徴とするレーザ光源。 - 請求項1または2に記載のレーザ光源において、
前記固体レーザ結晶と前記非線形光学結晶の厚みの合計は2mm以下であり、前記レーザ共振器長は2mm以下である、
ことを特徴とするレーザ光源。 - 請求項2に記載のレーザ光源において、
前記固体レーザ結晶の複数の励起部が、互いに200μm以上離れている、
ことを特徴とするレーザ光源。 - 請求項2に記載のレーザ光源において、
前記固体レーザ結晶の複数の励起部の間隔が、互いに異なっている、
ことを特徴とするレーザ光源。 - 請求項2に記載のレーザ光源において、
表面に段差が形成されているヒートシンクを、さらに備え、
前記複数の半導体レーザのうちの少なくとも2つ以上の半導体レーザが、前記ヒートシンクの異なる高さの段差上に配置されている、
ことを特徴とするレーザ光源。 - 請求項1または2に記載のレーザ光源において、
前記半導体レーザの活性層の幅は、50μm以下である、
ことを特徴とするレーザ光源。 - 請求項1記載のレーザ光源において、
前記半導体レーザ、及び前記レーザ共振器の前記固体レーザ結晶はヒートシンクを備え、
前記半導体レーザが固定されているヒートシンクと、前記レーザ共振器の前記固体レーザ結晶に設けられたヒートシンクとの間に熱分離層を設けた、
ことを特徴とするレーザ光源。 - 請求項2に記載のレーザ光源において、
前記複数の半導体レーザ、および前記レーザ共振器の前記固体レーザ結晶はそれぞれヒートシンクを備え、
前記複数の半導体レーザが固定されているヒートシンクと前記レーザ共振器の前記固体レーザ結晶に設けられたヒートシンクの間に熱分離層を設けた、
ことを特徴とするレーザ光源。 - 請求項1または2に記載のレーザ光源において、
前記半導体レーザの後端面に、体積グレーティングを備えた、
ことを特徴とするレーザ光源。 - 請求項2に記載のレーザ光源において、
前記レーザ共振器は、前記複数の励起部の間にヒートシンク部を備える、
ことを特徴とするレーザ光源。 - 請求項1または2に記載のレーザ光源において、
前記固体レーザ結晶と前記非線形光学結晶が、オプティカルコンタクトされている、
ことを特徴とするレーザ光源。 - 請求項1または2に記載のレーザ光源において、
前記固体レーザ結晶は、Ndドープ量が2.5at%以上であり、結晶の厚みが0.5mm以下のNd:YVO4である、
ことを特徴とするレーザ光源。 - 請求項1または2に記載のレーザ光源において、
前記固体レーザ結晶は、Ndドープ量が2.5at%以上であり、結晶の厚みが0.5mm以下のNd:GdVO4である、
ことを特徴とするレーザ光源。 - 請求項1または2に記載のレーザ光源において、
前記非線形光学結晶は、周期状の分極反転構造を有するMg、Zn、In、Scの何れかを含むLiNbO3であり、かつ厚みが1mm以下である、
ことを特徴とするレーザ光源。 - 請求項1または2に記載のレーザ光源において、
前記固体レーザ結晶のいずれかの対向する側面が、非平行である、
ことを特徴とするレーザ光源。 - 請求項1または2に記載のレーザ光源において、
200mW以上のグリーン光出力を行う、
ことを特徴とするレーザ光源。 - 請求項2に記載のレーザ光源において、
前記固体レーザ結晶の励起部間に、溝を有する、
ことを特徴とするレーザ光源。 - 請求項19に記載のレーザ光源において、
前記固体レーザ結晶の溝と端面が、非平行である、
ことを特徴とするレーザ光源。 - 請求項16に記載のレーザ光源において、
前記非線形光学結晶に形成された分極反転構造の周期が、面内で分布を持っている、
ことを特徴とするレーザ光源。 - 請求項1ないし請求項21のレーザ光源のうち、少なくとも2つ以上のレーザ光源と、
前記複数のレーザ光源からの各レーザビームを整形する均一化光学系と、
前記均一化光学系により整形された前記複数のレーザビームを集光するコリメート光学系と、
前記コリメート光学系により集光された前記複数のレーザビームを2次元画像に変換する2次元画像変換デバイスとを備えた、
ことを特徴とするディスプレイ装置。 - 請求項22に記載のディスプレイ装置において、
前記均一化光学系が、ロッドプリズムから構成されている、
ことを特徴とするディスプレイ装置。 - 請求項22に記載のディスプレイ装置において、
さらに、前記ロッドプリズムに入射するレーザ光の偏向、位相、偏光の少なくともいずれかを変調する光学素子を備えた、
ことを特徴とするディスプレイ装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007535517A JP5231806B2 (ja) | 2005-09-14 | 2006-09-13 | レーザ光源、およびそれを用いたディスプレイ装置 |
Applications Claiming Priority (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005266528 | 2005-09-14 | ||
JP2005266528 | 2005-09-14 | ||
PCT/JP2006/318186 WO2007032402A1 (ja) | 2005-09-14 | 2006-09-13 | レーザ光源、およびそれを用いたディスプレイ装置 |
JP2007535517A JP5231806B2 (ja) | 2005-09-14 | 2006-09-13 | レーザ光源、およびそれを用いたディスプレイ装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPWO2007032402A1 JPWO2007032402A1 (ja) | 2009-03-19 |
JP5231806B2 true JP5231806B2 (ja) | 2013-07-10 |
Family
ID=37864993
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2007535517A Expired - Fee Related JP5231806B2 (ja) | 2005-09-14 | 2006-09-13 | レーザ光源、およびそれを用いたディスプレイ装置 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US7769060B1 (ja) |
JP (1) | JP5231806B2 (ja) |
WO (1) | WO2007032402A1 (ja) |
Families Citing this family (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN101507064B (zh) * | 2006-10-24 | 2011-04-13 | 松下电器产业株式会社 | 内部共振器型shg光源 |
US20100103088A1 (en) * | 2007-01-29 | 2010-04-29 | Toshifumi Yokoyama | Solid-state laser apparatus, display apparatus and wavelength converting element |
JP5018685B2 (ja) * | 2008-08-07 | 2012-09-05 | 株式会社島津製作所 | 光学素子および光学素子の製造方法 |
CN101728757A (zh) * | 2008-10-30 | 2010-06-09 | 北京中视中科光电技术有限公司 | 一种全固态激光器 |
US9019999B2 (en) * | 2009-09-04 | 2015-04-28 | Spectralus Corporation | Efficient and compact visible microchip laser source with periodically poled nonlinear materials |
JP5529153B2 (ja) * | 2009-10-21 | 2014-06-25 | パナソニック株式会社 | 波長変換レーザ光源及び画像表示装置 |
WO2011074215A1 (ja) * | 2009-12-14 | 2011-06-23 | パナソニック株式会社 | 波長変換レーザ光源、光学素子及び画像表示装置 |
US11881676B2 (en) * | 2019-01-31 | 2024-01-23 | L3Harris Technologies, Inc. | End-pumped Q-switched laser |
Citations (14)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0587976U (ja) * | 1992-04-28 | 1993-11-26 | 富士写真光機株式会社 | レーザキャビティハウジング |
JPH06500432A (ja) * | 1990-08-22 | 1994-01-13 | マサチユセツツ・インスチチユート・オブ・テクノロジー | マイクロチツプレーザーアレイ |
JPH06102553A (ja) * | 1992-09-22 | 1994-04-15 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 光波長変換素子および短波長レーザ光源 |
JPH06268290A (ja) * | 1993-03-10 | 1994-09-22 | Univ Osaka | スラブ型固体レーザ媒質 |
JPH09502054A (ja) * | 1993-08-26 | 1997-02-25 | レーザー パワー コーポレーション | 深青色のマイクロレーザー |
JPH09246648A (ja) * | 1996-03-13 | 1997-09-19 | Nikon Corp | レーザー光源および照明光学装置 |
JPH10325941A (ja) * | 1997-03-27 | 1998-12-08 | Mitsui Chem Inc | 半導体レーザ光源および固体レーザ装置 |
JP2000124524A (ja) * | 1998-10-14 | 2000-04-28 | Furukawa Electric Co Ltd:The | 光増幅器とそれを用いた光増幅装置及びそれらに使用される光増幅方法。 |
JP2000315832A (ja) * | 1999-04-30 | 2000-11-14 | Fuji Photo Film Co Ltd | 半導体レーザー励起固体レーザー |
JP2000349379A (ja) * | 1999-03-31 | 2000-12-15 | Fuji Photo Film Co Ltd | 光学素子およびその作成方法並びに固体レーザ |
JP2003163394A (ja) * | 2001-10-26 | 2003-06-06 | Jenoptik Laser Optik Systeme Gmbh | 異方性レーザー結晶をポンピングするための装置 |
JP2003298164A (ja) * | 2002-02-01 | 2003-10-17 | Inst Of Physical & Chemical Res | レーザー発振方法およびレーザー装置 |
WO2005030980A2 (en) * | 2003-09-22 | 2005-04-07 | Snake Creek Lasers Llc | High densiity methods for producing diode-pumped micro lasers |
JP2005107412A (ja) * | 2003-10-01 | 2005-04-21 | Fujinon Corp | 色分解合成システム、色分解システムおよび色合成システムとそれを用いた照明光学系、投写光学系および投写型表示装置 |
Family Cites Families (15)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5256164A (en) * | 1988-02-02 | 1993-10-26 | Massachusetts Institute Of Technology | Method of fabricating a microchip laser |
US4860304A (en) * | 1988-02-02 | 1989-08-22 | Massachusetts Institute Of Technology | Solid state microlaser |
JP2586200B2 (ja) | 1990-09-27 | 1997-02-26 | 日本電気株式会社 | マクロチップ固体レーザー装置 |
US5215705A (en) | 1991-02-25 | 1993-06-01 | General Electric Company | Nuclear fuel bundle spacer spring force gauge |
DE4235891A1 (de) | 1991-10-24 | 1993-04-29 | Mitsubishi Electric Corp | Festkoerper-laser mit halbleiterlaseranregung |
JP3091329B2 (ja) | 1992-09-10 | 2000-09-25 | 松下電器産業株式会社 | 固体レーザー装置 |
US5838709A (en) | 1995-06-07 | 1998-11-17 | Nikon Corporation | Ultraviolet laser source |
US5708672A (en) * | 1996-01-29 | 1998-01-13 | Laser Power Corporation | Dual wavelength solid state laser |
EP0867991B1 (en) | 1997-03-27 | 2001-05-30 | Mitsui Chemicals, Inc. | Semiconductor laser light source and solid-state laser apparatus |
DE60043761D1 (de) | 1999-03-31 | 2010-03-18 | Fujifilm Corp | Einkristallines optisches Element mit einer bezüglich einer Spaltungsebene geneigten lichtdurchlässigen Oberfläche |
US6587496B1 (en) * | 2000-12-11 | 2003-07-01 | Lite Cycles, Inc. | Single-mode pump power source |
EP1333548A3 (en) | 2002-02-01 | 2005-03-16 | Nec Tokin Corporation | Laser oscillation method and laser device |
JP4099573B2 (ja) | 2002-06-26 | 2008-06-11 | ソニー株式会社 | 光学素子、光出射装置及び光学素子の製造方法 |
JP2004111542A (ja) | 2002-09-17 | 2004-04-08 | Topcon Corp | 半導体レーザ装置 |
JP4134891B2 (ja) | 2003-11-28 | 2008-08-20 | 株式会社デンソー | 衝突可能性判定装置 |
-
2006
- 2006-09-13 JP JP2007535517A patent/JP5231806B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2006-09-13 WO PCT/JP2006/318186 patent/WO2007032402A1/ja active Application Filing
- 2006-09-13 US US12/066,548 patent/US7769060B1/en not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (14)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH06500432A (ja) * | 1990-08-22 | 1994-01-13 | マサチユセツツ・インスチチユート・オブ・テクノロジー | マイクロチツプレーザーアレイ |
JPH0587976U (ja) * | 1992-04-28 | 1993-11-26 | 富士写真光機株式会社 | レーザキャビティハウジング |
JPH06102553A (ja) * | 1992-09-22 | 1994-04-15 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 光波長変換素子および短波長レーザ光源 |
JPH06268290A (ja) * | 1993-03-10 | 1994-09-22 | Univ Osaka | スラブ型固体レーザ媒質 |
JPH09502054A (ja) * | 1993-08-26 | 1997-02-25 | レーザー パワー コーポレーション | 深青色のマイクロレーザー |
JPH09246648A (ja) * | 1996-03-13 | 1997-09-19 | Nikon Corp | レーザー光源および照明光学装置 |
JPH10325941A (ja) * | 1997-03-27 | 1998-12-08 | Mitsui Chem Inc | 半導体レーザ光源および固体レーザ装置 |
JP2000124524A (ja) * | 1998-10-14 | 2000-04-28 | Furukawa Electric Co Ltd:The | 光増幅器とそれを用いた光増幅装置及びそれらに使用される光増幅方法。 |
JP2000349379A (ja) * | 1999-03-31 | 2000-12-15 | Fuji Photo Film Co Ltd | 光学素子およびその作成方法並びに固体レーザ |
JP2000315832A (ja) * | 1999-04-30 | 2000-11-14 | Fuji Photo Film Co Ltd | 半導体レーザー励起固体レーザー |
JP2003163394A (ja) * | 2001-10-26 | 2003-06-06 | Jenoptik Laser Optik Systeme Gmbh | 異方性レーザー結晶をポンピングするための装置 |
JP2003298164A (ja) * | 2002-02-01 | 2003-10-17 | Inst Of Physical & Chemical Res | レーザー発振方法およびレーザー装置 |
WO2005030980A2 (en) * | 2003-09-22 | 2005-04-07 | Snake Creek Lasers Llc | High densiity methods for producing diode-pumped micro lasers |
JP2005107412A (ja) * | 2003-10-01 | 2005-04-21 | Fujinon Corp | 色分解合成システム、色分解システムおよび色合成システムとそれを用いた照明光学系、投写光学系および投写型表示装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPWO2007032402A1 (ja) | 2009-03-19 |
US7769060B1 (en) | 2010-08-03 |
WO2007032402A1 (ja) | 2007-03-22 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20090403 |
|
RD03 | Notification of appointment of power of attorney |
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RD05 | Notification of revocation of power of attorney |
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|
A131 | Notification of reasons for refusal |
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A521 | Request for written amendment filed |
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RD01 | Notification of change of attorney |
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TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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R155 | Notification before disposition of declining of application |
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|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
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FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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|
R151 | Written notification of patent or utility model registration |
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|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |