JP2003298164A - レーザー発振方法およびレーザー装置 - Google Patents
レーザー発振方法およびレーザー装置Info
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Abstract
度で添加したNd:GdVO4結晶などのような、レー
ザー活性イオンを所定の濃度で添加した結晶よりなるレ
ーザー発振方法およびレーザー装置を提供する。 【解決手段】レーザー媒質を励起光により励起してレー
ザー発振するレーザー発振方法において、フローティン
グゾーン法により、レーザー活性イオンとしてネオジウ
ムが原子数の比率で2%乃至15%の濃度となるように
添加されたガドリニウムバナデイト結晶よりなるレーザ
ー媒質を利用するようにしたものである。
Description
およびレーザー装置に関し、さらに詳細には、励起光に
より励起されてレーザー発振するレーザー媒質を用いた
レーザー発振方法およびレーザー装置に関する。
オジウム(Nd)が添加(以下、「ドープ」と適宜に称
する。)されたガドリニウムバナデイト(GdVO4)
結晶であるネオジウム添加ガドリニウムバナデイト(以
下、「Nd:GdVO4」と適宜称する。)結晶は、レ
ーザー媒質としての有用性が期待されている。
成が困難であって、Nd:GdVO 4結晶の結晶成長は
研究段階で行われているに過ぎないのが現状であり、製
品化はほとんど行われていない。
GdVO4結晶は、ネオジウムの添加濃度が原子数の比
率にして1%以下のものであって、ネオジウムの添加濃
度が低いことが指摘されていた。また、十分な光学特性
を保障しているものはなかった。
ーザー発振波長域を持ち、かつ、現時点において固体レ
ーザー媒質として市場の中心を占めているネオジウム添
加イットリウムアルミニウムガーネット(以下、「N
d:YAG」と適宜称する。)結晶やネオジウム添加イ
ットリウムバナデイト(以下、「Nd:YVO4」と適
宜称する。)結晶と比較すると、Nd:GdVO4結晶
の持つ優位性を生かし切れておらず、市場への普及には
至っていないというのが現状である。
in 35(2000)225−232 例えば、特許文献1には、TGT(Temperatu
re Gradient Technique)法によ
り、ネオジウムを高濃度で添加したNd:YAG結晶が
開示されている。
ゾーン法によりネオジウムを添加したNd:YVO4結
晶が開示されている。
結晶を作成する際に、レーザー活性イオンとしてネオジ
ウムを原子数の比率で1%を越える高濃度で添加するこ
とが困難であったため、Nd:GdVO4結晶の主吸収
帯である波長808nm以外の波長帯の励起光の励起に
よるレーザー発振は、現在に至るまで実用化されていな
かった。
加濃度の低いNd:GdVO4結晶は励起光の吸収が全
体的に低いため、波長808nmである主吸収帯以外で
の励起は困難であり、仮に励起によりレーザー発振が行
われたとしても、吸収することのできるエネルギーが小
さいため効率が悪く、有効に出力を得ることができなか
った。
を原子数の比率で1%を越える高濃度で添加したNd:
GdVO4結晶の作成方法や、ネオジウムを原子数の比
率で1%を越える高濃度で添加したNd:GdVO4結
晶をレーザー媒質とするレーザー発振方法や、ネオジウ
ムを原子数の比率で1%を越える高濃度で添加したN
d:GdVO4結晶をレーザー媒質としたレーザー装置
の提案が強く望まれていた。
イオンとしてネオジウムを原子数の比率で1%を越える
高濃度で添加したNd:GdVO4結晶を総称して、単
に「高濃度Nd添加GdVO4結晶」あるいは「高濃度
Nd:GdVO4結晶」と適宜に称することとする。
質としてレーザー活性イオンたるTm,Ho,Er,C
rイオンなどを高濃度で添加した単結晶である、例え
ば、Tm:YVO4やTm:GdVO4などの作成方法
や、当該単結晶をレーザー媒質とするレーザー発振方法
や、当該単結晶をレーザー媒質としたレーザー装置の提
案が強く望まれていた。
うな従来の技術に対する要望に鑑みてなされたものであ
り、その目的とするところは、レーザー活性イオンを所
定の濃度で添加した結晶よりなるレーザー媒質を用いた
レーザー発振方法およびレーザー装置を提供しようとす
るものである。
に、本発明のうち請求項1に記載の発明は、レーザー媒
質を励起光により励起してレーザー発振するレーザー発
振方法において、フローティングゾーン法により、レー
ザー活性イオンとしてネオジウムが原子数の比率で2%
乃至15%の濃度となるように添加されたガドリニウム
バナデイト結晶よりなるレーザー媒質を利用するように
したものである。
は、レーザー媒質を励起光により励起してレーザー発振
するレーザー発振方法において、フローティングゾーン
法により作成されたレーザー活性イオンが所定の濃度に
添加された結晶よりなるレーザー媒質を、主吸収帯であ
る波長帯とは異なる波長帯の励起光の励起によりレーザ
ー発振するようにしたものである。
は、レーザー媒質を励起光により励起してレーザー発振
するレーザー発振方法において、レーザー活性イオンと
してネオジウムが原子数の比率で1%を越える濃度とな
るように添加されたガドリニウムバナデイト結晶よりな
るレーザー媒質を、主吸収帯である波長808nm帯と
は異なる波長帯の励起光の励起によりレーザー発振する
ようにしたものである。
は、レーザー媒質を励起光により励起してレーザー発振
するレーザー発振方法において、レーザー活性イオンと
してネオジウムが原子数の比率で2%乃至15%の濃度
となるように添加されたガドリニウムバナデイト結晶よ
りなるレーザー媒質を、主吸収帯である波長808nm
帯とは異なる波長帯の励起光の励起によりレーザー発振
するようにしたものである。
は、本発明のうち請求項3または請求項4のいずれか1
項に記載の発明において、上記主吸収帯である波長80
8nm帯とは異なる波長帯の励起光として、波長880
nm帯の励起光を用いるようにしたものである。
は、共振器内にレーザー媒質を配置し、上記レーザー媒
質に励起光を入射することにより上記共振器内において
レーザー発振を生じさせて、上記共振器からレーザー光
を出射させるレーザー装置において、上記レーザー媒質
は、フローティングゾーン法により作成されたレーザー
活性イオンが所定の濃度に添加された結晶よりなるレー
ザー媒質としたものである。
は、共振器内にレーザー媒質を配置し、上記レーザー媒
質に励起光を入射することにより上記共振器内において
レーザー発振を生じさせて、上記共振器からレーザー光
を出射させるレーザー装置において、上記レーザー媒質
は、レーザー活性イオンとしてネオジウムが原子数の比
率で1%を越える濃度となるように添加されたガドリニ
ウムバナデイト結晶としたものである。
は、本発明のうち請求項7に記載の発明において、上記
レーザー媒質は、上記ネオジウムが原子数の比率で2%
乃至15%の濃度となるように添加されたものとしたも
のである。
は、本発明のうち請求項7または請求項8のいずれか1
項に記載の発明において、上記レーザー媒質を、主吸収
帯である波長808nm帯とは異なる波長帯の励起光の
励起によりレーザー発振するようにしたものである。
明は、本発明のうち請求項9に記載の発明において、上
記主吸収帯である波長808nm帯とは異なる波長帯の
励起光として、波長880nm帯の励起光を用いるよう
にしたものである。
明は、本発明のうち請求項6、請求項7、請求項8、請
求項9または請求項10のいずれか1項に記載の発明に
おいて、上記励起光は半導体レーザー励起により入射さ
れるようにしたものである。
明は、波長880nm帯の励起光が、ネオジウムイオン
を基底準位から4F3/2準位へ励起するようにしたも
のである。
ら、本発明によるレーザー発振方法およびレーザー装置
の実施の形態の一例を詳細に説明する。
例によるレーザー媒質を作成するための手法であるフロ
ーティングゾーン法(Floating Zone M
ethod:なお、以下においては、「FZ法」と適宜
に称する。)の模式図が示されている。
る手法によって、高濃度ネオジウム添加ガドリニウムバ
ナデイト結晶や、レーザー活性イオンたるTm,Ho,
Er,Crイオンなどを所定の濃度で添加した単結晶で
あるTm:YVO4やTm:GdVO4などのレーザー
媒質を作成するものである。
温・高圧で焼結させた原料棒12に赤外光源(Infr
ared Source)としてのハロゲンランプ(H
alogen Lamp)14からの赤外光を集光させ
て溶融させ、種結晶と原料棒12との間に溶融帯(フロ
ーティングゾーン:Floating zone)16
を形成し、その溶融帯16を一方向に移動させることに
より結晶を形成させていくという方法である。
加ガドリニウムバナデイト結晶を作成する場合には、ま
ず、原料棒12としてネオジウムとガドリニウムとバナ
デイトとを高温・高圧で焼結させたものを用意する。次
に、この原料棒12にハロゲンランプ14からの赤外光
を集光させて溶融させ、種結晶と原料棒12との間に溶
融帯16を形成し、その溶融帯16を一方向に移動させ
ることにより、高濃度ネオジウム添加ガドリニウムバナ
デイト結晶を形成させていくものである。
ジウム添加ガドリニウムバナデイト結晶として、レーザ
ー活性イオンとしてネオジウムが原子数の比率で1%を
越える濃度ととなるように添加された高濃度ネオジウム
添加ガドリニウムバナデイト結晶を得ることができ、例
えば、レーザー活性イオンとしてネオジウムが原子数の
比率で2%乃至15%の濃度となるように添加された高
濃度ネオジウム添加ガドリニウムバナデイト結晶を得る
ことができた。
2に所定の濃度のNdを焼結させることにより、任意の
濃度に制御することができる。
3mm、長さ50mmの高濃度ネオジウム添加ガドリニ
ウムバナデイト結晶を作成することができた。
ランプ14としては、例えば、出力が1.5kWのハロ
ゲンランプを用いることができる。
ウムバナデイト結晶を作成するに当たっては、チョコラ
ルスキー法(以下、「Cz法」と適宜に称する。)など
の引き上げ法が用いられてきた。
ムバナデイト結晶の特徴として、原料であるバナデイト
の融点が約1700℃と高いため、坩堝や育成雰囲気に
制限があり、良質な結晶を作成することが困難であっ
た。
原子数の比率にして1%以下の低濃度のネオジウム添加
ガドリニウムバナデイト結晶においては、波長808n
m帯の主吸収帯にしかレーザー発振可能な吸収係数のピ
ークが存在しなかった。従って、従来のネオジウムの添
加濃度が原子数の比率にして1%以下の低濃度のネオジ
ウム添加ガドリニウムバナデイト結晶をレーザー媒質と
して用いてレーザー発振させるためには、主吸収帯であ
る波長808nm帯にあわせた発振波長808nmのレ
ーザーダイオードによる励起光によって励起する必要が
あった。
用しないとともに育成雰囲気に制限がないので、従来の
問題点であった坩堝や育成雰囲気の制限が解消され、高
濃度かつ良質な結晶の育成が可能になった。
ネオジウム添加ガドリニウムバナデイト結晶は、波長8
08nm帯に吸収係数のピークが最大の主吸収帯を持つ
が、その周囲にもレーザー発振可能な吸収係数のピーク
を持つ吸収帯が存在する。従って、本発明により作成さ
れた高濃度ネオジウム添加ガドリニウムバナデイト結晶
においては、主吸収帯以外の吸収帯にあわせた発振波長
の励起光を用いても、レーザー発振を起こさせることが
可能となった。
波長と出射光の波長との比(量子変換効率)以上に大き
な出力を得ることができない。
添加ガドリニウムバナデイト結晶をレーザー媒質として
用いた場合には、同じ波長の光を発振させる場合でも、
複数の吸収帯のなかから量子変化効率を最も大きくでき
る励起光の波長を選択することが可能となり、高効率な
発振を行うことができるようになる。
た高濃度ネオジウム添加ガドリニウムバナデイト結晶の
うちで、ネオジウムの濃度が2%、5%、10%、即
ち、ネオジウムの原子数の比率が2%、5%、10%の
三種類の結晶について、その吸収スペクトルの測定結果
を図2に示す。なお、図2においては、横軸に[nm]
単位で波長(Wavelength)をとり、縦軸に
[cm−1]単位で吸収係数(Absorption
coefficient)をとっている。
ジウムの濃度が高くなるに従い、励起光の吸収は大幅に
増加する。例えば、添加されるネオジウムの濃度が5%
の高濃度ネオジウム添加ガドリニウムバナデイト結晶で
は、吸収係数は808nmにおいて100[cm−1]
以上である。
ム添加ガドリニウムバナデイト結晶は、レーザー発振可
能な吸収帯として、一般にレーザーダイオードによる励
起に用いられている波長808nmの主吸収帯のほか
に、波長750nm周辺にピークを持つ吸収帯と波長8
80nm周辺にピークを持つ吸収帯とが存在する。
クを持つ吸収帯に着目すると、波長880nmの吸収帯
における励起時の量子変換効率は「0.83(880/
1060=0.83)」となり、波長808nmの吸収
帯における励起時の量子変換効率である「0.75(8
08/1060=0.75)に比べて約10%増加し、
その分の損失が熱に変わることによる出力の低下を防ぐ
ことができる。
発明によるレーザー装置を用いて、波長880nm帯で
ある波長879nmの励起光で、ネオジウムの濃度、即
ち、ネオジウムの原子数の比率が5%の高濃度ネオジウ
ム添加ガドリニウムバナデイト結晶(Nd5%添加G
d:VO4結晶)を励起した実験結果の入出力特性が示
されている。
で吸収されたパワー(Absorbed Powe
r)、即ち、励起光の入力パワーをとり、縦軸に[W]
単位で出力パワー(Output Power)、即
ち、Nd5%添加Gd:VO4結晶から発振されるレー
ザー光の出力パワーをとっている。
のネオジウムがドープされた高濃度ネオジウム添加ガド
リニウムバナデイト結晶などのように、レーザー活性イ
オンとしてネオジウムを原子数の比率で1%越える濃度
で添加した高濃度ネオジウム添加ガドリニウムバナデイ
ト結晶をレーザー媒質として用いて構成されたレーザー
装置について説明する。
ドリニウムバナデイト結晶をレーザー媒質として用いて
構成されたレーザー装置のなかで、パルス発振動作させ
るレーザー装置が示されている。
ーザー媒質たる高濃度ネオジウム添加ガドリニウムバナ
デイト結晶102と、励起光を生成するためのチタンサ
ファイアレーザー104と、全反射鏡106、108
と、集光レンズ110と、出射ミラー112とを有して
構成されている。
は、パルス発振動作させる励起光を生成するための励起
光源としての励起レーザーであって、波長が880nm
であり、最大出力パワーが平均して40mWであり、パ
ルス幅が80nsの1kHz繰り返しのチタンサファイ
アレーザーである。
バナデイト結晶102は、「縦5mm×横5mm×厚さ
1mm」の大きさにカットされており、チタンサファイ
アレーザー104と対向する第1表面102aは、波長
が1063nmの光を全反射するとともに波長が880
nmの光に対して無反射となるようにコーティングを施
され、出射ミラー112と対向する第2表面102b
は、波長が1063nmの光に対して無反射となるよう
にコーティングを施されている。
ジウム添加ガドリニウムバナデイト結晶102と対向す
る面が曲率半径50mmの凹面112aとして形成され
るとともに、他方の面が平坦面112bとして形成され
ている。また、凹面112aは、波長が1064nmの
光の反射率が90%となるようなコーティングを施され
ていて、凹面鏡として構成されている。なお、平坦面1
12bには、コーディングは施されていない。
により形成されており、100mmの焦点距離を備える
ようになされている。
は、第1表面102aと凹面112aとにより共振器が
構成されることになり、この共振器内にレーザー媒質と
して高濃度ネオジウム添加ガドリニウムバナデイト結晶
102が配置されていることになる。なお、共振器のキ
ャビティ長は3cmに設定している。
ーザー104から出射された励起光を、全反射鏡10
6、108を介して集光レンズ110に入射すると、集
光レンズ110は励起光を高濃度ネオジウム添加ガドリ
ニウムバナデイト結晶102に集光して入射する。
ザー発振を生じ、出射ミラー112の平坦面112bか
らレーザー光が出射されることになる。
実験結果を示すグラフであり、図4に示すレーザー装置
100において、高濃度ネオジウム添加ガドリニウムバ
ナデイト結晶102として原子数の比率で5%のネオジ
ウムがドープされた高濃度ネオジウム添加ガドリニウム
バナデイト結晶を用いた場合における入出力特性のグラ
フが示されている。図3に示されているように、スロー
プ効率は50%である。
ドリニウムバナデイト結晶をレーザー媒質として用いて
構成されたレーザー装置のなかで、CW(連続波)発振
動作させるレーザー装置が示されている。この図5に示
すレーザー装置は、半導体レーザー励起固体レーザー装
置として構成されている。
いて、図4に示すレーザー装置100の構成と同一ある
いは相当する構成に関しては、図4において用いた符号
と同一の符号を用いて示すこととし、その詳細な構成な
らびに作用の説明は省略する。
ーザー媒質たる高濃度ネオジウム添加ガドリニウムバナ
デイト結晶102と、励起光としてのビームを生成する
ための励起光源としてのレーザーダイオード202と、
レーザーダイオード202を加熱するためのヒートシン
ク204と、レーザーダイオード202から出射された
励起光としてのビームを高濃度ネオジウム添加ガドリニ
ウムバナデイト結晶102に集光して入射するグラディ
エントインデックスレンズ206と、出射ミラー208
とを有して構成されている。
aAs/GaAlAsの200μmのシングルストライ
プレーザーダイオードであり、波長が25℃で880n
mであり、最大出力パワーが2Wである。
ックよりなるものであるが、水冷により冷却されてい
る。
ジウム添加ガドリニウムバナデイト結晶102と対向す
る面が曲率半径750mmの凹面208aとして形成さ
れるとともに、他方の面が平坦面208bとして形成さ
れている。また、凹面208aは、波長が1064nm
の光の反射率が95%となるようなコーティングを施さ
れていて、凹面鏡として構成されている。なお、平坦面
208bには、コーディングは施されていない。
206は、1.8mmの直径を備えている。
従って、このレーザー装置200においては、第1表面
102aと凹面208aとにより共振器が構成されるこ
とになり、この共振器内にレーザー媒質として高濃度ネ
オジウム添加ガドリニウムバナデイト結晶102が配置
されていることになる。なお、共振器のキャビティ長は
3cmに設定している。
導体レーザー励起は、レーザー発振により共振器を往復
する光の光軸と略一致する方向からレーザー媒質たる高
濃度ネオジウム添加ガドリニウムバナデイト結晶102
に励起光を入射する縦励起である。
202から出射された励起光としてのビームを、グラデ
ィエントインデックスレンズ206に入射すると、グラ
ディエントインデックスレンズ206はビームを高濃度
ネオジウム添加ガドリニウムバナデイト結晶102に集
光して入射する。
ザー発振を生じ、出射ミラー208の平坦面208bか
らレーザー光が出射されることになる。
率で1%を越える高濃度で添加したNd:GdVO4結
晶を用いることにより、主吸収帯である波長808nm
帯以外の波長帯(例えば、波長880nm帯である。)
の吸収帯での励起を行ってレーザー発振させることが可
能となる。
によって、Nd:GdVO4結晶の持つ吸収係数が飛躍
的に増加するため、従来の技術により作成されたネオジ
ウムが低濃度に添加されたNd:GdVO4結晶では困
難であった吸収係数の小さな波長域での励起が可能とな
ったものである。
越える高濃度で添加したNd:GdVO4結晶を用い
て、主吸収帯である波長808nm帯以外の波長帯(例
えば、波長880nm帯である。)の吸収帯を選択して
励起することにより、主吸収帯である波長808nm帯
を選択して励起するよりも量子変換効率を向上させるこ
とが可能となり、高効率なレーザー発振を得ることがで
きるようになる。
を越える高濃度で添加したNd:GdVO4結晶を用い
ると、主吸収帯である波長808nm帯以外の波長帯
(例えば、波長880nm帯である。)の吸収帯を選択
して励起することが可能であるので、従来においては励
起光源は主吸収帯である808nmに発振波長を持つレ
ーザーダイオードに限定されていたが、励起光源の選択
の裕度を広げることができる。
する本発明によるレーザー装置を用いて、ネオジウムを
原子数の比率で2%の濃度で添加した高濃度ネオジウム
添加ガドリニウムバナデイト結晶(Nd2%添加Gd:
VO4結晶)を、波長808nmの励起光と波長880
nm帯である波長879nmの励起光とで励起した場合
の比較実験結果の入出力特性が示されている。
位で吸収されたパワー(Absorbed Powe
r)、即ち、励起光の入力パワーをとり、縦軸に[m
W]単位で出力パワー(Output Power)、
即ち、Nd2%添加Gd:VO4結晶から発振されるレ
ーザー光の出力パワーをとっている。
Gd:VO4結晶は高濃度にネオジウムを添加している
ため、非常に高いレーザー発振効率が得られた。具体的
には、レーザー発振のスロープ効率は波長808nmの
励起光の場合で67%であり、波長880nm帯である
波長879nmの励起光の場合で78%であった。
nmで励起した場合には、波長808nmの励起と比較
すると、エネルギー変換効率の違いとほぼ同じく、約1
0%ほどスロープ効率が向上している。
明すると、この図7に示すレーザー装置は、レーザー媒
質たるネオジウムを原子数の比率で2%の濃度で添加し
た高濃度ネオジウム添加ガドリニウムバナデイト結晶3
02と、パルス発振動作させる励起光を生成するための
励起光源としての励起レーザーたるチタンサファイアレ
ーザー304と、全反射鏡306、308と、励起光の
強度ならびに偏光を調整するためのλ/2波長板320
ならびにグランレーザープリズム(Granlaser
prism)322と、集光レンズ310と、出射ミ
ラー312とを有して構成されている。
は、コンピューター制御により波長を700nmから9
50nmまでの範囲で任意に選択することができ、最大
出力パワーが平均して200mWであり、パルス幅が1
00nsの繰り返し1kHzのレーザーである。
いては、コンピューター制御により波長808nmまた
は波長879nmの光を選択して励起光として用いた。
バナデイト結晶302は、「直径8mm×厚さ1mm」
の大きさにカットされており、チタンサファイアレーザ
ー304と対向する第1表面302aは、波長が106
3nmの光を全反射するとともに波長が879nmの光
に対して無反射となるようにコーティングを施され、出
射ミラー312と対向する第2表面302bは、波長が
1063nmの光に対して無反射となるようにコーティ
ングを施されている。
ジウム添加ガドリニウムバナデイト結晶302と対向す
る面が、曲率半径200mmの凹面312aとして形成
されるとともに、他方の面が平坦面312bとして形成
されている。また、凹面312aは、波長が1064n
mの光の反射率が80%となるようなコーティングを施
されていて、部分反射凹面鏡として構成されている。な
お、平坦面312bには、コーディングは施されていな
い。
で形成されており、120mmの焦点距離を備えてい
る。
は、第1表面302aと凹面312aとにより共振器が
構成されることになり、この共振器内にレーザー媒質と
して高濃度ネオジウム添加ガドリニウムバナデイト結晶
302が配置されていることになる。なお、共振器のキ
ャビティ長は3mmに設定している。
ーザー304から出射された励起光を、全反射鏡30
6、308、λ/2波長板320、グランレーザープリ
ズム322を介して集光レンズ110に入射すると、集
光レンズ310は励起光を集光して高濃度ネオジウム添
加ガドリニウムバナデイト結晶302に集光して入射す
る。
ザー発振を生じ、出射ミラー312の平坦面312bか
らレーザー光が出射されることになる。
る一定の方向に偏光した光だけを透過させるため、λ/
2波長板320を回転させることによってグランレーザ
ープリズム322を透過する励起光の量を変化させるこ
とができる。これにより、高濃度ネオジウム添加ガドリ
ニウムバナデイト結晶302に入射する励起光のパワー
を調整した。
加ガドリニウムバナデイト結晶に波長880nm帯の励
起光を入射することによりレーザー発振が生じるという
ことは、波長880nm帯の励起光がネオジウムイオン
を基底準位から4F3/2準位へ励起することを意味し
ている。
する(1)乃至(4)に示すように変形してもよい。
オジウムを原子数の比率で2%、5%または10%の濃
度でガドリニウムバナデイト結晶に添加した場合につい
て詳細に説明したが、これに限られるものではないこと
は勿論であり、ネオジウムをガドリニウムバナデイト結
晶に添加する濃度は、原子数の比率で1%を越える濃度
のような高濃度であればよいものであり、好ましくは2
%以上の濃度であり、より好ましくは2%乃至15%の
濃度である。
導体レーザー励起は端面励起によるものとしたが、これ
に限られるものではないことは勿論であり、レーザー発
振により共振器を往復する光の光軸の軸方向と略直交す
る方向からレーザー媒質に励起光を入射する側面励起に
より、半導体レーザー励起を行うようにしてもよい。
ーザー媒質として高濃度でネオジウムを添加したガドリ
ニウムバナデイト結晶について説明したが、本発明を適
用することができるレーザー媒質はこれに限定されるも
のではないことは勿論である。例えば、レーザー媒質と
してレーザー活性イオンたるTm,Ho,Er,Crイ
オンなどを高濃度で添加した単結晶である、例えば、T
m:YVO4やTm:GdVO4などにも本発明を適用
することが可能である。なお、その際には、焼結体の濃
度を制御などを行うことが好ましい。
た(1)乃至(3)に示す変形例は、適宜に組み合わせ
て用いるようにしてもよい。
ているので、レーザー活性イオンを所定の濃度で添加し
た結晶よりなるレーザー媒質を用いたレーザー発振方法
およびレーザー装置を提供することができるという優れ
た効果を奏する。
を作成するための手法であるフローティングゾーン法
(Floating Zone Method:なお、
以下においては、「FZ法」と適宜に称する。)の模式
図である。
り、本発明による高濃度ネオジウム添加ガドリニウムバ
ナデイト結晶のうちで、ネオジウムの濃度が2%、5
%、10%、即ち、ネオジウムの原子数の比率が2%、
5%、10%の三種類の結晶について、その吸収スペク
トルの測定結果を示すグラフである。なお、横軸は[n
m]単位で波長(Wavelength)を示し、縦軸
は[cm−1]単位で吸収係数(Absorption
coefficient)を示している。
り、図4に示すレーザー装置において、高濃度ネオジウ
ム添加ガドリニウムバナデイト結晶として原子数の比率
で5%のネオジウムがドープされた高濃度ネオジウム添
加ガドリニウムバナデイト結晶を用いた場合における入
出力特性のグラフである。なお、横軸は[W]単位で吸
収されたパワー(Absorbed Power)を示
し、縦軸は[W]単位で出力パワー(Output P
ower)を示している。
結晶をレーザー媒質として用いて構成されたレーザー装
置のなかで、パルス発振動作させるレーザー装置を示す
概略構成説明図である。
結晶をレーザー媒質として用いて構成されたレーザー装
置のなかで、CW(連続波)発振動作させるレーザー装
置を示す概略構成説明図である。
り、図7に示すレーザー装置において、高濃度ネオジウ
ム添加ガドリニウムバナデイト結晶として原子数の比率
で2%のネオジウムがドープされた高濃度ネオジウム添
加ガドリニウムバナデイト結晶を用いた場合における入
出力特性のグラフである。なお、横軸は[W]単位で吸
収されたパワー(Absorbed Power)を示
し、縦軸は[W]単位で出力パワー(Output P
ower)を示している。
結晶をレーザー媒質として用いて構成されたレーザー装
置のなかで、パルス発振動作させるレーザー装置を示す
概略構成説明図である。
Lamp) 16 溶融帯(フローティングゾーン:
Floatingzone) 100、200、300 レーザー装置 102、302 高濃度Nd添加YA
G単結晶 102a、302a 第1表面 102b、302b 第2表面 104、304 チタンサファイアレ
ーザー 106、108、306、308 全反射鏡 110、310 集光レンズ 112、208、312 出射ミラー 112a、208a、312a 凹面 112b、208b、312b 平坦面 202 レーザーダイオード 204 ヒートシンク 206 グラディエントインデックスレ
ンズ 320 λ/2波長板 322 グランレーザープリズム(Gr
an laser prism)
Claims (12)
- 【請求項1】 レーザー媒質を励起光により励起してレ
ーザー発振するレーザー発振方法において、 フローティングゾーン法により、レーザー活性イオンと
してネオジウムが原子数の比率で2%乃至15%の濃度
となるように添加されたガドリニウムバナデイト結晶よ
りなるレーザー媒質を利用するレーザー発振方法。 - 【請求項2】 レーザー媒質を励起光により励起してレ
ーザー発振するレーザー発振方法において、 フローティングゾーン法により作成されたレーザー活性
イオンが所定の濃度に添加された結晶よりなるレーザー
媒質を、主吸収帯である波長帯とは異なる波長帯の励起
光の励起によりレーザー発振するレーザー発振方法。 - 【請求項3】 レーザー媒質を励起光により励起してレ
ーザー発振するレーザー発振方法において、 レーザー活性イオンとしてネオジウムが原子数の比率で
1%を越える濃度となるように添加されたガドリニウム
バナデイト結晶よりなるレーザー媒質を、主吸収帯であ
る波長808nm帯とは異なる波長帯の励起光の励起に
よりレーザー発振するレーザー発振方法。 - 【請求項4】 レーザー媒質を励起光により励起してレ
ーザー発振するレーザー発振方法において、 レーザー活性イオンとしてネオジウムが原子数の比率で
2%乃至15%の濃度となるように添加されたガドリニ
ウムバナデイト結晶よりなるレーザー媒質を、主吸収帯
である波長808nm帯とは異なる波長帯の励起光の励
起によりレーザー発振するレーザー発振方法。 - 【請求項5】 請求項3または請求項4のいずれか1項
に記載のレーザー発振方法において、 前記主吸収帯である波長808nm帯とは異なる波長帯
の励起光は、波長880nm帯の励起光であるレーザー
発振方法。 - 【請求項6】 共振器内にレーザー媒質を配置し、前記
レーザー媒質に励起光を入射することにより前記共振器
内においてレーザー発振を生じさせて、前記共振器から
レーザー光を出射させるレーザー装置において、 前記レーザー媒質は、フローティングゾーン法により作
成されたレーザー活性イオンが所定の濃度に添加された
結晶よりなるレーザー媒質であるレーザー装置。 - 【請求項7】 共振器内にレーザー媒質を配置し、前記
レーザー媒質に励起光を入射することにより前記共振器
内においてレーザー発振を生じさせて、前記共振器から
レーザー光を出射させるレーザー装置において、 前記レーザー媒質は、レーザー活性イオンとしてネオジ
ウムが原子数の比率で1%を越える濃度となるように添
加されたガドリニウムバナデイト結晶であるレーザー装
置。 - 【請求項8】 請求項7に記載のレーザー装置におい
て、 前記レーザー媒質は、前記ネオジウムが原子数の比率で
2%乃至15%の濃度となるように添加されたものであ
るレーザー装置。 - 【請求項9】 請求項7または請求項8のいずれか1項
に記載のレーザー装置において、 前記レーザー媒質を、主吸収帯である波長808nm帯
とは異なる波長帯の励起光の励起によりレーザー発振す
るものであるレーザー装置。 - 【請求項10】 請求項9に記載のレーザー装置におい
て、 前記主吸収帯である波長808nm帯とは異なる波長帯
の励起光は、波長880nm帯の励起光であるレーザー
装置。 - 【請求項11】 請求項6、請求項7、請求項8、請求
項9または請求項10のいずれか1項に記載のレーザー
装置において、 前記励起光は半導体レーザー励起により入射されるもの
であるレーザー装置。 - 【請求項12】 波長880nm帯の励起光が、ネオジ
ウムイオンを基底準位から4F3/2準位へ励起するレ
ーザー発振方法。
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JP2003332657A (ja) * | 2002-05-17 | 2003-11-21 | Megaopto Co Ltd | レーザーシステム |
JP2006165292A (ja) * | 2004-12-08 | 2006-06-22 | Ricoh Co Ltd | 半導体レーザ励起固体レーザ装置 |
WO2007032402A1 (ja) * | 2005-09-14 | 2007-03-22 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | レーザ光源、およびそれを用いたディスプレイ装置 |
JP2011515869A (ja) * | 2008-03-28 | 2011-05-19 | エレクトロ サイエンティフィック インダストリーズ インコーポレーテッド | 高効率利得媒質を有するレーザ |
-
2002
- 2002-11-08 JP JP2002325909A patent/JP4037244B2/ja not_active Expired - Fee Related
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JP5231806B2 (ja) * | 2005-09-14 | 2013-07-10 | パナソニック株式会社 | レーザ光源、およびそれを用いたディスプレイ装置 |
JP2011515869A (ja) * | 2008-03-28 | 2011-05-19 | エレクトロ サイエンティフィック インダストリーズ インコーポレーテッド | 高効率利得媒質を有するレーザ |
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