JP5225139B2 - フォトリソグラフィ用高分子化合物の金属イオン不純物除去方法 - Google Patents
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Description
本発明において、上記側鎖に架橋剤が付加された高分子化合物としては、リソグラフィ工程で使用される活性光線を吸収する部位を有する高分子化合物の側鎖に架橋剤が付加されたものであればよい。
特に、反射防止膜性能に優れる観点から、グリコールウリルが好ましい。更に、非芳香族の特徴を併せ持つことにより、エッチングレートを向上させることができる。
上記の通り得られた高分子化合物を含む溶液は、原料由来あるいは製造工程で金属イオン等不純物を含むことが多く、この金属イオン等不純物が電子デバイスの性能及び安定性に悪影響を及ぼすことも明らかになっているため、濾過等により、上記金属イオン等の不純物を低濃度まで除去する必要がある。
なお、下記合成例1〜4において得られた高分子化合物の重量平均分子量は、GPC(Gel Permeation Chromatography:東ソー製HLC8220GP)により、ポリスチレン換算で求めた(測定条件:乾粉50mg/溶離液5mL、溶離液:1.7mMリン酸/THF)。
1,3,5-トリス(2-ヒドロキシエチル)イソシアヌレート(33.56g,0.129mo
l)、デカヒドロ-2,6-ナフタレンジカルボン酸ジメチル(32.68g, 0.129mol)、p-トルエンスルホン酸-水和物(pTSA)(1.303g,6.85mmol)、及びアニソール(39.80g)を三口フラスコに充填し、Dean-Starkトラップを用いて脱水及び脱メタノール反応を行いながら130℃で10時間重合した。その後、テトラヒドロフラン(THF)で希釈して、テトラメトキシグリコールウリル(TMGU)(12.81g,0.805mol)添加し、20℃で5.5時間反応させてトリエチルアミン(0.6932g,6.85mmol)を加えて反応を停止させた。この反応液をTHF及びIPA(2-プロパノール)で希釈し、ヘキサンとIPAの混合物に再沈殿し、下記式に示すポリエステル系高分子化合物(重量平均分子量:9,142、収率:約40%)を得た。
1,3,5-トリス(2-ヒドロキシエチル)イソシアヌレート(33.56g,0.129mol)、2,6-ナフタレンジカルボン酸ジメチル(34.10g,0.129mol)、p-トルエンスルホン酸-水和物(pTSA)(1.303g,6.85mmol)、及びアニソール(39.80g)を三口フラスコに充填し、Dean-Starkトラップを用いて脱水及び脱メタノール反応を行いながら130℃で10時間重合した。その後、テトラヒドロフラン(THF)で希釈して、テトラメトキシグリコールウリル(TMGU)(12.81g,0.805mol)添加し、20℃で5.5時間反応させてトリエチルアミン(0.6932g,6.85mmol)を加えて反応を停止させた。この反応液をTHF及びIPA(2-プロパノール)で希釈し、ヘキサンとIPAの混合物に再沈殿し、下記式に示すポリエステル系高分子化合物(重量平均分子量:10,378、収率:約45%)を得た。
1,3,5-トリス(2-ヒドロキシエチル)イソシアヌレート(33.56g,0.129mol)、1,3-ジメチルシクロヘキサンジカルボキシレート(25.83g,0.129mol)、p-トルエンスルホン酸-水和物(pTSA)(1.303g,6.85mmol)、及びアニソール(39.80g)を三口フラスコに充填し、Dean-Starkトラップを用いて脱水及び脱メタノール反応を行いながら130℃で10時間重合した。その後、テトラヒドロフラン(THF)で希釈して、テトラメトキシグリコールウリル(TMGU)(12.81g,0.805mol)添加し、20℃で5.5時間反応させてトリエチルアミン(0.6932g,6.85mmol)を加えて反応を停止させた。この反応液をTHF及びIPA(2-プロパノール)で希釈し、ヘキサンとIPAの混合物に再沈殿し、下記式に示すポリエステル系高分子化合物(重量平均分子量:7,572、収率:約40%)を得た。
重合溶媒として乳酸エチルを使用し、γ−ブチロラクトン−2−イルメタクリレート(75.1g、0.31mol)、6-ヒドロキシナフタレン-2-2イルメチルメタクリレート(53.6g、0.31mol)、2’-アゾビスイソブチロニトリル(AIBN)(0.328g、2.0mmol)を滴下溶液重合法にて高分子化合物を得た。その後、20℃において、p-トルエンスルホン酸およびテトラメトキシグリコールウリルを添加し、7時間反応させてトリエチルアミン(0.6932g,6.85mmol)を加えて反応を停止させた。この反応液を乳酸エチルで1.5倍希釈し、IPE(ジイソプロピルエーテル)に再沈殿し、下記式に示すメタクリル系高分子化合物(重量平均分子量:21,204、収率:約85%)を得た。
合成例1で得られた高分子化合物を含む溶液を、超純水5000mL、THF1000mLで洗浄を行ったフィルターシート(CUNOTMゼータプラスTMフィルターカートリッジEC GNグレード)により金属イオン不純物の除去を行った。上記フィルターシートを通過させた溶液を、ヘキサンと2-プロパノールの混合物(ヘキサン/2-プロパノール=1/9)の貧溶媒に再沈殿し、ポリエステル系高分子化合物を得た。得られた化合物を、40℃で60時間減圧乾燥し、乾粉をGPC(Gel Permeation Chromatography:東ソー製HLC8220GP)を用いて、ポリスチレン換算により、重量平均分子量(Mw)及びZ平均分子量(Mz)を算出した(分離カラム:昭和電工社製、Shodex GPC K−805L(商品名)、測定条件:乾粉50mg/溶離液5mL、溶離液:1.7mMリン酸/THF、測定温度:40℃、検出器:示差屈折率検出器)。また、フィルターを通して得られた高分子化合物を含む溶液を高周波誘導結合プラズマ質量分析計(ICP-MS- Inductively Coupled Plasma Mass Spectrometer:Agilent Technologies製7500cs)により金属分析を行った(測定サンプル:高分子化合物の乾粉1.5gを蒸留精製したN-メチル-2-ピロリドン)で100倍希釈したサンプル、測定法:標準添加法)。
合成例2で得られた高分子化合物を含む溶液を、超純水5000mL、THF1000mLで洗浄を行ったフィルターシート(CUNOTMゼータプラスTMフィルターカートリッジEC GNグレード)により金属イオン不純物の除去を行った後、実施例1と同様の方法で処理した後、分子量及び金属イオン不純物濃度の分析を行った。
合成例3で得られた高分子化合物を含む溶液を、超純水5000mL、THF1000mLで洗浄を行ったフィルターシート(CUNOTMゼータプラスTMフィルターカートリッジEC GNグレード)により金属イオン不純物の除去を行った後、実施例1と同様の方法で処理した後、分子量及び金属イオン不純物濃度の分析を行った。
合成例4で得られた高分子化合物を含む溶液を、超純水5000mL、THF1000mLで洗浄を行ったフィルターシート(CUNOTMゼータプラスTMフィルターカートリッジEC GNグレード)により金属イオン不純物の除去を行った後、実施例1と同様の方法で処理した後、分子量及び金属イオン不純物濃度の分析を行った。
合成例1で得られた高分子化合物を含む溶液を、超純水5000mL、THF1000mLで洗浄を行った強酸性イオン交換性基としてスルホン酸基を含むフィルターシート(CUNOTMゼータプラスTMフィルターカートリッジEC SHグレード)により金属イオン不純物の除去を行った。その後、実施例1と同様の方法で処理した後、分子量及び金属イオン不純物濃度の分析を行った。
合成例2で得られた高分子化合物を含む溶液を、超純水5000mL、THF1000mLで洗浄を行った強酸性イオン交換性基としてスルホン酸基を含むフィルターシート(CUNOTMゼータプラスTMフィルターカートリッジEC SHグレード)により金属イオン不純物の除去を行った。その後、実施例1と同様の方法で処理した後、分子量及び金属イオン不純物濃度の分析を行った。
合成例3で得られた高分子化合物を含む溶液を、超純水5000mL、THF1000mLで洗浄を行った強酸性イオン交換性基としてスルホン酸基を含むフィルターシート(CUNOTMゼータプラスTMフィルターカートリッジECSHグレード)により金属イオン不純物の除去を行った。その後、実施例1と同様の方法で処理した後、分子量及び金属イオン不純物濃度の分析を行った。
合成例4で得られた高分子化合物を含む溶液を、超純水5000mL、THF1000mLで洗浄を行った強酸性イオン交換性基としてスルホン酸基を含むフィルターシート(
CUNOTMゼータプラスTMフィルターカートリッジECSHグレード)により金属イオ
ン不純物の除去を行った。その後、実施例1と同様の方法で処理した後、分子量及び金属イオン不純物濃度の分析を行った。
実施例3で得られた高分子化合物をTHFに固形分濃度20%で調整し、GPCにより分子量分布の変化を確認した(測定条件:乾粉50mg/溶離液5mL、溶離液:1.7mMリン酸/THF)。図1及び図2は、それぞれ酸性側(pH6.0〜pH2.0)及び塩基性側(pH6.0〜pH13.0)におけるGPCチャートを示す。また、各pHにおける分子量変化結果を表5に示す。高分子化合物を20質量%になるようにTHFに溶解した高分子化合物溶液に対し、硫酸または酢酸、トリエチルアミンまたは水酸化ナトリウム水溶液を目標pHになるまで添加した高分子化合物溶液を用いた。pHの確認は、pH試験紙を用いて実施した。上記試験結果より、pH3.0以下では、高分子量領域の成分(Mw>10,000)が増加しており、架橋反応が進行したことが判断できる。また、pH11.5以上では、低分子量領域の成分(Mw<1000)が増加しており、エステル結合の分解反応が進行していると判断できる。
Claims (6)
- 側鎖に架橋剤が付加された高分子化合物を含む溶液を、濾材に強酸性イオン交換基を含まず、かつ、ゼータ電位が生じる電荷調整剤を含む一以上のフィルターを通過させることにより、前記溶液中の金属イオン不純物を除去する方法。
- 前記高分子化合物がポリエステル系高分子化合物である請求項1に記載の方法。
- 前記高分子化合物が(メタ)アクリル系高分子化合物である請求項1に記載の方法。
- 前記架橋剤の骨格がグリコールウリルである請求項1ないし3のいずれか一項に記載の方法。
- 前記フィルターのpHが、3.5〜11.0の範囲である請求項1ないし4のいずれか一項に記載の方法。
- 各金属イオン不純物濃度が、100ppb未満である、請求項1ないし5のいずれか一項に記載の方法により得られる側鎖に架橋剤が付加された高分子化合物を含む溶液。
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