JP5212686B2 - 半導体レーザアレイの製造方法 - Google Patents
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Description
(A1)第1基板上に、酸化可能な材料を含む剥離層と、垂直共振器構造とを第1基板側から順に結晶成長法により形成したのち、第1基板に達するまで選択的にエッチングすることにより剥離層および垂直共振器構造を柱状に加工する加工工程
(A2)剥離層を側面から酸化したのち、柱状の垂直共振器構造を第1基板から剥離する剥離工程
(A3)表面上に金属層が形成された第2基板の金属層の表面に、剥離により得られた複数の柱状の垂直共振器構造を接合することにより、各垂直共振器構造と金属層とを互いに電気的に接続する再配置工程
垂直共振器構造が、垂直共振器構造内で酸化速度の最も速い材料を含む被酸化層を有して場合には、上記の剥離工程は、剥離層の側面が被覆されないようにして被酸化層の側面を保護膜で被覆したのち、剥離層を側面から酸化する工程を含んでいてもよい。
また、垂直共振器構造が、垂直共振器構造内で酸化速度の最も速い材料を含む被酸化層を有しており、さらに、剥離層が、被酸化層の厚さよりも厚く形成されているか、または、被酸化層よりも酸化速度の速い材料を含んでいる場合には、上記の剥離工程は、剥離層および被酸化層を側面から同時に酸化する工程を含んでいてもよい。
支持基板10は、例えば、支持体11、絶縁層12、接着層13、金属層14、ビア15(接続部)および電極層16を有している。支持体11の一の面側に、絶縁層12、接着層13および金属層14が支持体11側からこの順に積層されており、支持体11の一の面とは反対の面側に、電極層16が形成されている。また、ビア15は、支持体11、絶縁層12および接着層13を貫通して形成されており、その一端が金属層14の下面と接しており、その他端が電極層16の上面と接している。
半導体レーザ素子20は、支持基板10の金属層14上に接合されており、金属層14側から、例えば、下部コンタクト層21、下部DBR層22、下部スペーサ層23、活性層24、上部スペーサ層25、電流狭窄層26、上部DBR層27および上部コンタクト層28をこの順に積層してなる柱状の垂直共振器構造となっている。つまり、この半導体レーザ素子20は、別途用意した半導体基板40(後述)上での結晶成長により上記垂直共振器構造を形成したものから半導体基板40を除去したものである。
ところで、上記実施の形態では、剥離層41Dおよび電流狭窄層26Dの酸化工程を同時に行っていたが、別個に行ってもよい。例えば、剥離層41Dの側面が被覆されないように電流狭窄層26Dの側面を保護膜で被覆した上で、剥離層41Dを側面から酸化して酸化剥離層41を形成したのち、保護膜を除去し、電流狭窄層26Dを側面から酸化して電流狭窄層26を形成することが可能である。
上記実施の形態またはその変形例に係る半導体レーザアレイ1は、例えば、レーザプリンタなどの印刷装置や、多チャンネル光集積装置などの光通信装置に対して好適に適用可能なものである。例えば、図15に示したように、光源61と、光源61からの光を反射させると共に反射光を走査させるポリゴンミラー62と、ポリゴンミラー62からの光を感光ドラム64に導くfθレンズ63と、fθレンズ63からの光を受けて静電潜像を形成する感光ドラム64と、感光ドラム64に静電潜像に応じたトナーを付着させるトナー供給器(図示せず)とを備えたレーザプリンタ60における光源61として、半導体レーザアレイ1を用いることが可能である。また、例えば、図16に示したように、支持基板71上に光源72と、光入力端が光源72の光出力端に対応して配置された光導波路73と、光入力端が光導波路73の光出力端に対応して設けられた光ファイバ74とを備えた光通信装置70における光源72として、半導体レーザアレイ1を用いることも可能である。
Claims (8)
- 第1基板上に、酸化可能な材料を含む剥離層と、垂直共振器構造とを前記第1基板側から順に結晶成長法により形成したのち、前記第1基板に達するまで選択的にエッチングすることにより前記剥離層および前記垂直共振器構造を柱状に加工する加工工程と、
前記剥離層を側面から酸化したのち、前記柱状の垂直共振器構造を前記第1基板から剥離する剥離工程と、
表面上に金属層が形成された第2基板の前記金属層の表面に、剥離により得られた複数の前記柱状の垂直共振器構造を接合することにより、各垂直共振器構造と前記金属層とを互いに電気的に接続する再配置工程と
を含み、
前記垂直共振器構造は、前記垂直共振器構造内で酸化速度の最も速い材料を含む被酸化層を有し、
前記剥離工程において、前記剥離層の側面が被覆されないようにして前記被酸化層の側面を保護膜で被覆したのち、前記剥離層を側面から酸化する
ことを特徴とする半導体レーザアレイの製造方法。 - 第1基板上に、酸化可能な材料を含む剥離層と、垂直共振器構造とを前記第1基板側から順に結晶成長法により形成したのち、前記第1基板に達するまで選択的にエッチングすることにより前記剥離層および前記垂直共振器構造を柱状に加工する加工工程と、
前記剥離層を側面から酸化したのち、前記柱状の垂直共振器構造を前記第1基板から剥離する剥離工程と、
表面上に金属層が形成された第2基板の前記金属層の表面に、剥離により得られた複数の前記柱状の垂直共振器構造を接合することにより、各垂直共振器構造と前記金属層とを互いに電気的に接続する再配置工程と
を含み、
前記垂直共振器構造は、前記垂直共振器構造内で酸化速度の最も速い材料を含む被酸化層を有し、
前記剥離層は、前記被酸化層の厚さよりも厚く形成され、
前記剥離工程において、前記剥離層および前記被酸化層を側面から同時に酸化する
ことを特徴とする半導体レーザアレイの製造方法。 - 第1基板上に、酸化可能な材料を含む剥離層と、垂直共振器構造とを前記第1基板側から順に結晶成長法により形成したのち、前記第1基板に達するまで選択的にエッチングすることにより前記剥離層および前記垂直共振器構造を柱状に加工する加工工程と、
前記剥離層を側面から酸化したのち、前記柱状の垂直共振器構造を前記第1基板から剥離する剥離工程と、
表面上に金属層が形成された第2基板の前記金属層の表面に、剥離により得られた複数の前記柱状の垂直共振器構造を接合することにより、各垂直共振器構造と前記金属層とを互いに電気的に接続する再配置工程と
を含み、
前記垂直共振器構造は、前記垂直共振器構造内で酸化速度の最も速い材料を含む被酸化層を有し、
前記剥離層は、前記被酸化層よりも酸化速度の速い材料を含み、
前記剥離工程において、前記剥離層および前記被酸化層を側面から同時に酸化する
ことを特徴とする半導体レーザアレイの製造方法。 - 前記剥離層は、前記被酸化層の厚さよりも厚く形成されている
ことを特徴とする請求項3に記載の半導体レーザアレイの製造方法。 - 前記垂直共振器構造は、前記剥離層と接する第1コンタクト層、第1DBR層、第1スペーサ層、活性層、第2スペーサ層、第2DBR層および第2コンタクト層を前記第1基板側から順に含み、
前記剥離工程において、前記柱状の垂直共振器構造を、前記酸化された剥離層と前記第1コンタクト層との界面またはその近傍で前記第1基板から剥離する
ことを特徴とする請求項1ないし請求項4のいずれか一項に記載の半導体レーザアレイの製造方法。 - 前記剥離層は、AlAsからなる
ことを特徴とする請求項1ないし請求項5のいずれか一項に記載の半導体レーザアレイの製造方法。 - 前記剥離層は、AlAsからなり、
前記被酸化層は、AlxGa1-xAs(0.98≦x<1)からなる
ことを特徴とする請求項3または請求項4に記載の半導体レーザアレイの製造方法。 - 前記第2基板には、当該第2基板のうち前記金属層を除く部分を貫通する1または複数の接続部が前記金属層と接して形成されている
ことを特徴とする請求項1ないし請求項7のいずれか一項に記載の半導体レーザアレイの製造方法。
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