JP6327320B2 - 光伝送装置 - Google Patents

光伝送装置 Download PDF

Info

Publication number
JP6327320B2
JP6327320B2 JP2016223543A JP2016223543A JP6327320B2 JP 6327320 B2 JP6327320 B2 JP 6327320B2 JP 2016223543 A JP2016223543 A JP 2016223543A JP 2016223543 A JP2016223543 A JP 2016223543A JP 6327320 B2 JP6327320 B2 JP 6327320B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
light emitting
emitting element
light
optical module
monitor
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2016223543A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2018082059A (ja
Inventor
村上 朱実
朱実 村上
純一朗 早川
純一朗 早川
中山 秀生
秀生 中山
勤 大塚
勤 大塚
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujifilm Business Innovation Corp
Original Assignee
Fuji Xerox Co Ltd
Fujifilm Business Innovation Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Fuji Xerox Co Ltd, Fujifilm Business Innovation Corp filed Critical Fuji Xerox Co Ltd
Priority to JP2016223543A priority Critical patent/JP6327320B2/ja
Priority to US15/727,098 priority patent/US10484087B2/en
Priority to CN201711088528.9A priority patent/CN108075827B/zh
Application granted granted Critical
Publication of JP6327320B2 publication Critical patent/JP6327320B2/ja
Publication of JP2018082059A publication Critical patent/JP2018082059A/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H04ELECTRIC COMMUNICATION TECHNIQUE
    • H04BTRANSMISSION
    • H04B10/00Transmission systems employing electromagnetic waves other than radio-waves, e.g. infrared, visible or ultraviolet light, or employing corpuscular radiation, e.g. quantum communication
    • H04B10/07Arrangements for monitoring or testing transmission systems; Arrangements for fault measurement of transmission systems
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S5/00Semiconductor lasers
    • H01S5/0014Measuring characteristics or properties thereof
    • H01S5/0021Degradation or life time measurements
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S5/00Semiconductor lasers
    • H01S5/06Arrangements for controlling the laser output parameters, e.g. by operating on the active medium
    • H01S5/062Arrangements for controlling the laser output parameters, e.g. by operating on the active medium by varying the potential of the electrodes
    • H01S5/0625Arrangements for controlling the laser output parameters, e.g. by operating on the active medium by varying the potential of the electrodes in multi-section lasers
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S5/00Semiconductor lasers
    • H01S5/40Arrangement of two or more semiconductor lasers, not provided for in groups H01S5/02 - H01S5/30
    • H01S5/42Arrays of surface emitting lasers
    • H01S5/423Arrays of surface emitting lasers having a vertical cavity
    • HELECTRICITY
    • H04ELECTRIC COMMUNICATION TECHNIQUE
    • H04BTRANSMISSION
    • H04B10/00Transmission systems employing electromagnetic waves other than radio-waves, e.g. infrared, visible or ultraviolet light, or employing corpuscular radiation, e.g. quantum communication
    • H04B10/07Arrangements for monitoring or testing transmission systems; Arrangements for fault measurement of transmission systems
    • H04B10/075Arrangements for monitoring or testing transmission systems; Arrangements for fault measurement of transmission systems using an in-service signal
    • H04B10/079Arrangements for monitoring or testing transmission systems; Arrangements for fault measurement of transmission systems using an in-service signal using measurements of the data signal
    • HELECTRICITY
    • H04ELECTRIC COMMUNICATION TECHNIQUE
    • H04BTRANSMISSION
    • H04B10/00Transmission systems employing electromagnetic waves other than radio-waves, e.g. infrared, visible or ultraviolet light, or employing corpuscular radiation, e.g. quantum communication
    • H04B10/07Arrangements for monitoring or testing transmission systems; Arrangements for fault measurement of transmission systems
    • H04B10/075Arrangements for monitoring or testing transmission systems; Arrangements for fault measurement of transmission systems using an in-service signal
    • H04B10/079Arrangements for monitoring or testing transmission systems; Arrangements for fault measurement of transmission systems using an in-service signal using measurements of the data signal
    • H04B10/0799Monitoring line transmitter or line receiver equipment
    • HELECTRICITY
    • H04ELECTRIC COMMUNICATION TECHNIQUE
    • H04BTRANSMISSION
    • H04B10/00Transmission systems employing electromagnetic waves other than radio-waves, e.g. infrared, visible or ultraviolet light, or employing corpuscular radiation, e.g. quantum communication
    • H04B10/25Arrangements specific to fibre transmission
    • H04B10/2507Arrangements specific to fibre transmission for the reduction or elimination of distortion or dispersion
    • HELECTRICITY
    • H04ELECTRIC COMMUNICATION TECHNIQUE
    • H04BTRANSMISSION
    • H04B10/00Transmission systems employing electromagnetic waves other than radio-waves, e.g. infrared, visible or ultraviolet light, or employing corpuscular radiation, e.g. quantum communication
    • H04B10/40Transceivers
    • HELECTRICITY
    • H04ELECTRIC COMMUNICATION TECHNIQUE
    • H04BTRANSMISSION
    • H04B10/00Transmission systems employing electromagnetic waves other than radio-waves, e.g. infrared, visible or ultraviolet light, or employing corpuscular radiation, e.g. quantum communication
    • H04B10/50Transmitters
    • HELECTRICITY
    • H04ELECTRIC COMMUNICATION TECHNIQUE
    • H04BTRANSMISSION
    • H04B10/00Transmission systems employing electromagnetic waves other than radio-waves, e.g. infrared, visible or ultraviolet light, or employing corpuscular radiation, e.g. quantum communication
    • H04B10/60Receivers
    • H04B10/66Non-coherent receivers, e.g. using direct detection
    • HELECTRICITY
    • H04ELECTRIC COMMUNICATION TECHNIQUE
    • H04BTRANSMISSION
    • H04B10/00Transmission systems employing electromagnetic waves other than radio-waves, e.g. infrared, visible or ultraviolet light, or employing corpuscular radiation, e.g. quantum communication
    • H04B10/80Optical aspects relating to the use of optical transmission for specific applications, not provided for in groups H04B10/03 - H04B10/70, e.g. optical power feeding or optical transmission through water
    • H04B10/801Optical aspects relating to the use of optical transmission for specific applications, not provided for in groups H04B10/03 - H04B10/70, e.g. optical power feeding or optical transmission through water using optical interconnects, e.g. light coupled isolators, circuit board interconnections
    • HELECTRICITY
    • H04ELECTRIC COMMUNICATION TECHNIQUE
    • H04LTRANSMISSION OF DIGITAL INFORMATION, e.g. TELEGRAPHIC COMMUNICATION
    • H04L7/00Arrangements for synchronising receiver with transmitter
    • H04L7/0075Arrangements for synchronising receiver with transmitter with photonic or optical means
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S2301/00Functional characteristics
    • H01S2301/17Semiconductor lasers comprising special layers
    • H01S2301/176Specific passivation layers on surfaces other than the emission facet
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S2304/00Special growth methods for semiconductor lasers
    • H01S2304/04MOCVD or MOVPE
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S5/00Semiconductor lasers
    • H01S5/02Structural details or components not essential to laser action
    • H01S5/022Mountings; Housings
    • H01S5/0225Out-coupling of light
    • H01S5/02257Out-coupling of light using windows, e.g. specially adapted for back-reflecting light to a detector inside the housing
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S5/00Semiconductor lasers
    • H01S5/02Structural details or components not essential to laser action
    • H01S5/022Mountings; Housings
    • H01S5/023Mount members, e.g. sub-mount members
    • H01S5/02325Mechanically integrated components on mount members or optical micro-benches
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S5/00Semiconductor lasers
    • H01S5/02Structural details or components not essential to laser action
    • H01S5/022Mountings; Housings
    • H01S5/0233Mounting configuration of laser chips
    • H01S5/02345Wire-bonding
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S5/00Semiconductor lasers
    • H01S5/02Structural details or components not essential to laser action
    • H01S5/026Monolithically integrated components, e.g. waveguides, monitoring photo-detectors, drivers
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S5/00Semiconductor lasers
    • H01S5/02Structural details or components not essential to laser action
    • H01S5/028Coatings ; Treatment of the laser facets, e.g. etching, passivation layers or reflecting layers
    • H01S5/0282Passivation layers or treatments
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S5/00Semiconductor lasers
    • H01S5/06Arrangements for controlling the laser output parameters, e.g. by operating on the active medium
    • H01S5/068Stabilisation of laser output parameters
    • H01S5/0683Stabilisation of laser output parameters by monitoring the optical output parameters
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S5/00Semiconductor lasers
    • H01S5/10Construction or shape of the optical resonator, e.g. extended or external cavity, coupled cavities, bent-guide, varying width, thickness or composition of the active region
    • H01S5/18Surface-emitting [SE] lasers, e.g. having both horizontal and vertical cavities
    • H01S5/183Surface-emitting [SE] lasers, e.g. having both horizontal and vertical cavities having only vertical cavities, e.g. vertical cavity surface-emitting lasers [VCSEL]
    • H01S5/18308Surface-emitting [SE] lasers, e.g. having both horizontal and vertical cavities having only vertical cavities, e.g. vertical cavity surface-emitting lasers [VCSEL] having a special structure for lateral current or light confinement
    • H01S5/18311Surface-emitting [SE] lasers, e.g. having both horizontal and vertical cavities having only vertical cavities, e.g. vertical cavity surface-emitting lasers [VCSEL] having a special structure for lateral current or light confinement using selective oxidation
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S5/00Semiconductor lasers
    • H01S5/30Structure or shape of the active region; Materials used for the active region
    • H01S5/34Structure or shape of the active region; Materials used for the active region comprising quantum well or superlattice structures, e.g. single quantum well [SQW] lasers, multiple quantum well [MQW] lasers or graded index separate confinement heterostructure [GRINSCH] lasers
    • H01S5/343Structure or shape of the active region; Materials used for the active region comprising quantum well or superlattice structures, e.g. single quantum well [SQW] lasers, multiple quantum well [MQW] lasers or graded index separate confinement heterostructure [GRINSCH] lasers in AIIIBV compounds, e.g. AlGaAs-laser, InP-based laser
    • H01S5/34313Structure or shape of the active region; Materials used for the active region comprising quantum well or superlattice structures, e.g. single quantum well [SQW] lasers, multiple quantum well [MQW] lasers or graded index separate confinement heterostructure [GRINSCH] lasers in AIIIBV compounds, e.g. AlGaAs-laser, InP-based laser with a well layer having only As as V-compound, e.g. AlGaAs, InGaAs
    • HELECTRICITY
    • H04ELECTRIC COMMUNICATION TECHNIQUE
    • H04BTRANSMISSION
    • H04B2210/00Indexing scheme relating to optical transmission systems
    • H04B2210/07Monitoring an optical transmission system using a supervisory signal

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Electromagnetism (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Computer Networks & Wireless Communication (AREA)
  • Signal Processing (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Semiconductor Lasers (AREA)
  • Optical Communication System (AREA)

Description

本発明は、光伝送装置に関する。
特許文献1には、入力データに基づき光信号を出力する発光素子を有する光送信器および伝送された光信号を受信して電気信号に変換する受光素子を有する光受信器を備える光通信システムにおいて、光送信器の発光素子の出力光をモニタする受光素子を設け、該受光素子のモニタ信号の立ち上がり又は立ち下がり時間を検出して光送信器の出力波形の劣化を検出する出力波形劣化検出回路を備えることを特徴とする光通信システムが開示されている。特許文献1に開示された光通信システムでは、光通信システムの光送信器の発光素子であるレーザダイオードの出力波形が劣化して光受信器の誤動作を生ずる前に、出力波形の劣化を検出して予告警告する。
特開2002−368694号公報
本発明は、同一の寿命を有する発光素子のみで構成された場合と比較し、発光素子の寿命が近づいていることを、より早期に検出することが可能な光伝送装置を提供することを目的とする。
上記の目的を達成するために、請求項1に記載の光伝送装置は、光を出射する第1の発光素子と、前記第1の発光素子と並列に接続されるとともに、前記第1の発光素子よりも早く劣化するよう構成された、光を出射する第2の発光素子と、前記第2の発光素子が劣化したことを検知する検知部と、を備えるものである。
また、請求項2に記載の発明は、請求項1に記載の発明において、前記第1の発光素子および前記第2の発光素子から出射される光を受光する受光部と、前記受光部が受光した受光量に基づき、前記第1の発光素子および前記第2の発光素子から出射される光の光量が一定になるように前記第1の発光素子および前記第2の発光素子を駆動する駆動部と、をさらに有し、前記検知部は、前記駆動部から前記第1の発光素子および前記第2の発光素子に出力される電流または電圧の値が、予め定めた範囲を外れた場合に前記第2の発光素子が劣化したことを検知するものである。
また、請求項3に記載の発明は、請求項1に記載の発明において、前記第1の発光素子および前記第2の発光素子から出射される光を受光する受光部と、前記第1の発光素子および前記第2の発光素子を、定電圧駆動または定電流駆動する駆動部と、をさらに有し、 前記検知部は、前記受光部で受光する光量が、予め定めた範囲を外れた場合に前記第2の発光素子が劣化したことを検知するものである。
また、請求項4に記載の発明は、請求項1〜請求項3のいずれか1項に記載の発明において、前記第1の発光素子の数が前記第2の発光素子の数より多いものである。
また、請求項5に記載の発明は、請求項1〜請求項4のいずれか1項に記載の発明において、前記第1の発光素子および前記第2の発光素子は電流狭窄構造を有し、前記第1の発光素子の電流狭窄径よりも前記第2の発光素子の電流狭窄径の方が小さいものである。
また、請求項6に記載の発明は、請求項1〜請求項5のいずれか1項に記載の発明において、前記第1の発光素子および前記第2の発光素子は同一の形状を有するとともに、それぞれの周囲に絶縁膜が設けられ、前記第1の発光素子の周囲の前記絶縁膜と、前記第2の発光素子の周囲の前記絶縁膜とは、厚み、面積、形状の少なくとも1つが異なるものである。
また、請求項7に記載の発明は、請求項1〜請求項6のいずれか1項に記載の発明において、前記第2の発光素子よりも早く劣化するよう構成された第3の発光素子をさらに有し、前記検知部は、前記第2の発光素子および前記第3の発光素子が劣化したことをそれぞれ検知するものである。
また、請求項8に記載の発明は、請求項1〜請求項7のいずれか1項に記載の発明において、前記検知部で前記第2の発光素子が劣化したことが検知された場合に報知を行う報知部を有するものである。
請求項1に記載の発明によれば、同一の寿命を有する発光素子のみで構成された場合と比較し、発光素子の寿命が近づいていることが、より早期に検出される、という効果を奏する。
請求項2に記載の発明によれば、APC駆動された光伝送装置においても、発光素子の寿命が近づいていることが、より早期に検出される、という効果を奏する。
請求項3に記載の発明によれば、定電流駆動または定電圧駆動された光伝送装置においても、発光素子の寿命が近づいていることが、より早期に検出される、という効果を奏する。
請求項4に記載の発明によれば、第1の発光素子の数が第2の発光素子の数より少ない場合と比較して、第2の発光素子が劣化したことが検知されてから第1の発光素子の寿命に達するまでの時間が長くなる、という効果を奏する。
請求項5に記載の発明によれば、第1の発光素子の電流狭窄径と第2の発光素子の電流狭窄径とが同じ場合と比較して、第1の発光素子の寿命よりも第2の発光素子の寿命の方が短くなる、という効果を奏する。
請求項6に係る発明によれば、第1の発光素子と第2の発光素子とで、厚み、面積、形状が同じ絶縁膜を用いる場合と比較して、第1の発光素子の寿命よりも第2の発光素子の寿命の方が短くなる、という効果を奏する。
請求項7に記載の発明によれば、第3の発光素子を有さない場合と比較して、劣化の検知が段階的に行われる、という効果を奏する。
請求項8に記載の発明によれば、第1の発光素子の寿命が近づいていることが報知される、という効果を奏する。
(a)は実施の形態に係る光モジュールの構成の一例を示す断面図、(b)は平面図である。 (a)は寿命の異なる発光部の光出力の経時変化を示すグラフ、(b)〜(f)は寿命の異なる発光部がさまざまな形態で配置された光モジュールの平面図である。 (a)は同じ寿命の発光部が配置された光モジュールの光出力の経時変化を示すグラフ、(b)は光モジュールの平面図、(c)は実施の形態に係る光モジュールの光出力の経時変化を示すグラフ、(d)は光モジュールの平面図である。 (a)は第1の実施の形態に係る光モジュールの駆動部を示す回路図、(b)は光出力の経時変化を示すグラフ、(c)は駆動電流の経時変化を示すグラフである。 (a)は第1の実施の形態に係る光モジュールの初期設定処理の流れを示すフローチャート、(b)は駆動制御処理の流れを示すフローチャートである。 (a)〜(f)は、実施の形態に係る光モジュールの製造方法の一例を示す断面図である。 (a)は第2の実施の形態に係る光モジュールの駆動部を示す回路図、(b)はモニタ電流の経時変化を示すグラフである。 (a)は第2の実施の形態に係る光モジュールの初期設定処理の流れを示すフローチャート、(b)は駆動制御処理の流れを示すフローチャートである。 (a)は第3の実施の形態に係る光伝送装置の構成の一例を示す平面図、(b)は断面図である。 (a)は、第3の実施の形態に係る光伝送装置における光モジュールと光ファイバとの結合状態を示す側面図、(b)は平面図である。
以下、図面を参照して、本発明を実施するための形態について詳細に説明する。
[第1の実施の形態]
図1を参照して、本実施の形態に係る光モジュール10の構成の一例について説明する。本実施の形態では、本発明に係る光モジュールに面発光型半導体レーザ(VCSEL:Vertical Cavity Surface Emitting Laser)アレイを適用した形態を例示して説明する。図1(a)は本実施の形態に係る光モジュール10の断面図であり、図1(b)は光モジュール10の平面図である。図1(a)に示す断面図は、図1(b)に示す平面図においてA−A’で切断した断面図である。なお、本実施の形態に係る光モジュール10は、VCSELアレイを駆動する駆動部を含む場合もあるが、図1では該駆動部を含まない形態を例示している。また、本実施の形態においては、VCSELアレイを構成する複数のVCSEL素子は主として光モジュール10からの出射光の冗長性確保のために用いられている。すなわち、各々のVCSEL素子は、単一のVCSEL素子として通信を行うのに必要な光量を出力できる定格を有し、1つのVCSEL素子が外部からのサージ電圧等で損傷した場合であっても正常な通信が維持できるよう、互いに並列に接続された複数のVCSEL素子によってVCSELアレイを構成することで冗長性を確保している。
図1(a)に示すように、光モジュール10は、n側電極配線30、n型のGaAs(ガリウムヒ素)の基板12上に形成されたn型の下部DBR(Distributed Bragg Reflector)14、活性層領域16、酸化狭窄層26、p型の上部DBR18、層間絶縁膜20、およびp側電極配線22を含む積層構造体として構成されている。
図1(b)に示すように、光モジュール10は、発光領域40、およびp側電極パッド28を備えている。
発光領域40は、複数の発光部を含んでVCSELアレイとして構成された領域である。本実施の形態では、一例として、メサ状に形成された4つの発光部50−1、50−2、50−3、50−4(以下、総称する場合は「発光部50」)を含み、各発光部の出射口を除く領域がp側電極配線22によって覆われることで各発光部が互いに電気的に並列に接続されている。p側電極パッド28は、p側電極配線22を介して発光領域40に電流を供給する電源を接続する際に、該電源の正極を接続するパッドである。なお、該電源の負極は基板12の裏面に形成されたn側電極配線30に接続される。以上の構成により、VCSELアレイに電源が供給されると各発光部からほぼ同時に光が出射される。
基板12上に形成されたn型の下部DBR14は、光モジュール10の発振波長をλ、媒質(半導体層)の屈折率をnとした場合に、膜厚がそれぞれ0.25λ/nとされかつ屈折率の互いに異なる2つの半導体層を交互に繰り返し積層して構成される多層膜反射鏡である。
下部DBR14上に形成された活性層領域16は、発光部50から出射される光を生成する部位であり、下部DBR14上にこの順で形成された下部スペーサ114、量子井戸活性層116、上部スペーサ118(図6参照)を含んで構成されている。
本実施の形態に係る量子井戸活性層116は、例えば、4層のGaAs層からなる障壁層と、その間に設けられた3層のInGaAsからなる量子井戸層と、で構成されてもよい。なお、下部スペーサ114、上部スペーサ118は、各々量子井戸活性層116と下部DBR14との間、量子井戸活性層116と上部DBR18との間に配置されることにより、共振器の長さを調整する機能とともに、キャリアを閉じ込めるためのクラッド層としての機能も有している。
活性層領域16上に設けられたp型の酸化狭窄層26は電流狭窄層であり、非酸化領域26a及び酸化領域26bを含んで構成されている。p側電極パッド28からn側電極配線30に向かって流れる電流は、非酸化領域26aによって絞られる。
酸化狭窄層26上に形成された上部DBR18は、膜厚がそれぞれ0.25λ/nとされかつ屈折率の互いに異なる2つの半導体層を交互に繰り返し積層して構成される多層膜反射鏡である。
上部DBR18上には、光の出射面を保護する出射面保護層24が設けられている。出射面保護層24は、一例としてシリコン窒化膜を着膜して形成される。
図1(a)、(b)に示すように、発光部50のメサを含む半導体層の周囲は無機絶縁膜としての層間絶縁膜20が着膜されている。該層間絶縁膜20はp側電極配線22、p側電極パッド28の下部に配置されている。本実施の形態に係る層間絶縁膜20は、一例として、シリコン窒化膜(SiN膜)で形成されている。なお、層間絶縁膜20の材料はシリコン窒化膜に限らず、例えば、シリコン酸化膜(SiO膜)、あるいはシリコン酸窒化膜(SiON膜)等であてもよい。
図1(a)に示すように、p側電極配線22は層間絶縁膜20の開口部を介して上部DBR18に接続されている。上部DBR18の最上層には、p側電極配線22との接続のためのコンタクト層124(図6参照)が設けられており、コンタクト層124を介してp側電極配線22の一端側が上部DBR18に接続され、上部DBR18との間でオーミック性接触を形成している。
ところで、上記の光モジュール10の発光部50を構成するVCSELは、基板に垂直な方向にレーザ出力を取り出せ、さらに2次元集積によるアレイ化が容易であることなどから、例えば光通信用光源として好適に利用されている。
光モジュールは、半導体基板(基板12)上に設けられた一対の分布ブラッグ反射器(下部DBR14及び上部DBR18)、一対の分布ブラッグ反射器の間に設けられた活性層領域(活性層領域16)を備えて構成されている。そして、分布ブラッグ反射器の両側に設けられた電極(p側電極配線22及びn側電極配線30)により活性層領域へ電流を注入し、基板面に対して垂直にレーザ発振を生じさせ、素子の上部(出射面保護層24の面側)から発振した光を出射させる構成となっている。
また、低閾値電流化、横モードの制御性等の観点から組成にAlを含む半導体層を酸化して形成される酸化狭窄層(酸化狭窄層26)を備えており、このAlを含む半導体層を酸化するために、素子はメサ形状にエッチング加工され、酸化処理が施される。その後、エッチング加工により露出したメサ形状の側面やエッチングされた半導体表面は、シリコン窒化膜やシリコン酸化膜などの絶縁材料によって覆われるのが一般的である。
一方、VCSEL等の半導体レーザ、あるいは一般的にLED(Light Emitting Diode:発光ダイオード)等も含めた発光素子には固有の寿命が存在する。発光素子を用いた光通信システム等の機器において、該発光素子が寿命に近づいた場合には、重大な障害が発生する前に交換する必要がある。そのために発光素子を常時監視し、発光素子の劣化を検出する必要がある。発光素子は光出力を一定にするために定電流駆動(あるいは、定電圧駆動)される場合があるが、このような駆動方式における発光素子の劣化の検出は、例えば該発光素子の光出力を監視し、光出力が予め定められた閾値未満になったことをもって行う。
一方、VCSELに限らず半導体レーザにおいては、温度変動や、電源変動等に伴って光出力が変動しないように安定化させることが求められる場合があり、その安定化の一方式としてAPC(Automatic Power Control)方式がある。APC方式とは、半導体レーザの光出力をモニタPD(Photo Diode)等によってモニタ電流として検出し、検出されたモニタ電流を基準値と比較して差分値を求め、この差分値を用いて駆動電流を変え半導体レーザの光出力を負帰還制御する方式である。
APC方式で半導体レーザの光出力を一定に制御したとしても、半導体レーザが経時的に劣化すると半導体レーザの駆動電流が上昇し、制御しきれなくなる。従って、発光素子を含む機器においてAPC制御方式を用いている場合には、例えば発光素子の駆動電流が予め定められた閾値を越えたことをもって発光素子の劣化を検出する。
発光素子の駆動方式が定電流(定電圧)駆動方式であっても、APC駆動方式であっても、発光素子の劣化が検出された場合には、当該発光素子が搭載された機器のユーザに対し当該発光素子を含む部品等の交換を促す必要がある。しかしながら、交換を促すために発光素子の劣化を検出する構成を有する光モジュールでは、当該発光素子が使用不能となる間際で劣化を検出した場合、交換までの時間が限られるので、ユーザの利便性を損なうことが想定される。
そこで、本実施に形態に係る光モジュール10では、本来の発光機能を有する第1の発光素子に加え、より早く劣化する第2の発光素子を第1の発光素子と並列に接続し、かつ第2の発光素子の劣化を検出できるようにした。このことにより、第2の発光素子の劣化を検出してユーザに交換を促すように構成されるので、交換までの時間に余裕が生ずる。
図2および図3を参照して、本実施の形態に係る光モジュール10における劣化の検出方法について説明する。光モジュール10は、寿命の短い発光部50を含む複数の発光部50を有している。すなわち、搭載機器において通常の発光動作を行う発光部50(以下、「通常発光部50n」という場合がある)の他に、通常発光部50nより寿命が短く通常発光部50nの劣化を監視する発光部50(以下、「モニタ発光部50m」という場合がある)を有している。
まず、図2を参照して、寿命の異なる発光部50を有する光モジュール10の光出力の経時変化について説明する。図2(a)は寿命の異なる3つの発光部である、発光部A、発光部B、発光部Cの光出力の経時変化を示している。発光部A、発光部B、発光部Cの寿命はこの順で長いものとし、図2(a)では、発光部Aの光出力の経時変化を曲線PAで、発光部Bの光出力の経時変化を曲線PBで、発光部Cの光出力の経時変化を曲線PCで、各々表している。なお、図2(a)では、各々の発光部の光出力の初期値を1で規格化している。本実施の形態では、発光部Aを通常発光部50nとし、発光部Bおよび発光部Cをモニタ発光部50mとしている。なお、通常発光部50nを構成する発光部Aは、単一の発光部Aまたは複数の発光部Aとして、光モジュール10として必要な光出力を出力できる定格出力を有している。
ここで、複数の発光部AのみでVCSELアレイが構成されている場合、複数の発光部Aは同じ時期に寿命が到来することになり、光モジュール10のこれ以上の使用は困難となる。そして、曲線PAで示された光出力に基づく劣化を検出することによって、ユーザに光モジュール10の交換を促そうとしても、発光部Aの劣化を検出した時点では使用困難になるまでの期間が短く、ユーザによっては使用困難になる前に交換を行うことが渡過されてしまうことも想定される。
そこで、本実施の形態に係る光モジュール10では、発光部Aよりも寿命が短い発光部Bおよび発光部Cをモニタ発光部50mとして設けるとともに、発光部B、あるいは発光部Cの劣化を検出することで、光モジュール10としての寿命が近づいていることを把握する。そして、ユーザに対して光モジュール10の交換等を促す報知を光モジュール10の寿命に達してしまう前に行う(以下、「アラートを発出する」という場合がある)ようにしている。図2(a)に示すように、発光部Bは発光部Aより期間t2だけ寿命が短く、発光部Cは発光部Bより期間t1だけ寿命が短く設定されている。つまり、発光部Cは発光部Aより期間(t1+t2)だけ寿命が短く設定されている。期間t1、t2については特に限定されないが、ユーザによる光モジュール10の交換までの期間に余裕をもたせることができればよいので、例えば1ヶ月から2ヶ月程度とすればよい。このように、本実施の形態に係る光モジュール10では、モニタ発光部50mによって通常発光部50nの劣化よりも早く劣化を検出している。
以下で説明するように、モニタ発光部50mは発光部Bだけ、発光部Cだけ配置してもよいし、発光部Bおよび発光部Cの両方を配置してもよい。また、発光部Cよりさらに寿命の短い発光部を配置してもよい。複数の寿命のモニタ発光部50mを配置することにより、段階的なアラートが発出される。
図2(b)〜(f)は、光モジュール10の発光領域40における通常発光部50n、モニタ発光部50mの配置の一例を示している。本実施の形態において、通常発光部50n、モニタ発光部50mの配置については特に限定されないが、図2(b)〜図2(f)では、後述する光伝送装置200への適用を考慮し、光ファイバへの結合を想定した配置の一例を示している。
図2(b)は、通常発光部50nである発光部Aを3個(発光部50−1、50−2、50−3)、モニタ発光部50mである発光部B(発光部50−4)を1個、合計4個の発光部を配置する形態である。なお、以下では発光部Aに対して、発光部B、Cを小さく表しているが、これは寿命の長短を模式化したもので、必ずしも実際の物理的な大きさが小さいわけではない。
図2(c)は、通常発光部50nである発光部Aを2個(発光部50−1、50−4)、モニタ発光部50mである発光部B(発光部50−2)を1個、モニタ発光部50mである発光部C(発光部50−3)を1個、合計4個の発光部を配置する形態である。本配置形態によれば、発光部Cによるアラートの発出後に発光部Bによるアラートが発出されるので、アラートが段階的に発出される。
図2(d)は、通常発光部50nである発光部Aを2個(発光部50−3、50−4)、モニタ発光部50mである発光部B(発光部50−2)を1個、モニタ発光部50mである発光部C(発光部50−1)を1個、合計4個の発光部を配置する形態である。本配置形態によれば、アラートが段階的に発出される。
図2(e)は、通常発光部50nである発光部Aを4個(発光部50−1、50−2、50−3、50−4)、モニタ発光部50mである発光部B(発光部50−5)を1個、合計5個の発光部を配置する形態である。図2(f)は、通常発光部50nである発光部Aを3個(発光部50−2、50−3、50−4)、モニタ発光部50mである発光部C(発光部50−1)を1個、合計4個の発光部を配置する形態である。
以上の形態において、通常発光部50nの個数とモニタ発光部50mの個数との関係について特に制限はないが、通常発光部50nの個数をモニタ発光部50mの個数より多くすることにより、通常発光部50nの個数がモニタ発光部50mの個数より少ない場合と比較して、モニタ発光部50mが劣化したことが検知されてから通常発光部50nの寿命に達するまでの時間(発光モジュールの寿命に達するまでの時間)が長くなる。すなわち、APC制御方式においては、モニタ発光部50mが先に寿命に達した後は残りの通常発光部50nのみで同じ光量を発光することになるため、通常発光部50nの数が多いほど通常発光部50n1個あたりの光量増加分が少なくて済む。よって、通常発光部50nの数が多いほど、光量増加分による発熱等が抑制され、通常発光部50nの寿命に達するまでの時間が長くなる。その結果、交換を促す報知を行ってから発光モジュールの寿命に達するまでの時間、つまり、交換までの猶予期間に余裕が生まれる。
次に、図3を参照して、比較例に係る光モジュールと比較した場合の、本実施の形態に係る光モジュール10のアラートの発出タイミングについて説明する。
図3(b)は、通常発光部50nである発光部A(発光部50−1〜50−4)だけ4個配置した比較例に係る光モジュール90の平面図を示しており、図3(a)は、光モジュール90の光出力の経時変化を示している。曲線PAは1個の発光部Aの、初期値を1に規格化した光出力の経時変化を示している。一方曲線Ptは4個の発光部A、すなわち光モジュール90の光出力の経時変化を示している。曲線Ptで表された光出力の初期値は、発光部A4個分である4である。この際、光出力3.3程度でアラートを発出するとすれば、比較例に係る光モジュール90は時間ta2でアラートを発出する。一方、光モジュール90で最低限要求される光出力(寿命が到来したと判断される光出力)を、図3(a)に示すように光出力下限値Pminとすると、交換まで猶予された期間は期間tm2(以下、「交換猶予期間」)である。
一方、図3(d)は、発光部Aを3個(発光部50−1、50−3、50−4)、発光部Cを1個(発光部50−2)備えた本実施の形態に係る光モジュール10を示している。図3(c)は、光モジュール10の光出力の経時変化を示している。図3(c)における曲線PAは、図3(a)に示す曲線PAと同じ曲線で、発光部A1個の場合の光出力の経時変化を示している。これに対し曲線PCは、モニタ発光部50mである発光部C1個の光出力の経時変化を示している。図3(c)に示すように、発光部Cは発光部Aより早く劣化し、光出力が低下する。
図3(c)の曲線Ptは、光モジュール10の光出力の経時変化、すなわち、3個の発光部A、および1個の発光部Cの合計光出力の経時変化を示している。図3(c)に示すように、光モジュール10の光出力は、発光部Cが存在することによって、比較例に係る光モジュール90より光出力が早く低下する。ここで、図3(a)と同様に、アラート発出の光出力を3.3、寿命が到来したと判断される光出力を光出力下限値Pminとすると、光モジュール10の場合の交換までに猶予される期間は交換猶予期間tm1となる。図3(a)、(c)から明らかなように、tm1>tm2であり、本実施の形態に係る光モジュール10によれば、比較例に係る光モジュール90と比較して、交換猶予期間が拡大される。
次に、図4および図5を参照して、本実施の形態に係る光モジュール10における劣化の検出方法について説明する。なお、本実施の形態に係る光モジュール10では、発光領域40の駆動方式としてAPC駆動を採用している。
図4(a)は、光モジュール10に発光領域40の駆動回路を付加して構成された、本実施の形態に係る光モジュール10aの回路図を示している。図4(a)に示すように、光モジュール10aは、光モジュール10としての通常発光部50nおよびモニタ発光部50mを含む発光領域40a、モニタPD62、およびAPC駆動部60を含んで構成されている。通常発光部50nのアノード(p側電極パッド28)、モニタ発光部50mのアノード(p側電極パッド28)、およびモニタPD62のカソードは電源VDDに接続されている。なお、APC駆動部60は、光モジュール10とモノリシックに一体的に形成してもよいし、光モジュール10とは別の半導体素子で形成し、両者をボンディングワイヤ等で接続するようにしてもよい。
光モジュール10aの発光領域40aは図3(d)に示す発光領域40と同じ構成を採用している。すなわち、通常発光部50nとしての発光部Aを3個(図4(a)では、代表して1個のみ示している)、モニタ発光部50mとしての発光部Cを1個を配置して構成されている。なお、本実施の形態において、通常発光部50n、モニタ発光部50mの各々の個数は特に限定されず、少なくとも各々1個ずつ配置されていればよい。
APC駆動部60は、発光領域40aをAPC方式で駆動する駆動回路である。すなわち、発光領域40a(通常発光部50nおよびモニタ発光部50m)から出射される光出力PoをモニタPD62で受光し、モニタPD62で発生した、光出力Poに応じたモニタ電流ImをAPC駆動部60に入力させる。APC駆動部60はモニタ電流Imを電圧信号に変換し、該電圧信号と光出力Poの目標値を示す基準電圧との差分によって発光領域40aに流す駆動電流Idを制御する。
パワーモニタ部68は、例えば、電流電圧変換回路を含んで構成され、発光領域40aに流れる駆動電流Idを電圧信号に変換することによって、駆動電流Idの大きさを電圧信号として検出する。そして、検出した電圧信号を制御部70に伝達する。
制御部70は、ハードウエアやソフトウエアで構成され、駆動電流Idの大きさを表す電圧信号に基づき、光モジュール10aの劣化を検出する。すなわち、制御部70は、パワーモニタ部68とともに、光モジュール10aに含まれるモニタ発光部50mが劣化したことを検知する検知部として機能する。
図4(a)に示すように、光モジュール10aでは、発光領域40aを構成する通常発光部50nおよびモニタ発光部50mは並列に接続し、合計4個の発光部50に一括して駆動電流Idを流している。従って、モニタPD62は、4個の発光部50から出射された出射光が合成された光出力Poを受光している。なお、APC駆動部60には、光モジュール10aの光出力Poを変調する変調信号(図示省略。例えば、後述する光伝送装置の伝送データ信号)も入力されるので、駆動電流Idは、発光領域40aをバイアスするバイアス電流と伝送データ信号の電流とが合計された電流となる。
図4(b)は、発光領域40から出射された光出力Poの経時変化を、曲線Ptで示している。光モジュール10aではAPC制御を採用しているので、光出力Poは図4(b)に示すように略一定の値で推移する。その際、個々の発光部50の光出力の経時変化をみると、図4(b)の曲線PAで示すように、寿命が比較的長い発光部Aは略一定の経時変化をしめす。これに対し、寿命の短い発光部Cは途中で劣化するので光出力が途中で低下している。しかしながら、光モジュール10aではAPC制御方式を採用しているので、発光部Cの光出力の低下にもかかわらず、曲線Ptで示すように光出力は低下せず、略一定の値を示している。
図4(c)は、光モジュール10aの駆動電流Idの経時変化を示している。図4(c)に示すように、光モジュール10aの駆動電流Idはモニタ電流初期値Idiから始まって一定の期間、略一定の値を示す。しかしながら、発光部50の劣化に伴い光出力Poを一定に維持するため駆動電流Idが増加する。発光部50の劣化は、通常発光部50nの劣化に起因する場合もあるが、主としてモニタ発光部50mの劣化に起因する。光モジュール10aでは、この駆動電流Idの増加を監視することによって発光領域40aの劣化を監視する。
光モジュール10aでは、通常発光部50nの劣化によって光モジュール10aの使用が困難になる以前にモニタ発光部50mによって劣化の兆候を検出しアラートを発出する。このことにより、ユーザによる交換までの時間的余裕が増大する。図4(c)では、アラートを発出する駆動電流Idの値を駆動電流アラート値Idaltで示し、駆動電流アラート値Idaltに対応する時間taltでアラートを発出している。つまり、駆動電流Idが駆動電流アラート値Idalt以下であれば光モジュール10aの劣化は検出されず、駆動電流Idが駆動電流アラート値を越えた場合に劣化が検出される。
次に、図5を参照して、光モジュール10aの駆動制御方法について説明する。図5(a)は、光モジュール10aの駆動電流Idの初期値である駆動電流初期値Idi、およびモニタ電流Imの初期値であるモニタ電流初期値Imiを設定するための初期値設定処理の流れを示すフローチャートであり、例えば、製品の出荷前に製造業者によって予め実行される。図5(b)は光モジュール10aの運用状態において駆動電流を制御する駆動制御処理の流れを示すフローチャートであり、主として、ユーザが光モジュール10aを使用している期間に実行される処理である。
図5(a)を参照して、本実施の形態に係る初期値設定処理について説明する。
まず、ステップS100において、光モジュール10aの発光領域40a(通常発光部50n、モニタ発光部50m)に駆動電流Idを供給する。
次のステップS102で、光出力Poが規定値の範囲内か否か、すなわち光出力Poが初期設定値の範囲内か否かについて判定する。初期設定値は、例えば光モジュール10aの設計条件から設定される。当該判定が肯定判定となった場合にはステップS106に移行し、否定判定となった場合にはステップS104に移行する。
ステップS104では、光出力Poが規定値の範囲内に収まるように駆動電流Idを調整した後、ステップS102に戻り、再度光出力Poが規定値の範囲内か否かを判定する。
ステップS106では、そのときの駆動電流Idを駆動電流初期値Idiとして設定し、制御部70に設けられたRAM(Random Access Memory)等の記憶手段に記憶させる。また、そのときのモニタ電流Imをモニタ電流初期値Imiとして記憶手段に記憶させる。その後、本初期値設定処理を終了する。
次に、図5(b)を参照して、光モジュール10aにおいてアラートが発出されるまでの駆動制御処理について説明する。
まず、ステップS200において、光モジュール10aの発光領域40a(通常発光部50n、モニタ発光部50m)に、駆動電流Idとして、上記初期値設定処理で設定した駆動電流初期値Idiを供給する。
次のステップS202では、モニタ電流Imが規定値の範囲内か、より具体的にはモニタ電流Imがモニタ電流初期値Imiを中心とする予め定められた範囲内にあるか否か判定する。当該判定が否定判定となった場合にはステップS204に移行し、モニタ電流Imが規定値の範囲内に収まるように駆動電流Idを調整した後、ステップS102に戻り、再度モニタ電流Imが規定値の範囲内か否か判定する。なお、ステップS202、S204のループが本実施の形態に係るAPC制御を示している。
一方、ステップS202で肯定判定となった場合にはステップS206に移行し、駆動電流Idが規定値の範囲内か否か、すなわち駆動電流Idが駆動電流アラート値Idaltを越えているか否か判定する。
ステップS206における判定が否定判定となった場合にはステップS202に戻り、再度モニタ電流Imが規定値の範囲内か否か判定する。
一方ステップS206における判定が肯定判定となった場合にはステップS208に移行し、アラートを発出し、その後本駆動制御処理を終了する。なお、アラートを発出した後もAPC制御が継続されることで、光モジュール10aからの発光は維持される。
図5(b)における駆動制御は、制御部70がACP駆動部60等を制御することで実行される。また、ステップS206における駆動電流アラート値Idaltは製造業者等によって予め定められ、制御部70を構成するハードウエアやソフトウエアによってステップS206の判定が行われる。ハードウエアでの判定の場合は、パワーモニタ部68からの駆動電流Idの大きさを表す電圧信号と、駆動電流アラート値Idaltに対応する基準電圧値とをコンパレータ等の比較回路で比較して判定する。一方、ソフトウエアで判定する場合は、ソフトウエアを動作させるCPU等のプロセッサを備え、デジタル信号に変換された駆動電流Idの大きさを表す電圧信号と、制御部70に設けられたRAMに予め記憶された駆動電流アラート値Idaltとをソフトウエア上で比較し判定する。すなわち、制御部70は、パワーモニタ部68とともに、モニタ発光部50mが劣化したことを検知する検知部として機能する。
なお、本実施の形態に係る光モジュール10aでは、図4(c)、および図5(b)に示すように、駆動電流Idに対し駆動電流アラート値Idaltを設定してアラートを発出する形態を例示して説明したが、電流値の異なる駆動電流アラート値Idaltを複数設定して、それぞれの駆動電流アラート値Idaltごとにアラートの通知内容や通知方法を段階的に可変させてもよい。例えば、劣化が進むにつれて、より強く交換を要請するメッセージ等をユーザに報知するようにしてもよい。
次に、図6を参照して、本実施の形態に係る光モジュール10の製造方法について説明する。光モジュール10は、図1(b)に示すように4つの発光部50を備えているが、製造工程としてはすべて同じであるので、以下の説明ではそのうちの1つの発光部50について図示し説明する。なお、図6において図1と符号が異なる同じ名称の構成は、同じ機能を有している。
まず、図6(a)に示すように、有機金属気相成長(MOCVD)法により、n型GaAsによる基板110上に、AlAsとGaAsとをそれぞれの膜厚が媒質内波長λ’(=λ/n)の1/4となるように交互に30周期積層したキャリア濃度1×1018cm-3となるn型の下部DBR112、アンドープAl0.22Ga0.78Asによる下部スぺーサ114とアンドープの量子井戸活性層116(膜厚80nmInGaAs量子井戸層3層と膜厚150nmGaAs障壁層4層とで構成されている)とアンドープAl0.22Ga0.78Asによる上部スぺーサ118とで構成された膜厚が媒質内波長λ’となる活性層領域130、その上に、キャリア濃度1×1018cm-3、膜厚が媒質内波長λ’の1/4となるp型のAlAs層120、その上にAl0.9Ga0.1AsとGaAsとをそれぞれの膜厚が媒質内波長λ’の1/4となるように交互に22周期積層したキャリア濃度1×1018cm-3、総膜厚が約2μmとなるp型の上部DBR122、その上にキャリア濃度1×1019cm-3となる膜厚が媒質内波長λ’のp型のGaAsによるコンタクト層124を順次積層する。
原料ガスとしては、トリメチルガリウム、トリメチルアルミニウム、トリメチルインジウム、アルシン、ドーパント材料としてはp型用にシクロペンタジニウムマグネシウム、n型用にシランを用い、成長時の基板温度は750℃とし、真空を破ることなく、原料ガスを順次変化し、連続して成膜をおこなった。
次に、図6(b)にその形状を示すように、上記積層膜を下部DBR112の途中までエッチングしてメサ126を形成し、AlAs層120側面を露出させる。メサ形状を加工するには、フォトリソグラフィにより結晶成長層上にレジストマスクRを形成し、四塩化炭素をエッチングガスとしてもちいた反応性イオンエッチングを用いた。
その後、レジストマスクRを除去し、図6(c)に示すように、約400℃の炉中で水蒸気によりAlAs層120だけを側方から酸化し高抵抗化させ、酸化領域132と非酸化領域120aとした。非酸化領域120aの径は、一例として約3μmである。この非酸化領域120aが、電流注入領域となる。
その後、図6(d)及び(e)に示すように、SiNによる層間絶縁膜134をメサ126上面を除いて蒸着し、レジストマスクRを利用して、出射口140を除いてTi/Auからなるp側電極配線136を形成する。基板110の裏面にはn側電極配線138としてAu/Geを蒸着する。このようにして、図6(f)に示す光モジュール10が完成する。なお、本実施の形態では酸化により電流狭窄構造を形成する形態を例示して説明したが、これに限られず、イオン注入により電流狭窄構造を形成する形態としてもよい。
次に、本実施の形態において、モニタ発光部50mを作製する方法について説明する。本実施の形態では通常発光部50nを上述した通常の製造工程で製造する。これに対し、モニタ発光部50mは次に示す方法1または方法2のいずれかの方法、または両方法を組み合わせた方法を用い、通常発光部50nに対して寿命が短くなるようにして製造する。
方法1:通常発光部50nにおける酸化アパーチャ径(電流狭窄径)を異ならせる。酸化アパーチャ径とは、略円形である非酸化領域26a(非酸化領域120a)の直径である。酸化アパーチャ径は通常3〜10μm程度とされるが、この直径に対し2μm程度小さい直径の酸化アパーチャ径とする。酸化アパーチャ径は小さいほうが寿命が短い。これは、非酸化領域26aを流れる電流に対する抵抗が大きくなるためモニタ発光部50mでの発熱が増大し、モニタ発光部50mのジャンクション温度が高くなるためである。
方法2:通常発光部50nに対し、発光部にかかる応力が異ならせる。発光部に係る応力を異ならせるための具体的方法としては、例えば、層間絶縁膜20(層間絶縁膜134)の厚み、面積、および形状の少なくとも1つを異らせることが挙げられる。方法2によれば、通常発光部50nとモニタ発光部50mとで酸化アパーチャ径が同じ場合であっても、寿命が異なることになる。なお、具体的にどの程度の厚み、面積、および形状とするかは、モニタ発光部50mの寿命を通常発光部50nよりどの程度短く設定するかを決めた上で、実験またはシミュレーション等により決定すればよい。
[第2の実施の形態]
図7、および図8を参照して、本実施の形態に係る光モジュール10bについて説明する。上記の実施の形態に係る光モジュール10aがAPC駆動方式を採用していたのに対し、光モジュール10bでは定電流駆動方式を採用している。
図7(a)は、発光領域40aの駆動回路を含む光モジュール10bを示している。図7(a)示すように、光モジュール10bは、発光領域40a、モニタPD62、定電流駆動部64、およびパワーモニタ部66を含んで構成されている。発光領域40aは上記実施の形態に係る光モジュール10aの発光領域40aと同じものなので、説明を省略する。
定電流駆動部64は、図示しない定電流源によって発光領域40aを定電流駆動する部位である。定電流駆動部64には発光領域40aから出射される光出力Poを変調する信号、例えば伝送データ信号が入力されるが、図7(a)では図示を省略している。駆動電流Idはバイアス電流と伝送データ信号による電流とが合計された電流となるが、光モジュール10bに係る定電流駆動部64は、バイアス電流を一定にして光出力Poを制御している。
パワーモニタ部66は、例えば、電流電圧変換回路を含んで構成され、発光領域40aの光出力Poに応じモニタPD62で発生するモニタ電流Imを電圧信号に変換することによって、発光領域40aの光出力Poを監視する。
制御部70は、第1の実施の形態と同様に、ハードウエアやソフトウエアで構成され、モニタ電流Imの大きさを表す電圧信号に基づき、光モジュール10bの劣化を検出する。すなわち、制御部70は、パワーモニタ部66とともに、光モジュール10bに含まれるモニタ発光部50mが劣化したことを検知する検知部として機能する。
図7(b)は、モニタ電流Imの経時変化を示している。図7(b)に示すように、モニタ電流Imは、光モジュール10bの運用開始後一定期間は、モニタ電流初期値Imiで推移し、発光領域40aに含まれる発光部50の劣化とともに低下する。光モジュール10bでは、このモニタ電流Imの低下によって発光部50を監視し、劣化を検出する。
本実施の形態では、劣化を検出するモニタ電流値として、モニタ電流アラート値Imaltを設定している。モニタ電流アラート値Imaltは、発光領域40aに含まれる発光部Cの劣化に対応するモニタ電流値であり、ユーザに対し交換のアラートを発出する電流値である。ここで、図7(b)におけるモニタ電流最小値Imminは、光モジュール10bの寿命が到来し、光モジュール10bからの光量が低下して実際に信号の送信が不可能となる電流値である。よって、モニタ電流アラート値Imaltは、少なくともモニタ電流最小値Imminよりも高い値に設定される。
次に、図8を参照して、光モジュール10bの駆動制御方法について説明する。図8(a)は、光モジュール10bの駆動電流Idの初期値である駆動電流初期値Idi、モニタ電流初期値Imiを設定し、さらに上記のモニタ電流アラート値Imaltを設定するための初期値設定処理の流れを示すフローチャートである。一方、図8(b)は光モジュール10bの運用状態において駆動電流を制御する駆動制御処理の流れを示すフローチャートである。
図8(a)に示すように、光モジュール10bの初期値設定処理は、ステップS100〜ステップS106までは、図5に示す上記実施の形態に係る光モジュール10aの初期値設定処理と同様であるため、同じ処理のステップには同じ符号を付し説明を省略する。
引き続くステップS108では、ステップS106で設定したモニタ電流初期値Imiに基づいて、モニタ電流アラート値Imaltを算出し、制御部70に設けられた記憶手段に記憶させる。モニタ電流アラート値Imaltの設定は、実験、あるいはシミュレーション等によってモニタ電流初期値Imiに対する比率を示す係数を求めておき、設定されたモニタ電流初期値Imiに該係数を乗ずることによって設定してもよい。
次に、図8(b)を参照して、光モジュール10bにおいてアラートが発出されるまでの駆動制御処理について説明する。
まず、ステップS300で、駆動電流Idを、上記初期値設定処理で設定された駆動電流初期値Idiに設定する。
次のステップS302では、モニタ電流Imがモニタ電流アラート値Imalt以上であるか否かを判定する。当該判定が肯定判定となった場合にはステップS302をループし、光モジュール10bの運用を継続する。
一方、ステップS302で否定判定となった場合にはステップS304に移行する。
ステップS304では、モニタ電流Imがモニタ電流アラート値Imaltを越えたことをもってアラートを発出する。例えば、ユーザに対し光モジュール10bの交換を要請し(光モジュール10bの寿命を報知し)、本実施の形態に係る駆動制御処理を終了する。なお、光モジュール10bの交換を要請したあとも定電流駆動が継続されることで、光モジュール10bからの発光は維持される。
[第3の実施の形態]
図9および図10を参照して、本実施の形態に係る光伝送装置200について説明する。光伝送装置200は光ファイバを介して相互に光通信を行う通信装置の光送信部を構成する装置であり、上記実施の形態に係る光モジュール(光モジュール10、10a、10b)を搭載している。本実施の形態では、以下、光モジュール10を搭載した形態を例示して説明する。
図9(a)は光伝送装置200の平面図を、図9(b)は断面図を各々示している。図9(a)、(b)に示すように、光伝送装置200は、光モジュール10、モニタPD62、サブマウント214、およびこれらの構成を搭載するパッケージを含んで構成されている。光伝送装置200のパッケージは、ステム202、キャップ204、カソード端子216、アノード端子218、219(図9(b)ではアノード端子218に隠れて見えていない)、カソード端子220を含んで構成されている。
サブマウント214は、光モジュール10、モニタPD62等を搭載する基板であり、例えば半導体基板で構成されている。また、サブマウント214の光モジュール10等の搭載面側には金属膜等でn側配線212が形成されており、光モジュール10のn側電極配線30が接続される。
ステム202はサブマウント214を搭載する金属製のベースであり、カソード端子216、アノード端子218、219、カソード端子220が保持されている。カソード端子216、アノード端子218、219は必要な絶縁部を介してステムに保持されているが、カソード端子220はステム202に直接ロウ付けされている(同電位になっている)。
図9(a)に示すように、光モジュール10のp側電極パッド28は、ボンディングワイヤによってアノード電極208に接続され、アノード端子218を介して外部(駆動電源等)と接続される。一方、光モジュール10のn側電極配線30は、n側配線212およびボンディングワイヤを介してカソード電極210に接続され、カソード端子216を介して外部(駆動電源等)と接続される。
モニタPD62のアノードはボンディングワイヤを介してアノード電極206に接続され、アノード端子219を介して外部(駆動電源等)と接続される。一方、モニタPD62のカソードはボンディングワイヤによりステム202に接続され、カソード端子220を介して外部(駆動電源等)に接続される。
キャップ204は、サブマウント214に搭載された半導体素子等を気密封止するものであり、本実施の形態では金属で形成されている。キャップ204には光モジュール10からの光出力Poを通過させる開口部が形成されており、該開口部には部分反射ミラー222は貼り付けられている。光出力Poの大部分は部分反射ミラー222を通過して外部(本実施の形態では後述する光ファイバ)に出力されるが、一部(一例として10%程度)は部分反射ミラー222で反射され、モニタ光PmとしてモニタPD62に入射される。このモニタ光Pmによって、上述したモニタ電流Imが発生する。
制御部70、APC駆動部60、定電流駆動部64、パワーモニタ部66等を構成する半導体素子や、必要となる抵抗、コンデンサ等の受動部品は、カソード端子216、アノード端子218、219を介して光モジュール10およびモニタPD62と接続される制御基板72上に搭載されて光伝送装置200を構成する。なお、制御部70やAPC駆動部60等は、サブマウント214に搭載されてもよい。
また、光伝送装置200は、報知部として機能するディスプレイ74や警告灯などの表示手段を備え、制御部70からの指示に基づき、アラートが発出されたことをユーザに報知する。なお、ユーザに報知する機能を有する構成であれば、音声手段など、他の構成であってもよい。
次に、図10を参照して、光モジュール10と光ファイバ300との結合について説明する。図10(a)は、光モジュール10と光ファイバ300との結合状態を示す断面図、図10(b)は平面図である。なお、本実施の形態に係る光ファイバ300としては、シングルモードファイバ、マルチモードファイバ、プラスチックファイバ等特に制限なく用いることが可能であるが、本実施の形態ではマルチモードファイバを用いている。
図10(a)に示すように、光ファイバ300はコア302とクラッド304を備えている。図10(a)、(b)に示すように、光モジュール10の発光部50は、光出力Poが光ファイバ300のコア302に入射するように配置される。本実施の形態では光モジュール10と光ファイバ300との結合にレンズを用いていない。しかしながら、これに限られず、レンズを用いて光モジュール10と光ファイバ300とを結合させる形態としてもよい。
ここで、上記実施の形態ではキャン型のパッケージに搭載した形態の光伝送装置200を例示して説明したが、これに限られず、フラットパッケージに搭載した形態の光伝送装置としてもよい。
なお、上記各実施の形態では、各発光部がモノリシックに形成された発光素子アレイを用いた形態を例示して説明したが、これに限られず、各発光部として個別の発光素子を用いた形態としてもよい。
10、10a、10b 光モジュール
12 基板
14 下部DBR
16 活性層領域
18 上部DBR
20 層間絶縁膜
22 p側電極配線
24 出射面保護層
26 酸化狭窄層
26a 非酸化領域
26b 酸化領域
28 p側電極パッド
30 n側電極配線
40、40a 発光領域
50、50−1、50−2、50−3、50−4 発光部
50n 通常発光部
50m モニタ発光部
60 APC駆動部
62 モニタPD
64 定電流駆動部
66、68 パワーモニタ部
70 制御部
72 制御基板
74 ディスプレイ
90 光モジュール
110 基板
112 下部DBR
114 下部スペーサ
116 量子井戸活性層
118 上部スペーサ
120 AlAs層
120a 非酸化領域
122 上部DBR
124 コンタクト層
126 メサ
130 活性層領域
132 酸化領域
134 層間絶縁膜
136 p側電極配線
138 n側電極配線
140 出射口
200 光伝送装置
202 ステム
204 キャップ
206、208 アノード電極
210 カソード電極
212 n側配線
214 サブマウント
216 カソード端子
218、219 アノード端子
220 カソード端子
222 部分反射ミラー
300 光ファイバ
302 コア
304 クラッド
Id 駆動電流
Idi 駆動電流初期値
Idalt 駆動電流アラート値
Im モニタ電流
Imi モニタ電流初期値
Imalt モニタ電流アラート値
Immin モニタ電流最小値
PA、PB、PC 光出力
Pmin 光出力下限値
Po 光出力
Pm モニタ光
R レジストマスク
VDD 電源

Claims (8)

  1. 光を出射する第1の発光素子と、
    前記第1の発光素子と並列に接続されるとともに、前記第1の発光素子よりも早く劣化するよう構成された、光を出射する第2の発光素子と、
    前記第2の発光素子が劣化したことを検知する検知部と、
    を備える光伝送装置。
  2. 前記第1の発光素子および前記第2の発光素子から出射される光を受光する受光部と、 前記受光部が受光した受光量に基づき、前記第1の発光素子および前記第2の発光素子から出射される光の光量が一定になるように前記第1の発光素子および前記第2の発光素子を駆動する駆動部と、をさらに有し、
    前記検知部は、前記駆動部から前記第1の発光素子および前記第2の発光素子に出力される電流または電圧の値が、予め定めた範囲を外れた場合に前記第2の発光素子が劣化したことを検知する
    請求項1に記載の光伝送装置。
  3. 前記第1の発光素子および前記第2の発光素子から出射される光を受光する受光部と、 前記第1の発光素子および前記第2の発光素子を、定電圧駆動または定電流駆動する駆動部と、をさらに有し、
    前記検知部は、前記受光部で受光する光量が、予め定めた範囲を外れた場合に前記第2の発光素子が劣化したことを検知する
    請求項1に記載の光伝送装置。
  4. 前記第1の発光素子の数が前記第2の発光素子の数より多い
    請求項1〜請求項3のいずれか1項に記載の光伝送装置。
  5. 前記第1の発光素子および前記第2の発光素子は電流狭窄構造を有し、
    前記第1の発光素子の電流狭窄径よりも前記第2の発光素子の電流狭窄径の方が小さい 請求項1〜請求項4のいずれか1項に記載の光伝送装置。
  6. 前記第1の発光素子および前記第2の発光素子は同一の形状を有するとともに、それぞれの周囲に絶縁膜が設けられ、
    前記第1の発光素子の周囲の前記絶縁膜と、前記第2の発光素子の周囲の前記絶縁膜とは、厚み、面積、形状の少なくとも1つが異なる
    請求項1〜請求項5のいずれか1項に記載の光伝送装置。
  7. 前記第2の発光素子よりも早く劣化するよう構成された第3の発光素子をさらに有し、 前記検知部は、前記第2の発光素子および前記第3の発光素子が劣化したことをそれぞれ検知する
    請求項1〜請求項6のいずれか1項に記載の光伝送装置。
  8. 前記検知部で前記第2の発光素子が劣化したことが検知された場合に報知を行う報知部を有する請求項1〜請求項7のいずれか1項に記載の光伝送装置。

JP2016223543A 2016-11-16 2016-11-16 光伝送装置 Active JP6327320B2 (ja)

Priority Applications (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2016223543A JP6327320B2 (ja) 2016-11-16 2016-11-16 光伝送装置
US15/727,098 US10484087B2 (en) 2016-11-16 2017-10-06 Optical transmission device
CN201711088528.9A CN108075827B (zh) 2016-11-16 2017-11-08 光传输装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2016223543A JP6327320B2 (ja) 2016-11-16 2016-11-16 光伝送装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP6327320B2 true JP6327320B2 (ja) 2018-05-23
JP2018082059A JP2018082059A (ja) 2018-05-24

Family

ID=62108142

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2016223543A Active JP6327320B2 (ja) 2016-11-16 2016-11-16 光伝送装置

Country Status (3)

Country Link
US (1) US10484087B2 (ja)
JP (1) JP6327320B2 (ja)
CN (1) CN108075827B (ja)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP7431104B2 (ja) * 2020-05-27 2024-02-14 旭化成株式会社 光量調整装置、光量調整システム及び光量調整方法

Family Cites Families (18)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4772799A (en) * 1985-11-30 1988-09-20 Toyoda Gosei Co., Ltd. Optical communication system
JPS63142877A (ja) * 1986-12-05 1988-06-15 Matsushita Electric Ind Co Ltd レ−ザ寿命警告装置
JP2002368694A (ja) 2001-06-05 2002-12-20 Nec Corp 光通信システム及び出力波形劣化検出回路
JP2004298619A (ja) * 2003-03-20 2004-10-28 Seiko Instruments Inc センサデバイスの劣化検出装置、劣化検出方法および劣化検出システム
JP2005057069A (ja) * 2003-08-05 2005-03-03 Matsushita Electric Ind Co Ltd 半導体レーザ劣化検出装置およびそれを備えた半導体レーザ装置と半導体レーザモジュール組み立て工程
EP1686708B1 (de) * 2005-01-26 2008-11-12 Avago Technologies Fiber IP (Singapore) Pte. Ltd. Verfahren und Vorrichtung zum Betreiben einer optischen Sendevorrichtung, die eine Mehrzahl von unabhängig ansteuerbaren optischen Sendern aufweist
JP2008181933A (ja) * 2007-01-23 2008-08-07 Seiko Epson Corp レーザ光源装置の駆動方法、レーザ光源装置、画像表示装置、モニタ装置、照明装置
JP5212686B2 (ja) * 2007-08-22 2013-06-19 ソニー株式会社 半導体レーザアレイの製造方法
JP4645655B2 (ja) * 2008-02-04 2011-03-09 富士ゼロックス株式会社 光伝送モジュール
JPWO2011040512A1 (ja) * 2009-10-02 2013-02-28 レシップホールディングス株式会社 蛍光灯駆動装置及び蛍光灯駆動装置の保護回路
CN102313166B (zh) * 2010-05-17 2015-01-14 夏普株式会社 发光体、发光装置、照明装置以及车辆用前照灯
EP2444716B8 (en) * 2010-10-19 2015-07-29 Feelux Co., Ltd. Lighting apparatus
JP2013016462A (ja) * 2011-06-10 2013-01-24 Canon Inc 照明装置及びその制御方法、液晶表示装置
JP4987177B1 (ja) * 2011-08-31 2012-07-25 パイオニア株式会社 照明装置および発光制御方法
JP6021307B2 (ja) * 2011-09-06 2016-11-09 キヤノン株式会社 半導体レーザの劣化兆候検出装置及び半導体レーザの劣化兆候検出方法
JP5845836B2 (ja) * 2011-11-14 2016-01-20 富士通株式会社 光送信装置、および光送信方法
JP6019816B2 (ja) * 2012-06-28 2016-11-02 株式会社リコー 面発光レーザユニット、光走査装置及び画像形成装置
JP2015176977A (ja) * 2014-03-14 2015-10-05 日本電気株式会社 劣化度合判定装置、劣化度合判定方法、およびプログラム

Also Published As

Publication number Publication date
CN108075827A (zh) 2018-05-25
US10484087B2 (en) 2019-11-19
CN108075827B (zh) 2022-06-14
JP2018082059A (ja) 2018-05-24
US20180138971A1 (en) 2018-05-17

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US7573929B2 (en) Vertical-cavity surface-emitting laser diode device
JP5082344B2 (ja) 面発光型半導体レーザおよびその製造方法
JP5593700B2 (ja) 面発光型半導体レーザ、面発光型半導体レーザ装置、光伝送装置および情報処理装置
US20110274131A1 (en) Two-dimensional surface-emitting laser array element, surface-emitting laser device and light source
US6914925B2 (en) Vertical cavity surface emitting semiconductor laser device
JP2004063707A (ja) 表面発光型半導体レーザ
JP2008258270A (ja) 半導体発光装置
JP2006278662A (ja) 光通信用光源
US11362135B2 (en) Light emitting element array and optical transmission device
CN112688167B (zh) 发光元件阵列
JP6327320B2 (ja) 光伝送装置
JP6327321B2 (ja) 光伝送装置
JP7151803B2 (ja) 発光素子アレイ
JP5214140B2 (ja) 半導体発光素子
JP6724961B2 (ja) 発光素子アレイ
JP6835152B2 (ja) 発光素子アレイ、および光伝送装置
JP2011155143A (ja) 面発光型半導体レーザ、面発光型半導体レーザ装置、光伝送装置および情報処理装置
JP2010045249A (ja) 半導体発光素子およびその製造方法
JP2007165501A (ja) 面発光型半導体レーザ及びその製造方法
JP2007129010A (ja) 面発光型半導体レーザ及びその製造方法
JP5460477B2 (ja) 面発光レーザアレイ素子
JP4915197B2 (ja) 面発光型半導体レーザおよびその製造方法
JP2012195477A (ja) 面発光半導体レーザ装置及びその製造方法

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20180221

A871 Explanation of circumstances concerning accelerated examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A871

Effective date: 20180221

A975 Report on accelerated examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971005

Effective date: 20180312

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20180320

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20180402

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 6327320

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

S533 Written request for registration of change of name

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350