JP5207812B2 - 発光デバイスおよび発光デバイスの製造方法 - Google Patents

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Description

本発明は、照明、露光などに用いられる発光デバイス、および発光デバイスの製造方法に関する。
LED(Light Emitting Diode)素子等の、半導体層が積層されてなる発光デバイスは、発光電力効率に優れるため、信号表示用のほか、高輝度の照明装置としても用いられている。特に、冷陰極管などの他の光学機器と比べて小型化、薄型化が可能であるため、例えば液晶ディスプレイのバックライトや、画像形成装置の静電潜像書き込み露光、画像表示デバイスなどに好適に用いられる。
従来のLED発光デバイスは、気相成長法などによって、基板表面に一導電体層と逆導電体層とが順次積層された1つの発光部を備えるLEDチップを、必要に応じて複数個配列させ、面状の発光を可能としている。
さらに、それぞれのLEDチップの外周を異なる種類の蛍光物質を含む蛍光体で覆い、蛍光物質がLEDから放射される光を吸収して、それぞれ異なる波長の光を放出させる蛍光発光装置なども開発されている(特許文献1,2参照)。
上述のような蛍光発光装置では、蛍光体に含まれる蛍光物質の種類を変えることで、放出される光の波長を変えることができるので、1つのLEDで異なる色の光を発光することができる。これにより、複数色の光源やディスプレイとしても容易に使用することが可能となる。
特開2002−91353号公報 特開2005−136006号公報
上述のような蛍光発光装置では、各基板に一導電体層と逆導電体層とが順次積層された1つの発光部を備えるLEDチップを配列している。そのため、発光領域の間隔がLEDチップの配置間隔以上には狭くできない。従って、発光装置の小型化が難しく、ディスプレイ等の表示装置として使用するには、解像度を高くすることが困難である。
本発明の目的は、小型化が可能で、ディスプレイとして使用する場合に、解像度を高くすることが可能な発光デバイスおよび発光デバイスの製造方法を提供することである。
本発明は、半導体基板と、
該半導体基板上に形成される一導電型半導体層と、該一導電型半導体層に積層される逆導電型半導体層との接合部分をそれぞれが含み、前記接合部分が離間して設けられる複数の発光部と、
前記複数の発光部を覆い、前記発光部から放射される光によって励起されてそれぞれ異なる波長の蛍光を発光する複数種類の蛍光体と、
前記半導体基板上に設けられ、少なくとも異なる種類の蛍光体に覆われた発光部に含まれる前記逆導電型半導体層と電気的に接続される第1共通電極と、
前記半導体基板上に設けられ、同じ種類の蛍光体に覆われた発光部に含まれる前記一導電型半導体層と電気的に並列接続される第2共通電極とを含み、
前記第2共通電極で接続された発光部のうち隣接している発光部を覆う蛍光体は、一体的に形成されていることを特徴とする発光デバイスである。
また本発明は、半導体基板を準備する工程と、
前記半導体基板上に、一導電型半導体層と、該一導電型半導体層に積層される逆導電型半導体層との接合部分をそれぞれが含み、前記接合部分が離間して設けられる複数の発光部を形成する工程と、
前記半導体基板上に、前記逆導電型半導体層と電気的に接続される第1共通電極と、前記一導電型半導体層と電気的に並列接続される第2共通電極とを形成する工程と、
前記発光部から放射される光によって励起されてそれぞれ異なる波長の蛍光を発光する複数種類の蛍光体で前記複数の発光部をそれぞれ覆う工程であって、前記第1共通電極で接続された発光部を、少なくとも異なる種類の蛍光体で覆い、前記第2共通電極で接続された発光部を、同じ種類の蛍光体で覆う工程と、を含み、
前記第2共通電極で接続された発光部のうち隣接している発光部を覆う蛍光体を、一体的に形成することを特徴とする特徴とする発光デバイスの製造方法である。
本発明によれば、半導体基板上に複数の発光部を形成し、第2共通電極で接続された発光部のうち隣接している発光部を覆う蛍光体を一体的に形成することで、発光部同士の間隔を小さくすることができ、複数色の発光が可能な発光デバイスを小型化することが可能となる。特に、発光デバイスを、ディスプレイとして用いる場合は、発光デバイスの小型化に加え、表示する画像の解像度を高くすることができる。
また本発明によれば、半導体基板上に、一導電型半導体層と逆導電型半導体層との接合部分が離間して設けられる複数の発光部を形成し、前記逆導電型半導体層と電気的に接続される第1共通電極と、前記一導電型半導体層と電気的に並列接続される第2共通電極とを形成する。
次に、前記発光部から放射される光によって励起されてそれぞれ異なる波長の蛍光を発光する複数種類の蛍光体で前記複数の発光部をそれぞれ覆うが、このとき、前記第1共通電極で接続された発光部を、少なくとも異なる種類の蛍光体で覆い、前記第2共通電極で接続された発光部を、同じ種類の蛍光体で覆う。前記第2共通電極で接続された発光部のうち隣接している発光部を覆う蛍光体を、一体的に形成することを特徴とする
これにより、発光部同士の間隔が小さく、複数色の発光が可能な小型の発光デバイスを製造することができる。
図1は、本発明の実施の一形態である発光デバイス1の構成を示す平面図である。図2は、図1の切断面線A−Aから見た断面図である。図3は、図1の切断面線B−Bから見た断面図である。
発光デバイス1は、基板2上に複数の発光素子3が設けられ、発光素子3は、基板表面に平行なx方向と、基板表面に平行でx方向に直交するy方向とにそれぞれ直線上に、所定の間隔でマトリクス状に配置されている。
複数の発光素子3は、x方向に沿って配列する発光素子3を接続する共通カソード電極4およびy方向に沿って配列する発光素子3を接続する共通アノード電極5によって、給電され、発光するように構成される。共通カソード電極4、および共通アノード電極5は個別に通電可能に構成されており、たとえば、1本の共通カソード電極4と1本の共通アノード電極5を選択して通電すれば、複数の発光素子3のうち、特定の1つの発光素子3を選択して発光させることができる。
発光素子3は、エピタキシャル成長により導電型の半導体層が積層されてなる半導体光学素子である。たとえば、発光素子3は、一導電型半導体層3aと、一導電型半導体層3aに積層される逆導電型半導体層3bとの接合部分3cを含み、接合部分3cで発光する発光部を備えるLED発光素子である。
LED発光素子3は、たとえば波長が365nm〜410nmの紫外線を放射し、放射された紫外線が後述する蛍光物質を励起させて、各波長(各色)の蛍光を放出させる。
一導電型半導体層3aは、たとえば一導電型の不純物がドーピングされたGaN、InGaN、AlGaNなどによって形成される。逆導電型半導体層3bは、一導電型半導体層3aの厚み方向の一方に積層される。逆導電型半導体層3bは、たとえば逆導電型の不純物がドーピングされた逆導電型のGaN、InGaN、AlGaNなどによって形成される。
基板2は、上記のような紫外線発光が可能な発光素子3を結晶成長させる基板であればよく、GaN、AlN、サファイアなどが用いられる。
一導電型半導体層3aは、基板2上において逆導電型半導体層3bよりも広く設けられ、一導電型半導体層3aの上面の一部は、逆導電型半導体層3bと接合することなく露出する。この露出面をコンタクト面として共通カソード電極4と電気的に接続される。逆導電型半導体層3bの上面は、コンタクト面として共通アノード電極5と電気的に接続される。
複数の発光素子3は、基板2の一主面2a上に設けられ、さらに青色発光用蛍光体6、赤色発光用蛍光体7、緑色発光用蛍光体8が、これら複数の発光素子3を覆うように設けられる。
青色発光用蛍光体6、赤色発光用蛍光体7、緑色発光用蛍光体8は、蛍光発光によってそれぞれ青色発光させたい発光素子3、赤色発光させたい発光素子3、緑色発光させたい発光素子3上に適宜配置すればよい。
たとえば、本実施形態では、x方向に沿って並ぶ1列の発光素子3を覆うように青色発光用蛍光体6を設け、この列にy方向に隣接してx方向に沿って並ぶ1列の発光素子3を覆うように赤色発光用蛍光体7を設け、この列にy方向に隣接してx方向に沿って並ぶ1列の発光素子3を覆うように緑色発光用蛍光体8を設ける。図では3列のみが記載されているが、4列以上であってもよい。青色発光用蛍光体6、赤色発光用蛍光体7、緑色発光用蛍光体8の配置順序は、3列ごとに上記の順序、すなわち青色発光用蛍光体6、赤色発光用蛍光体7、緑色発光用蛍光体8の順序を繰り返して配置してもよいし、配置順序を適宜入れ替えてもよい。
青色発光用蛍光体6、赤色発光用蛍光体7、緑色発光用蛍光体8を含む全ての蛍光体は、発光素子3が形成された基板2の一主面2aに対して垂直に延びる4つの壁で構成される枠体9によって四方を取り囲まれる。さらに、1つの発光用蛍光体と、隣接する他の色用の蛍光体との間には、発光素子3が形成された基板2の一主面2aに対して垂直に延びる隔壁10によって分け隔てられており、基板2と、枠体9および隔壁10とで囲まれた凹所を埋めるように青色発光用蛍光体6、赤色発光用蛍光体7、緑色発光用蛍光体8がそれぞれ形成される。
青色発光用蛍光体6、赤色発光用蛍光体7、緑色発光用蛍光体8は、それぞれ青色発光用蛍光物質、赤色発光用蛍光物質、緑色発光用蛍光物質をベースとなる樹脂に分散させることで得られる。
青色発光用蛍光物質、赤色発光用蛍光物質、緑色発光用蛍光物質は、発光素子3から放射される光によって励起され、青色の蛍光、赤色の蛍光、緑色の蛍光を発光する蛍光物質であればどのような物質であっても構わない。
上記のように発光素子3が紫外線発光のLEDである場合、青色発光用蛍光物質、赤色発光用蛍光物質、緑色発光用蛍光物質は、発光素子3から放射される紫外線によって励起され、青色の蛍光、赤色の蛍光、緑色の蛍光を発光する蛍光物質を用いればよい。
青色発光用蛍光物質としては、BaMgAl1017:Eu、(SrCaBaMg)10(PO4)Cl:Euなどを用いることができ、赤色発光用蛍光物質としては、YS:Eu、Y:Euなどを用いることができ、緑色発光用蛍光物質としては、ZnS:Cu,Al、ZnSiO:Mnなどを用いることができる。
青色発光用蛍光体6、赤色発光用蛍光体7、緑色発光用蛍光体8のベースとなる樹脂は、これら青色発光用蛍光物質、赤色発光用蛍光物質、緑色発光用蛍光物質を分散可能な樹脂であり、紫外線、青色の蛍光、赤色の蛍光、緑色の蛍光を吸収しない樹脂であればどのような樹脂であってもよく、たとえばシリコーン樹脂が好適に用いられる。
通常、発光素子3の高さは、基板2の主面2aから2μm〜10μmであり、青色発光用蛍光体6、赤色発光用蛍光体7、緑色発光用蛍光体8の高さは、発光素子3の全体を覆うように、4μm〜100μmに形成される。
枠体9および隔壁10は、アクリル系樹脂、エポキシ系樹脂、ポリイミドなどの樹脂で構成され、青色発光用蛍光体6、赤色発光用蛍光体7、緑色発光用蛍光体8を形成する際に堰として機能する。
枠体9は、全ての発光素子3および青色発光用蛍光体6、赤色発光用蛍光体7、緑色発光用蛍光体8を囲み、厚みが5μm〜150μmであり、基板2の主面2aからの高さは、青色発光用蛍光体6、赤色発光用蛍光体7、緑色発光用蛍光体8の高さよりも高く、
5μm〜150μmである。
隔壁10は、青色発光用蛍光体6、赤色発光用蛍光体7、緑色発光用蛍光体8の間に設けられ、それぞれの蛍光体が混ざり合わないように、蛍光体間を仕切る仕切り板である。隔壁10は、厚みが5μm〜150μmであり、基板2の主面2aからの高さは、各蛍光体の高さよりも1μm〜50μmだけ高く、5μm〜150μmである。
さらに隔壁10は、発光素子3から放射された光および蛍光物質を隣接する蛍光体へと進入することを防ぐように、紫外線に対して遮光性を有するもので構成されることが好ましい。
共通カソード電極4および共通アノード電極5と、発光素子3への給電を制御するための駆動制御ICとを接続するための接続パッド4aおよび5aは、枠体9よりも外側に設けられる。
第1共通電極である共通カソード電極4は、同じ色を発光する蛍光体に覆われた発光素子3に含まれる一導電型半導体層3aと電気的に接続され、第2共通電極である共通アノード電極5は、異なる色を発光する蛍光体に覆われた発光素子3に含まれる逆導電型半導体層3bと電気的に接続される。
図4は、本発明の実施の他の形態である発光装置11の構成を示す断面図である。発光装置11は、回路基板12上に発光デバイス1および発光素子3への給電を制御するための駆動制御IC13とが実装され、駆動制御IC13と共通カソード電極4の接続パッド4aおよび共通アノード電極5の接続パッド5aとは、ボンディングワイヤ14によって電気的に接続されている。
駆動制御IC13は、上述の共通カソード電極4および共通アノード電極5の接続状態に基づいて、共通カソード電極4および共通アノード電極5への給電を制御する。
発光装置11は、回路基板12を外囲し、発光デバイス1の上方に透明部材15を保持するためのホルダー16を備え、発光装置11には、回路基板12、ホルダー16および透明部材15で囲まれる内部空間が形成される。この内部空間は、真空状態であってもよいし、所定の気体によって充満されていてもよい。
ホルダー16は、発光デバイス1の上方に窓部を備え、窓部にガラスなどで構成される透明部材15が嵌め込まれる。
駆動制御IC13には、回路基板12を介して発光デバイス1の各発光素子3を発光させるための制御信号が入力される。駆動制御IC13は、駆動信号に基づいて、共通アノード電極5に電流を印加させて発光素子3を発光させる。
発光装置11は、各発光素子3をそれぞれ1つの画素として発光させることで、自発光ディスプレイとして用いることができる。青色発光用蛍光体6、赤色発光用蛍光体7、緑色発光用蛍光体8は、発光装置11がカラーディスプレイとして機能するように配置すればよい。たとえば、x方向の配列またはy方向の配列に沿って発光素子2ごとに異なる色の蛍光体を順次配置したり、その他カラーディスプレイとして表示する画像の種類などに合わせて青色発光用蛍光体6、赤色発光用蛍光体7、緑色発光用蛍光体8を適宜配置する。このとき、青色発光用蛍光体6、赤色発光用蛍光体7、緑色発光用蛍光体8の境界に隔壁10を設ければよく、発光デバイス1を平面視したときの隔壁10の形状は、本実施形態のように直線状に限らず、折れ線状や曲線状に形成されていてもよい。
以上のように、本発明は、基板2上に複数の発光素子3を形成し、これらをそれぞれ覆うような複数種類の蛍光体を設けることで、発光素子3同士の間隔を小さくすることができ、複数色の発光が可能な発光デバイスの小型化が可能となる。特に、発光デバイス1を、カラーディスプレイとして用いる場合は、発光デバイス1の小型化に加え、表示する画像の解像度を高くすることができる。
次に、発光デバイス1の製造方法について説明する。
図5は、本発明の発光デバイス1の製造方法を示す工程図である。
基板2の表面に発光素子3、共通カソード電極4、共通アノード電極5を形成する(図5(a))。
基板2の一主面2aの全面に、一導電型半導体層3aの前駆体となる一導電型半導体層を結晶成長させ、その全面に逆導電型半導体層3bの前駆体となる逆導電型半導体層を結晶成長させる。
各層は、たとえばCVD(Chemical Vapor Deposition)法によって形成される。
次に、積層した半導体層を加工して、基板2上に複数の独立した発光素子3を形成する。この際、フォトリソグラフィーによって所望のマスクパターンを形成した後、基板2表面が露出するまでエッチング処理し、発光素子3を形成する。このエッチング処理では、たとえばウェットエッチングを行い、基板2から発光素子3の上面に向かうにしたがって断面積が次第に小さくなるような、いわゆるメサ形状断面を有する発光素子3を形成する。
発光素子3を形成したのち、さらに、共通カソード電極4および共通アノード電極5を形成する。各電極は、発光素子3が形成された基板2全面に、CVD法、スパッタリング法などにより、金属層を設けたのち所定の電極形状にパターン形成してもよいし、印刷法、箔転写法などにより、直接電極形状にパターン化された金属層を形成してもよい。
次に、全ての光学素子3を被覆するように樹脂材料20を塗布する(図5(b))。樹脂材料20は、たとえば、スピンコート法、スプレイコート法、ディップ法等によって塗布し、硬化条件を適宜調整して仮硬化させる。。
樹脂材料20の塗布厚みは、すなわち隔壁10の高さとなるので、5μm〜150μmとする。
樹脂材料20のうち、緑色発光用蛍光体8を形成する領域については、基板2表面および発光素子3表面などから樹脂材料を除去する。樹脂材料の除去は、フォトリソグラフィーによる加工方法を用いて、樹脂材料20にレジストマスクを形成し、ウェットエッチング、ドライエッチングなどで行う。
樹脂材料が除去された領域に緑色発光用蛍光体8となる、蛍光物質と樹脂との混合物を流し込み、硬化条件を適宜調整して仮硬化させる(図5(c))。
緑色発光用蛍光体8と同様に、樹脂材料20のうち、赤色発光用蛍光体7を形成する領域については、基板2表面および発光素子3表面などから樹脂材料を除去する。樹脂材料が除去された領域に赤色発光用蛍光体7となる、蛍光物質と樹脂との混合物を流し込み、硬化条件を適宜調整して仮硬化させる(図5(d))。
緑色発光用蛍光体8、赤色発光用蛍光体7と同様に、樹脂材料20のうち、青色発光用蛍光体6を形成する領域については、基板2表面および発光素子3表面などから樹脂材料を除去する。樹脂材料が除去された領域に青色発光用蛍光体6となる、蛍光物質と樹脂との混合物を流し込み、硬化条件を適宜調整して仮硬化させる。
その後、オーブン、ホットプレート、キュア炉などによる熱硬化、紫外線照射による光硬化など硬化条件を調整し、枠体9、隔壁10および青色発光用蛍光体6、赤色発光用蛍光体7、緑色発光用蛍光体8を本硬化させて本発明の発光デバイス1を得る。
以上、本発明の発光デバイスおよび光学デバイスの製造方法について説明したが、本発明の発光デバイスおよび光学デバイスの製造方法は上記実施例に限定されるものでなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲において、各種の改良および変更を行ってもよいのはもちろんである。
本発明の実施の一形態である発光デバイス1の構成を示す平面図である。 図1の切断面線A−Aから見た断面図である。 図1の切断面線B−Bから見た断面図である。 本発明の実施の他の形態である発光装置11の構成を示す断面図である。 本発明の発光デバイス1の製造方法を示す工程図である。
符号の説明
1 発光デバイス
2 基板
3 発光素子
4 共通カソード電極
5 共通アノード電極
6 青色発光用蛍光体
7 赤色発光用蛍光体
8 緑色発光用蛍光体

Claims (4)

  1. 半導体基板と、
    該半導体基板上に形成される一導電型半導体層と、該一導電型半導体層に積層される逆導電型半導体層との接合部分をそれぞれが含み、前記接合部分が離間して設けられる複数の発光部と、
    前記複数の発光部を覆い、前記発光部から放射される光によって励起されてそれぞれ異なる波長の蛍光を発光する複数種類の蛍光体と、
    前記半導体基板上に設けられ、少なくとも異なる種類の蛍光体に覆われた発光部に含まれる前記逆導電型半導体層と電気的に接続される第1共通電極と、
    前記半導体基板上に設けられ、同じ種類の蛍光体に覆われた発光部に含まれる前記一導電型半導体層と電気的に並列接続される第2共通電極とを含み、
    前記第2共通電極で接続された発光部のうち隣接している発光部を覆う蛍光体は、一体的に形成されていることを特徴とする発光デバイス。
  2. 前記半導体基板上に設けられ、異なる種類の蛍光物質を含む蛍光体同士を隔てる隔壁をさらに含み、前記隔壁の前記半導体基板の主面からの高さは、前記蛍光体の前記半導体基板の主面からの高さよりも高いことを特徴とする請求項1記載の発光デバイス。
  3. 前記発光部は、紫外線を放射し、
    前記蛍光物質は、前記発光部から放射される紫外線によって励起され、少なくとも赤色の蛍光、青色の蛍光、緑色の蛍光を発光することを特徴とする請求項1または2記載の発光デバイス。
  4. 半導体基板を準備する工程と、
    前記半導体基板上に、一導電型半導体層と、該一導電型半導体層に積層される逆導電型半導体層との接合部分をそれぞれが含み、前記接合部分が離間して設けられる複数の発光部を形成する工程と、
    前記半導体基板上に、前記逆導電型半導体層と電気的に接続される第1共通電極と、前記一導電型半導体層と電気的に並列接続される第2共通電極とを形成する工程と、
    前記発光部から放射される光によって励起されてそれぞれ異なる波長の蛍光を発光する複数種類の蛍光体で前記複数の発光部をそれぞれ覆う工程であって、前記第1共通電極で接続された発光部を、少なくとも異なる種類の蛍光体で覆い、前記第2共通電極で接続された発光部を、同じ種類の蛍光体で覆う工程と、を含み、
    前記第2共通電極で接続された発光部のうち隣接している発光部を覆う蛍光体を、一体的に形成することを特徴とする発光デバイスの製造方法。
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