JP5197596B2 - カプセルを封止する方法および装置 - Google Patents
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Description
− フレームと、
− フレーム上に回転可能に据え付けられた、その中にそれぞれのカプセルを収容する少なくとも1つのキャビティを備えるカプセル運搬アセンブリと、
− それぞれのキャビティ内の封止されるべきカプセルの隙間に封止流体を均一に適用する封止手段と、
− カプセルから過剰な封止液体を除去するために、封止流体の適用後にそれぞれのキャビティ内のカプセルの周りに低圧の領域を提供するようになっている吸引手段と、
− カプセル運搬アセンブリを回転駆動する駆動手段と、
− 駆動手段と、封止手段と、吸引手段とを同期制御する制御手段とを含んでおり、前記制御手段が、封止手段によってカプセルが封止される封止位置を含めたキャビティの連続する静止位置へと、カプセル運搬アセンブリを段階的に回転させるようになっており、
前記静止位置には、さらに、それぞれのキャビティ内のカプセルの周りに低圧の領域を提供するように吸引手段が作動される、吸引位置が含まれており、前記吸引位置が封止位置から角度的に離隔される装置が提供される。
・ 吸引位置が封止位置から角度的に90°離隔される、
・ 前記静止位置には、封止されるべきカプセルでキャビティが装填される装填位置がさらに含まれており、封止位置が装填位置から角度的に離隔される、
・ 封止位置が装填位置から角度的に90°離隔される、
・ キャビティが、装填位置では垂直で、封止位置では水平である、該キャビティ内で受けられたカプセルの軸に相当する軸を有する、
・ 前記静止位置には、カプセルをキャビティから取り出すことのできる取出位置がさらに含まれており、取出位置が吸引位置から角度的に離隔される、
・ 取出位置が吸引位置から角度的に90°離隔される、
・ 制御手段が、封止位置から吸引位置、および吸引位置から取出位置へとカプセル運搬アセンブリが回転されるときにそれぞれのキャビティ内のカプセルの周りに低圧の領域を提供するように吸引手段を作動させるようになっている、
・ 制御手段が、0.2〜2秒の範囲内、好ましくは1〜1.5秒の範囲内、より好ましくは1.33秒に等しい滞留期間にわたって、封止位置と取出位置との間でカプセルのための吸引手段を作動させるようになっている、
・ 吸引手段には真空源が含まれており、少なくとも1つの真空ノズルが、キャビティと連通し、また、真空源に選択的に連結され、もしくは真空源から選択的に分離されており、吸引手段が、ノズル出口のところで、10000〜60000N/m2(100〜600ミリバール)、好ましくは25000〜35000N/m2(250〜350ミリバール)の減圧を提供することができる、
・ [(100000/ノズル出口圧力(N/m2))×滞留時間(秒)]として計算される乾燥効率が少なくとも1.2である、
・ 封止手段には、所定の体積の封止流体を隙間に吹き付けるようになっている、キャビティと連通する少なくとも1つのスプレーノズルを含む、封止流体アプリケータが含まれる、
・ 封止流体アプリケータが、キャビティの周りで周方向に離隔された複数のノズルを含む、
・ 吸引手段には、真空ノズルを真空源に連結する導管が含まれており、前記導管が真空源端とノズル端とを有しており、真空源端のところの導管の断面積(A1)が75〜1300mm2であり、ノズルが0.0075〜0.3mm2の断面積(A2)を有しており、比A1/A2が250〜170,000である、
・ カプセル運搬アセンブリには、フレーム上に回転可能に据え付けられたドラムと、ドラムの周辺部に取り付けられた少なくとも1つのプロセスバーとが含まれており、前記プロセスバーが、キャビティと、それぞれの真空ノズルと、それぞれの封止流体アプリケータとを含む、
・ プロセスバーには、それぞれのカプセルを受け取るようにそれぞれなっている複数のキャビティが含まれており、各キャビティが、それぞれの封止流体アプリケータおよび少なくとも1つのそれぞれの真空ノズルと結び付けられる、
・ カプセル運搬アセンブリが、同一のピッチ角度で互いに角度的に離隔されるように回転軸の周りでドラムの周辺部に配置された、ドラムによって運搬される複数のプロセスバーを含む、
・ カプセル運搬アセンブリが、90°に等しいピッチ角度で回転軸の周りに配置された4つのプロセスバーを含む、
・ 装置には、カプセル運搬アセンブリからカプセルを受け取るように配置された融着ステーションがさらに含まれており、融着ステーションには、融着熱源と、融着ステーションの第1の端部から第2の端部へとカプセルを輸送可能な輸送配置構成(transport arrangement)とが含まれる、
・ 融着ステーションが、取出位置でカプセル運搬アセンブリからカプセルを受け取るように配置される、
・ 輸送配置構成にはメッシュバスケットが含まれており、融着熱源が加熱気体の流れを含む、
・ メッシュバスケットが、少なくとも第1のステージと第2のステージとがそれに含まれる多ステージバスケットであり、バスケットが、長手軸の周りを回転するように駆動される、
・ メッシュバスケットのステージが、その中心軸を水平にして配置された円錐台形の内壁を含んでおり、カプセルが、重力の作用によってより小さな直径端からより大きな直径端へと運ばれる、
・ メッシュバスケットのステージが、円筒状で、円筒を貫くらせん経路を画定するように配置された内部要素がそれに含まれており、それによってカプセルが内部要素のねじ作用によってステージの第1の端部から第2の端部へと輸送される、
・ メッシュバスケットの第1のステージが、その中心軸を水平にして配置された円錐台形の内壁を含んでおり、カプセルが、重力の作用によってより小さな直径端からより大きな直径端へと運ばれ、メッシュバスケットの第2のステージが、円筒状で、第1のステージと同軸となるように配置されており、第2のステージには、円筒を貫くらせん経路を画定するように配置された内部要素が含まれており、それによってカプセルが内部要素のねじ作用によって第2のステージの第1の端部から第2の端部へと輸送される、
・ バスケットの回転スピードが、20〜100秒、好ましくは30〜70秒の、融着ステーション内のカプセルについての滞留時間を提供するように選択される。
i.カプセルをカプセル運搬アセンブリ内の静止封止位置に置くステップと、
ii.前記封止位置で、封止流体をカプセルの隙間に均一に適用するステップと、
iii.封止位置から角度的に離隔された静止吸引位置へとカプセルを回転させるステップと、
iv.前記吸引位置で、カプセルから過剰な封止液体を除去するためにカプセルの周りに低圧の領域を提供するステップとを含む方法が提供される。
・ 吸引位置が封止位置から角度的に90°離隔される、
・ カプセルが、静止装填位置でキャビティ内に装填され、次いでその封止位置へと回転され、封止位置が好ましくは装填位置から角度的に90°離隔される、
・ カプセルが、垂直位置で装填され、水平位置で封止される、
・ カプセルが、吸引位置から、好ましくは吸引位置から角度的に90°離隔された静止取出位置へと回転され、次いでカプセル運搬アセンブリから取り出される、
・ 封止位置から吸引位置、および吸引位置から取出位置へとカプセルが回転されるとき、カプセルの周りに低圧の領域が提供される、
・ カプセルの周りの低圧が、0.2〜2秒の範囲内、好ましくは1〜1.5秒の範囲内、より好ましくは1.33秒に等しい、封止位置と取出位置との間の滞留期間にわたって提供される、
・ カプセルの周りに提供される低圧が、10000〜60000N/m2(100〜600ミリバール)の範囲内、好ましくは25000〜35000N/m2(250〜350ミリバール)の範囲内にある、
・ [(100000/低圧(N/m2))×滞留時間(秒)]として計算される乾燥効率が少なくとも1.2である、
・ 該方法が、カプセルを融着ステーションの第1の端部から第2の端部へと輸送しながら融着熱源を適用することによって、隙間内で封止流体によって形成されたシールを硬化させるステップをさらに含む、
・ カプセルが、タンブリングまたは攪拌なしに融着ステーションの少なくとも一部分を通って輸送される。
Claims (37)
- 互いに入れ子式に接合されたときに重なり合い、それによってハードシェルカプセルの周りに周方向の隙間を形成する同軸の本体部分を有する前記ハードシェルカプセルを封止する装置(1)であって、
フレーム(2)と、
前記フレーム(2)上に回転可能に据え付けられた、その中にそれぞれのカプセル(15)を収容する少なくとも1つのキャビティ(14)を備えるカプセル運搬アセンブリ(3)と、
前記それぞれのキャビティ(14)内の封止されるべきカプセル(15)の前記隙間に封止流体を均一に適用する封止手段(17A、17B)と、
前記カプセル(15)から過剰な封止液体を除去するために、前記封止流体の適用後に前記それぞれのキャビティ(14)内の前記カプセル(15)の周りに低圧の領域を提供するようになっている吸引手段(19A、19B)と、
前記カプセル運搬アセンブリ(3)を回転駆動する駆動手段と、
前記駆動手段と、前記封止手段(17A、17B)と、前記吸引手段(19A、19B)とを同期制御する制御手段とを含んでおり、前記制御手段が、前記封止手段(17A、17B)によって前記カプセル(15)が封止される封止位置(52)を含めた前記キャビティ(14)の連続する静止位置(51、52、53、54)へと、前記カプセル運搬アセンブリ(3)を段階的に回転させるようになっており、
前記静止位置(51、52、53、54)には、さらに、前記それぞれのキャビティ(14)内の前記カプセル(15)の周りに低圧の領域を提供するように前記吸引手段(19A、19B)が作動される、吸引位置(53)が含まれており、前記吸引位置(53)が前記封止位置(52)から角度的に離隔される装置。 - 前記吸引位置(53)が前記封止位置(52)から角度的に90°離隔される、請求項1に記載の装置。
- 前記静止位置(51、52、53、54)には、封止されるべきカプセル(15)で前記キャビティ(14)が装填される装填位置(51)がさらに含まれており、前記封止位置(52)が前記装填位置(51)から角度的に離隔される、請求項1または2に記載の装置。
- 前記封止位置(52)が前記装填位置(51)から角度的に90°離隔される、請求項3に記載の装置。
- 前記キャビティ(14)が、前記装填位置(51)では垂直で、前記封止位置(52)では水平である、前記キャビティ(14)内で受けられた前記カプセル(15)の軸に相当する軸(Z)を有する、請求項4に記載の装置。
- 前記静止位置(51、52、53、54)には、前記カプセル(15)を前記キャビティ(14)から取り出すことのできる取出位置(54)がさらに含まれており、前記取出位置(54)が前記吸引位置(53)から角度的に離隔される、請求項1〜5のいずれか一項に記載の装置。
- 前記取出位置(54)が前記吸引位置(53)から角度的に90°離隔される、請求項6に記載の装置。
- 前記制御手段が、前記封止位置(52)から前記吸引位置(53)、および前記吸引位置(53)から前記取出位置(54)へと前記カプセル運搬アセンブリ(3)が回転されるときに前記それぞれのキャビティ(14)内の前記カプセル(15)の周りに低圧の領域を提供するように前記吸引手段(19A、19B)を作動させるようになっている、請求項6または7に記載の装置。
- 前記制御手段が、0.2〜2秒の範囲内、好ましくは1〜1.5秒の範囲内、より好ましくは1.33秒に等しい滞留期間にわたって、前記封止位置(52)と前記取出位置(54)との間で前記カプセルのための前記吸引手段(19A、19B)を作動させるようになっている、請求項8に記載の装置。
- 前記吸引手段には真空源が含まれており、少なくとも1つの真空ノズル(19A、19B)が、前記キャビティ(14)と連通し、また、前記真空源に選択的に連結され、もしくは前記真空源から選択的に分離されており、前記吸引手段が、ノズル出口のところで、10000〜60000N/m2(100〜600ミリバール)、好ましくは25000〜35000N/m2(250〜350ミリバール)の減圧を提供することができる、請求項1〜9のいずれか一項に記載の装置。
- [(100000/ノズル出口圧力(N/m2))×滞留時間(秒)]として計算される乾燥効率が少なくとも1.2である、組み合わされた請求項9および10に記載の装置。
- 前記封止手段には、所定の体積の前記封止流体を前記隙間に吹き付けるようになっている、前記キャビティ(14)と連通する少なくとも1つのスプレーノズル(17A、17B)を含む、封止流体アプリケータが含まれる、請求項1〜11のいずれか一項に記載の装置。
- 前記封止流体アプリケータが、前記キャビティ(14)の周りで周方向に離隔された複数のノズルを含む、請求項12に記載の装置。
- 前記吸引手段には、前記真空ノズル(19A、19B)を前記真空源に連結する導管(22)が含まれており、前記導管が真空源端とノズル端とを有しており、前記真空源端のところの前記導管の断面積(A1)が75〜1300mm2であり、前記ノズルが0.0075〜0.3mm2の断面積(A2)を有しており、比A1/A2が250〜170,000である、請求項1〜13のいずれか一項に記載の装置。
- 前記カプセル運搬アセンブリ(3)には、前記フレーム(2)上に回転可能に据え付けられたドラム(6)と、前記ドラムの周辺部に取り付けられた少なくとも1つのプロセスバー(7)とが含まれており、前記プロセスバーが、前記キャビティ(14)と、前記それぞれの真空ノズル(19A、19B)と、前記それぞれの封止流体アプリケータ(17A、17B)とを含む、請求項1〜14のいずれか一項に記載の装置。
- 前記プロセスバー(7)には、それぞれのカプセル(15)を受け取るようにそれぞれなっている複数のキャビティ(14)が含まれており、各キャビティが、それぞれの封止流体アプリケータ(17A、17B)および少なくとも1つのそれぞれの真空ノズル(19A、19B)と結び付けられる、請求項15に記載の装置。
- 前記カプセル運搬アセンブリ(3)が、同一のピッチ角度で互いに角度的に離隔されるように回転軸(X)の周りで前記ドラム(6)の周辺部に配置された、前記ドラム(6)によって運搬される複数のプロセスバー(7)を含む、請求項15または16に記載の装置。
- 前記カプセル運搬アセンブリ(3)が、90°に等しいピッチ角度で前記回転軸(X)の周りに配置された4つのプロセスバー(7)を含む、請求項17に記載の装置。
- 前記カプセル運搬アセンブリ(3)から前記カプセル(15)を受け取るように配置された融着ステーション(4)がさらに含まれており、前記融着ステーションには、融着熱源(40)と、前記融着ステーション(4)の第1の端部から第2の端部へと前記カプセルを輸送可能な輸送配置構成(30)とが含まれる、請求項1〜18のいずれか一項に記載の装置。
- 前記融着ステーション(4)が、前記取出位置(54)で前記カプセル運搬アセンブリ(3)から前記カプセルを受け取るように配置される、組み合わされた請求項6および19に記載の装置。
- 前記輸送配置構成(30)にはメッシュバスケットが含まれており、前記融着熱源(40)が加熱気体の流れを含む、請求項19または20に記載の装置。
- 前記メッシュバスケット(30)が、少なくとも第1のステージ(32)と第2のステージ(34)とがそれに含まれる多ステージバスケットであり、前記バスケットが、長手軸の周りを回転するように駆動される、請求項21に記載の装置。
- 前記メッシュバスケット(30)のステージ(32)が、その中心軸を水平にして配置された円錐台形の内壁(36)を含んでおり、前記カプセルが、重力の作用によってより小さな直径端からより大きな直径端へと運ばれる、請求項22に記載の装置。
- 前記メッシュバスケット(30)のステージ(34)が、円筒状で、前記円筒を貫くらせん経路を画定するように配置された内部要素(38)がそれに含まれており、それによって前記カプセルが前記内部要素のねじ作用によって前記ステージの第1の端部から第2の端部へと輸送される、請求項22または23に記載の装置。
- 前記メッシュバスケット(30)の前記第1のステージ(32)が、その中心軸を水平にして配置された円錐台形の内壁(36)を含んでおり、前記カプセルが、重力の作用によってより小さな直径端からより大きな直径端へと運ばれ、前記メッシュバスケットの前記第2のステージ(34)が、円筒状で、前記第1のステージと同軸となるように配置されており、前記第2のステージ(34)には、前記円筒を貫くらせん経路を画定するように配置された内部要素(38)が含まれており、それによって前記カプセルが前記内部要素のねじ作用によって前記第2のステージの第1の端部から第2の端部へと輸送される、請求項24に記載の装置。
- 前記バスケット(30)の回転スピードが、20〜100秒、好ましくは30〜70秒の、前記融着ステーション(4)内の前記カプセルについての滞留時間を提供するように選択される、請求項22から25のいずれかに記載の装置。
- 互いに入れ子式に接合されたときに重なり合い、それによってハードシェルカプセルの周りに周方向の隙間を形成する同軸の本体部分を有する前記ハードシェルカプセルを封止する方法であって、
(i)前記カプセル(15)をカプセル運搬アセンブリ(3)内の静止封止位置(52)に置くステップと、
(ii)前記封止位置(52)で、封止流体を前記カプセルの前記隙間に均一に適用するステップと、
(iii)前記封止位置(52)から角度的に離隔された静止吸引位置(53)へと前記カプセル(15)を回転させるステップと、
(iv)前記吸引位置(53)で、前記カプセルから過剰な封止液体を除去するために前記カプセル(15)の周りに低圧の領域を提供するステップとを含む方法。 - 前記吸引位置(53)が前記封止位置(52)から角度的に90°離隔される、請求項27に記載の方法。
- 前記カプセル(15)が、静止装填位置(51)でキャビティ(14)内に装填され、次いでその封止位置(52)へと回転され、前記封止位置が好ましくは前記装填位置(51)から角度的に90°離隔される、請求項27または28に記載の方法。
- 前記カプセル(15)が、垂直位置で装填され、水平位置で封止される、請求項29に記載の方法。
- 前記カプセルが、前記吸引位置から、好ましくは前記吸引位置から角度的に90°離隔された静止取出位置へと回転され、次いでカプセル運搬アセンブリ(2)から取り出される、請求項27から30のいずれか一項に記載の方法。
- 前記封止位置(52)から前記吸引位置(53)、および前記吸引位置(53)から前記取出位置(54)へと前記カプセル(15)が回転されるとき、前記カプセルの周りに低圧の領域が提供される、請求項31に記載の方法。
- 前記カプセル(15)の周りの低圧が、0.2〜2秒の範囲内、好ましくは1〜1.5秒の範囲内、より好ましくは1.33秒に等しい、前記封止位置(52)と前記取出位置(54)との間の滞留期間にわたって提供される、請求項32に記載の方法。
- 前記カプセル(15)の周りに提供される低圧が、10000〜60000N/m2(100〜600ミリバール)の範囲内、好ましくは25000〜35000N/m2(250〜350ミリバール)の範囲内にある、請求項27から33のいずれか一項に記載の方法。
- [(100000/低圧(N/m2))×滞留時間(秒)]として計算される乾燥効率が少なくとも1.2である、組み合わされた請求項33および34に記載の方法。
- 前記カプセル(15)を融着ステーション(4)の第1の端部から第2の端部へと輸送しながら融着熱源(40)を適用することによって、前記隙間内で前記封止流体によって形成されたシールを硬化させるステップをさらに含む、請求項27から35のいずれか一項に記載の方法。
- 前記カプセル(15)が、タンブリングまたは攪拌なしに前記融着ステーション(4)の少なくとも一部分を通って輸送される、請求項36に記載の方法。
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