JP5191674B2 - レーザーアニール装置及びレーザーアニール方法 - Google Patents
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Description
ールを行い、レーザービームは、ビームホモジナイザにより分割されたレーザービームの一方に位相差を与える位相差板、複屈折結晶、波長板の少なくとも1つを通過することを特徴とする。
y = f・r2 / r1
を得る。ここで、レーザービームLの長手方向における光導波管12の長さをlとするとこの導波管の中でのレーザービームの反射回数mは、
m=l/2yと表すことができる。
そうすると、上記各式から、分割数(2m+1)は、
2m+1={(l・r1)/(f・r2)}+1
で表すことができ、分割数は、レーザービームの半径、シリンドリカルレンズ12の焦点距離及び光導波管の外寸で決定されていることが明らかである。
を満たすように構成され、第2のスリット板の開口部171の長手方向の長さY171は、Y171≦Y×(X2−X4)/X1を満たすように構成されているという関係を満たすように設置されることが好ましい。このような関係を満たせば、レーザービームの強度分布が均一な部分のみレーザーアニールに用いることができるだけでなく、スリット板をひとつだけ設けた場合と比べて、レーザービームで加熱されて生じる熱量を大幅に減少させて強度分布が均一なレーザービームを幅広く得ることができる。
(比較例1)
(比較例2)
12 一方向シリンドリカルレンズ 13 光導波管
14 結像レンズ 15 フォーカスレンズ
16 第1のスリット板 17 第2のスリット板
18 載置台 161 開口部
171 開口部 L レーザービーム
Claims (7)
- レーザー発振器、レーザービームを2以上に分割させるビームホモジナイザ、分割されたレーザービームを一つに重ね合わせる集光手段、及び重ね合わされたレーザービームが照射される基板を載置する載置台を備えたレーザーアニール装置であって、
集光手段と載置台との間に2つのスリット板がレーザービームの照射方向に間隔を存して配置され、
レーザービームの照射方向上流側に位置するスリット板の開口部の長手方向の長さは、レーザービームの長手方向の長さより短く、且つ、レーザービームの照射方向下流側に位置するスリット板の開口部の長手方向の長さより大きくなるように、ビームホモジナイザの射出口と集光手段としての結像レンズとの距離をX1、結像レンズと載置台との距離をX2、レーザー発振器側のスリット板と載置台との距離をX3、載置台側のスリット板と載置台との距離をX4、ビームホモジナイザの射出口の一辺の長さをYとすると、
レーザー発振器側のスリット板の開口部の長手方向の長さY1は、Y1>Y×(X2−X3)/X1を満たすように構成され、
載置台側のスリット板の開口部の長手方向の長さY2は、Y2≦Y×(X2−X4)/X1を満たすように構成され、
レーザービームの光路中に設けられ、レーザービームの干渉を低減するレーザービーム干渉低減手段が配置されることを特徴とするレーザーアニール装置。 - 前記レーザービーム干渉低減手段として、ビームホモジナイザにより分割されたレーザービームの一方に位相差を与える位相差板、複屈折結晶、波長板のうちの少なくとも1つを配置することを特徴とする請求項1記載のレーザーアニール装置。
- 前記各スリット板のうち少なくとも1つのスリット板が、冷却手段を備えたことを特徴とする請求項1または2記載のレーザーアニール装置。
- 前記各スリット板のうち少なくとも1つのスリット板が、スリット板にあたるレーザービームを反射させる反射手段を備えたことを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載のレーザーアニール装置。
- レーザービーム発振器から射出されたレーザービームをビームホモジナイザで2以上に分割し、次いで、分割したレーザービームを一つに重ね合わせ、この重ね合わせたレーザービームを基板に照射してレーザーアニールを行うレーザーアニール方法であって、
重ね合わせたレーザービームを、基板に照射する前に、2以上配置されたスリット板の各開口部で、その長手方向の長さがレーザービームの長手方向の長さより短く、基板に近づくにつれて順次短くなる各開口部を通過させ、次いで、スリット板の開口部を通過したレーザービームを、アニール対象物に照射してレーザーアニールを行い、
レーザービームは、ビームホモジナイザにより分割されたレーザービームの一方に位相差を与える位相差板、複屈折結晶、波長板の少なくとも1つを通過することを特徴とするレーザーアニール方法。 - 前記スリット板に設けられた冷却手段によって、レーザービームがあたって加熱されたスリット板を冷却しながらレーザーアニールを行うことを特徴とする請求項5記載のレーザーアニール方法。
- 前記スリット板に設けられたレーザービーム反射手段によって、レーザービームの一部を反射して、スリット板が加熱されることを防止しながらレーザーアニールを行うことを特徴とする請求項5または6記載のレーザーアニール方法。
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