JP5173907B2 - 配線基材の製造方法 - Google Patents
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Description
また、通常、基材としては、ポリエチレンテレフタレート(PET)などからなるプラスチックフィルムが用いられるが、熱硬化型の導電性ペーストを加熱する温度は、プラスチックフィルムの軟化点を超えるため、プラスチックフィルムが収縮することがあった。すると、プラスチックフィルムの収縮に伴って、その一方の面に形成されたアンテナにも歪みが生じ、共振周波数、通信距離などのアンテナ特性が劣化するという問題があった。
なお、この形態は、発明の趣旨をより良く理解させるために具体的に説明するものであり、特に指定のない限り、本発明を限定するものではない。
まず、長尺の光透過性基材11を、その長手方向(図1に示す矢印方向)に搬送しながら、スクリーン印刷、インジェット印刷などの印刷法により、光透過性基材11の一方の面11aに、紫外線硬化型の導電性ペーストからなる多数のアンテナパターン12を等間隔に形成する(工程A)。
ここでは、アンテナパターン12は、ダイポールアンテナの形状をなしている。
紫外線硬化型の導電性ペーストとしては、例えば、熱可塑性樹脂のみ、あるいは、熱可塑性樹脂と架橋性樹脂(特にポリエステルとイソシアネートによる架橋系樹脂など)とのブレンド樹脂組成物に、導電微粒子が60質量%以上配合され、ポリエステル樹脂が10質量%以上配合されたもの、すなわち、溶剤揮発型かあるいは架橋/熱可塑併用型(ただし熱可塑型が50質量%以上である)のものや、熱可塑性樹脂のみ、あるいは熱可塑性樹脂と架橋性樹脂(特にポリエステルとイソシアネートによる架橋系樹脂など)とのブレンド樹脂組成物に、ポリエステル樹脂が10質量%以上配合されたもの、すなわち、架橋型かあるいは架橋/熱可塑併用型のものなどが好適に用いられる。
この回折格子22は、図4に示すように、搬送台21の一方の面21aに、周期的(等間隔)に形成された多数の溝22aから構成される。
この回折格子21の形成方法としては、搬送台21の一方の面21aに機械的に溝22aを刻線する機械的方法、搬送台21の一方の面21aに塗布したフォトレジスト膜に、2光束干渉による干渉縞を露光・現像し、フォトレジストパターンを形成し、それをエッチングすることにより、搬送台21の一方の面21aに溝22aを形成するホログラフィック法が用いられる。
回折格子22の溝22aの間隔(格子周期)をd、紫外線41の波長をλ、紫外線41の入射角(ここでは、搬送台21の一方の面21aに対する入射角)をα、反射光42の反射角(ここでは、紫外線41とのなす角)をβ、回折次数(回折格子によって回折された光の方向を示す正負の整数)をk(0、±1、±2、・・・)とすると、これらd、λ、α、βおよびkは、下記の式(1)の関係を満たす。
kλ=d(sinα+sinβ) (1)
ここで、反射角βが、45°<b<90°の範囲内であるとすると、上記の式(1)から、
0.701<kλ/d<1 (2)
となる。さらに、上記の式(2)を変形すると、
kλ<d<kλ/0.707 (3)
となり、kは0でなく、かつ、k>0であるから、
365k<d(nm)<516k (4)
となる。ここで、k=1(1次回折光)と仮定すると、
365(nm)<d<516(nm) (5)
となる。
その結果、搬送台21の一方の面21aに対して垂直に入射した紫外線41のうち、波長365nm〜516nmの紫外線が、回折格子22にて45°〜90°の反射角で反射する。
また、この実施形態では、光透過性基材11に対するアンテナパターン12の形成、および、紫外線41の照射を、光透過性基材11を搬送しながら行う場合を例示したが、本発明の配線基材の製造方法はこれに限定されない。本発明の配線基材の製造方法にあっては、静置した光透過性基材に対して配線パターンを形成し、その状態を保ったまま、配線パターンに紫外線を照射して、配線を形成してもよい。
また、この実施形態では、アンテナパターン12が形成された光透過性基材11が搬送台21の一方の面21aの所定位置まで搬送されてくると、アンテナパターン12の外縁に沿って、回折格子22が配置されるような搬送台21を用いた場合を例示したが、本発明の配線基材の製造方法はこれに限定されない。本発明の配線基材の製造方法にあっては、搬送台などをなす金属板の一方の面全面に回折格子が設けられていてもよい。このようにすれば、金属板の一方の面において、光透過性基材がどこにあっても、光透過性基材の裏面に紫外線の反射光を照射することができる。
Claims (2)
- 光透過性基材の一面に、印刷により、紫外線硬化型の導電性ペーストからなる配線パターンを形成する工程Aと、
前記配線パターンに紫外線を照射し、前記配線パターンを硬化させて、配線を形成する工程Bと、を有する配線基材の製造方法であって、
前記工程Bにおいて、前記配線パターンを表面側にして、前記配線パターンが形成された光透過性基材を、金属板の一面に配置し、前記配線パターンの表面側から照射した紫外線の一部を、前記金属板の一面に設けられた回折格子にて反射させて、その反射光を前記配線パターンの裏面側に照射することを特徴とする配線基材の製造方法。 - 前記回折格子は、前記金属板の一面に、前記配線パターンが形成された光透過性基材を配置した場合、少なくとも前記配線パターンの外縁に配置されるように設けられたことを特徴とする請求項1に記載の配線基材の製造方法。
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