JP5169158B2 - 基板加熱処理装置 - Google Patents
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Description
従来、基板の加熱は、常温外気をヒーターにて加熱して、該加熱空気をチャンバー内に供給し、該チャンバー内の気体を循環させつつ適宜排気して行われている。かかる動作を行う基板加熱処理装置において、基板に薄膜途布された樹脂材料を燃焼硬化する際に、昇華物が発生する。昇華物がチャンバー内に蓄積することを防止するために、チャンバー内を相当量の加熱空気で換気をする必要がある(特許文献1〜3)。
すなわち、基板加熱処理装置における給気の加熱の負荷が大きいだけでなく、当該基板加熱処理装置が設置された工場全体の負荷(クリーンルーム全体の循環換気負荷、熱排気系統のユーティリティー負荷)も大きいという問題があった。
従って、本発明が解決しようとする課題には、前述した問題が1例として挙げられ、本発明の目的は、給気の加熱の負荷が小さく、当該基板加熱処理装置が設置された工場全体の負荷(クリーンルーム全体の循環換気負荷、熱排気系統のユーティリティー負荷)も小さい基板加熱処理装置と基板加熱処理方法を提供することにある。
本発明の基板加熱処理装置は、基板の加熱処理空間と、前記加熱処理空間内に給気を行う給気手段と、前記加熱処理空間から排気を行う排気手段と、を備え、前記給気手段は加熱手段と給気量制御手段を含み、前記排気手段は排気量制御手段を含み、前記給気量制御手段および前記排気量制御手段は、前記加熱処理空間への前記基板の投入量を移動平均で監視して、給気量及び排気量制御する給排気制御手段に接続されている、ことを特徴とする。
即ち、本発明は、基板の加熱処理空間と、前記加熱処理空間内に給気を行う給気手段と、前記加熱処理空間から排気を行う排気手段と、を備え、前記給気手段は加熱手段と給気量制御手段を含み、前記排気手段は排気量制御手段を含み、前記給気量制御手段および前記排気量制御手段は、前記加熱処理空間へ投入される基板の投入量に対応する投入パラメータを移動平均で監視しかつ給気量及び排気量を制御する給排気制御手段と接続している、ことを特徴とする基板加熱処理装置である。
この場合、前記給排気制御手段は、前記加熱処理空間に投入中及び投入予定の基板の枚数データを受信しかつ前記枚数データを基に前記投入パラメータを設定する基板枚数監視手段を含むことを特徴とすることが好ましい。
また、前記給排気制御手段は、前記加熱処理空間に投入される基板のタクトタイムデータを受信しかつ前記タクトタイムデータを基に前記投入パラメータを設定するタクトタイム監視手段を含むことを特徴とすることが好ましい。
図1に示す如く、基板加熱処理装置1は、加熱処理空間(チャンバー)2を備えており、加熱処理空間2には、給気手段3および排気手段4が接続されている。
加熱処理空間2は、複数枚の基板5を収容することができる。例えば、加熱処理空間2は20場合段の基板保持棚を有し、最大20枚の基板を収容することができる。加熱処理空間2と給気手段3との間には、HEPAフィルタ2aが設けられている。
給気手段3は、常温のクリーンルーム雰囲気の外気を加熱処理空間2に導入するためのものであって、給気を導くための給気管6と、給気管6に備え付けられかつ給気量を制御する給気量制御手段(給気ダンパー)7と、給気量制御手段7を通過した給気を加熱する加熱手段8と、を有する。給気量制御手段7は、モーター9によって駆動するスライド部10を備えており、この場合は、モーター駆動によるスリット開口調整方式を採用している。すなわち、スライド部10はスリット(図示せず)を開閉することによって給気量の制御を行っている。
排気手段4は、加熱処理空間2から排気する気体を導く排気管11と、排気管11に設けられている排気ブロア12aと排気ブロア12aと接続しているインバーター12bとを含む排気量制御手段12と、を有する。インバーター12bは、加熱処理空間内の静圧が維持できるように排気ブロア12aによる排気量を制御する。
給排気制御手段13は、モーター9の駆動制御を行うことによって、スライド部10の位置制御を行う。スライド部10の位置に応じてスリットの開口量が変化する故、給気量の制御は、スリットの開口量を基にしたスライド部10の位置制御によって行われる。
スリットの開口量は多段階に設定することができる。例えば、駆動モード1〜10及びアイドリングモードの11段階に設定することができる。ここで、アイドリングモードはスリットの開口量を最小とし、駆動モード1から駆動モード10に向けて開口量を漸次増やし、駆動モード10において開口量が最大となるように設定する。なお、モーター9によるスライド部10の移動速度は、給排気制御手段13によって任意に設定できる。
また、給排気制御手段13は、インバーター12bの周波数を制御して排気ブロア12aによる排気量制御を行う。周波数は、多段階に設定することができる。例えば、駆動モード1〜10及びアイドリングモードの11段階に設定することができる。ここで、アイドリングモードは周波数を最小とし、駆動モード1から駆動モード10に向けて周波数を漸次高くし、駆動モード10において周波数が最大となるように設定する。
かかる給排気制御手段13は、加熱処理空間2に投入中の基板及び投入予定の基板(すなわち基板加熱処理装置の上流側に待機している基板)の枚数に関する枚数データを送信する枚数データ送信部14と接続している。枚数データ送信部14は、基板加熱処理装置を含むライン全体のラインコントローラ(図示せず)に保持されているトラッキングデータを基に該枚数データを求め、給排気制御手段13に含まれる基板枚数監視手段13aへ該枚数データを送信する。基板枚数監視手段13aは、枚数データ送信部14から受信した枚数データを基に投入パラメータを設定する。該投入パラメータは加熱処理空間2へ投入される基板5の投入量に対応しており、給排気制御手段13は該投入パラメータを移動平均で監視して、給気量及び排気量の制御を行う。
また、給排気制御手段13は、加熱処理空間2に投入される基板のタクトタイムに関するタクトタイムデータを送信するタクトタイムデータ送信部15と接続していても良い。ここで、タクトタイムとは、加熱処理空間に基板が投入されてから次の基板が投入されるまでの時間をいう。タクトタイムデータ送信部15は、該タクトタイムを監視しかつ給排気制御手段13に含まれるタクトタイム監視手段13bへ該タクトタイムデータを送信する。タクトタイム監視手段13bは、タクトタイムデータ送信部15から受信したタクトタイムデータを基に投入パラメータを設定する。該投入パラメータは加熱処理空間2へ投入される基板5の投入量に対応しており、給排気制御手段13は該投入パラメータを移動平均で監視して、給気量及び排気量の制御を行う。
なお、給排気制御手段13は、単純移動平均、加重移動平均及び指数加重移動平均などの移動平均を利用することができる。
まず、給排気制御手段13は、枚数データ送信部14から枚数データを受信し、加熱処理空間2に投入中の基板及び投入予定の基板の数に関する情報を取得する。ここで、給排気制御手段13は、加熱処理空間2に投入中の基板枚数の移動平均値に応じて、モーター9の駆動制御およびインバーター12bの周波数を制御する。かかる制御は多段制御で行われ、例えば、加熱処理空間2に投入中の基板枚数の移動平均値(Ma1)が、0<Ma1≦2枚のときは駆動モード1、2<Ma1≦4枚のときは駆動モード2、4<Ma1≦6枚のときは駆動モード3、と投入中の基板枚数の移動平均値(Ma1)が大となるに従って駆動モードの次元を高くし、18<Ma1≦20枚のとき駆動モード10とする。また、投入中の基板枚数の移動平均値(Ma1)が0枚のとき、アイドリングモードとする。駆動モード1〜10及びアイドリングモードの各種モードに対応して、スリットの開口量(給気量)及びインバーターの周波数(排気ブロアの排気量)が設定されており、給排気制御手段13が適切なモードを選択することによって、給排気量が制御される。
なお、加熱処理空間2に投入中の基板枚数の移動平均値(Ma1)が0枚でアイドリングモードとなっている場合、給排気制御手段13は、アイドリングモードとなってからの経過時間及び加熱処理空間2に投入予定の基板枚数の移動平均値(Ma2)を基に、適宜駆動モードを実行する。かかる動作を行うことによって、加熱処理空間内の温度条件等を維持することができる。
また、加熱処理空間2に基板が投入されている場合においても、投入枚数に対応する駆動モードとは異なる駆動モードを適宜実行することとしても良い。さらに、投入枚数に対応する駆動モードとは異なる駆動モードを実行する場合、加熱処理空間2に投入予定の基板枚数を基にモードの選択が実施されてもよい。何れの場合においても、加熱処理空間2の温度条件等を好適に維持することができる。
実施例として、基板加熱処理装置1の最短のタクトタイムを60秒とする。また、基板加熱処理装置1は、基板洗浄、レジストコート、露光、現像及び加熱乾燥の順に行われるラインの加熱乾燥工程に適用されるものとする。さらに、基板加熱処理装置1は、図2に示す如きレイアウトのライン中に設置されているものとする。
図2に示す如く、基板加熱処理装置1への基板の投入及び取り出しは、搬送ロボット16を用いて行われ、搬送ロボット16は基板加熱処理装置の近傍に配置される。搬送ロボット16の近傍には、未加熱処理の基板を搬送ロボット16に向けて搬送する上流クリーンベンチ17と、基板加熱処理装置1から取り出した加熱処理済み基板を冷却する冷却モジュール18と、冷却モジュール18から取り出した冷却済み基板を搬送する下流クリーンベンチ19と、が設けられている。搬送ロボット16は、上流クリーンベンチ17、基板加熱処理装置1、冷却モジュール18及び下流クリーンベンチ19の順に基板を搬送する。
冷却モジュール18は、7段の基板保持棚を有する冷却空間を備え、基板1枚あたり7分間の冷却(タクトタイム60秒×7)を行うことができる。なお、加熱処理空間2における基板の加熱(焼成)は、基板1枚あたり20分間実施される(タクトタイム60秒×20)。
タクトタイムの計測は、上流クリーンベンチ17から搬送ロボット16が基板を取り出して加熱処理空間2内に投入した直後をスタートとし、次の基板が上流クリーンベンチ17から流れてきて搬送ロボット16が加熱処理空間2に投入した直後をエンドとして、実施した。
まず、給排気制御手段13は、タクトタイムデータ送信部15からタクトタイムデータを受信する。ここで、給排気制御手段13は、加熱処理空間2に投入された過去20枚分のタクトタイムの移動平均値(Ma3)を求め、該移動平均値(Ma3)に応じて、モーター9の駆動制御およびインバーター12bの周波数を制御する。かかる制御は多段制御で行われ、例えば、移動平均値(Ma3)が64秒以下(Ma3≦64秒)の場合は駆動モード10、64<Ma3≦71秒の場合は駆動モード9、71<Ma3≦80秒の場合は駆動モード8、とタクトタイムの移動平均値(Ma3)が大となるに従って駆動モードの次元を低くし、Ma3≧400秒の場合は駆動モード1とする。駆動モード1〜10及びアイドリングモードの各種モードに対応して、スリットの開口量(給気量)及びインバーターの周波数(排気ブロアの排気量)が設定されており、給排気制御手段13が適切なモードを選択することによって、給排気量が制御される。なお、本実施例における移動平均値は、直近の過去20枚のタクトタイムの単純移動平均値である。
なお、給排気制御手段13が、ライン全体のラインコントローラ(図示せず)からロット終了信号を受信した場合、当該ロットの最後の基板が加熱処理空間2を出た時点でアイドリングモードを実行する。また、給排気制御手段13が、ラインコントローラからメンテナンス開始信号を受信した場合、メンテナンス開始信号を受信してから全ての基板が加熱処理空間2を出た時点でアイドリングモードを実行する。
さらにまた、給排気制御手段13が、ラインコントローラからロット開始信号を受信した場合、受信直後に駆動モード1を実行する。さらに、給排気制御手段13が、ラインコントローラからメンテナンス終了信号を受信した場合も、受信直後に駆動モード1を実行する。
なお、給排気制御手段13が、アイドリングモード中に基板加熱処理装置1よりもラインの上流の指定位置(たとえば上流クリーンベンチ17)を基板が通過したという情報を受信した場合、受信直後に駆動モード1を実行する。
以上、基板加熱処理装置1の制御について、枚数データを用いて実施する場合とタクトタイムデータを用いて実施する場合の2つの場合を各々単独で実行する場合について説明したものの、これに限定されず、かかる2通りの制御を適宜組み合わせて実行しても良い。
基板加熱処理装置の稼働状況に応じて、加熱処理空間への給気及び排気を制御することができる故、稼働率が低い場合には、給気の加熱の負荷、及び当該基板加熱処理装置が設置された工場全体の負荷(クリーンルーム全体の循環換気負荷、熱排気系統のユーティリティー負荷)を低減することができる。したがって、エネルギーを無駄に消費することなく、ランニングコストを低減させることができる。
2 加熱処理空間
3 給気手段
4 排気手段
7 給気量制御手段
12 排気量制御手段
13 給排気制御手段
Claims (3)
- 基板の加熱処理空間と、
前記加熱処理空間内に給気を行う給気手段と、
前記加熱処理空間から排気を行う排気手段と、を備え、
前記給気手段は加熱手段と給気量制御手段を含み、
前記排気手段は排気量制御手段を含み、
前記給気量制御手段および前記排気量制御手段は、前記加熱処理空間へ投入される基板の投入量に対応する投入パラメータを移動平均で監視しかつ給気量及び排気量を制御する給排気制御手段と接続している、ことを特徴とする基板加熱処理装置。 - 前記給排気制御手段は、前記加熱処理空間に投入中及び投入予定の基板の枚数データを受信しかつ前記枚数データを基に前記投入パラメータを設定する基板枚数監視手段を含むことを特徴とする請求項1記載の基板加熱処理装置。
- 前記給排気制御手段は、前記加熱処理空間に投入される基板のタクトタイムデータを受信しかつ前記タクトタイムデータを基に前記投入パラメータを設定するタクトタイム監視手段を含むことを特徴とする請求項1記載の基板加熱処理装置。
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