JP5139133B2 - 塗布膜の硬化装置及びその装置を用いた光学フィルムの製造方法 - Google Patents

Description

本発明は塗布膜の硬化装置に係り、特に、酸素濃度を自在に制御した条件下において塗布膜を硬化させるのに好適な塗布膜の硬化装置に関する。

近年、光学フィルムの需要が増加しつつある。この光学フィルムとしては、液晶セルに位相差板として使用される光学補償フィルムや、反射防止フィルム、防眩性フィルム等の各種の機能を有するフィルムが代表的である。

このような光学フィルムの製造方法の代表的なものとして、帯状の可撓性フィルム（以下、「可撓性フィルム」という）の表面に各種塗布装置を使用して塗布液を塗布し、これを乾燥させ、その後に硬化させて各種組成の塗布膜を形成する方法が挙げられる。この硬化にはＵＶ（紫外線）硬化手段が採用されることが多い。

このようなＵＶ硬化工程における、硬化効率は生産性の向上や製品の品質向上を図る上で重要である。特に酸素が介在すると、重合／架橋過程において阻害因子となり、塗布膜の強度や下地基材である可撓性フィルムと塗布膜との結合性が低下することになり、ひいては塗布膜の硬度や密着力などが低下することが知られている。

すなわち、通常、塗布膜はモノマーといわれる低分子の樹脂をＵＶ光により重合させ高分子化して形成されるが、ＵＶ照射の下では酸素濃度を低下させる場合が多い。これは、ＵＶ照射の下では、開始剤より発生するラジカルが樹脂の重合に大きな役割を果たすが、酸素が存在するとこのラジカルが消失してしまうからである。したがって、酸素濃度を下げることが重要である。

このような酸素の介在に対処する方法や装置としては、従来から各種の提案がなされている（特許文献１参照。）。

この提案は、ＵＶ照射部分を不活性ガスで充填し酸素を除去する構成を採用している。具体的には、照射部分全体を金属部材等で覆い、その中に不活性ガスを導入している。これにより、ＵＶ照射部分の酸素濃度を１０００ｐｐｍ以下に保持できるとされている。

また、他に、不活性ガス消費量を低減しながら硬化ムラの少ない均一な表面硬度を得る提案がなされている（特許文献２参照。）。この提案においては、反応室の酸素濃度を下げるため、紫外線照射器と反応室を隔離し反応室出入り口へシール機構を設けた構成を採用している。

しかし、特許文献１の提案は、紫外線照射ランプの冷却風が処理ゾーン内へ侵入しやすい構造であり、また、走行する支持体とケーシングとの間隙が大きく、更に、硬化処理ゾーン内にデッドスペ―スが存在している、等の理由により、所定の酸素濃度に下げるまで時間がかかり、不活性ガスの供給量も多くなる。

また、特許文献２の提案は、反応室が大きいため、所定の酸素濃度に下げるまで時間がかかり、不活性ガスの供給量も多くなる。そして、この装置での酸素濃度下限到達レベルは３００ｐｐｍである。また、紫外線硬化型材料出入口のシール手段として不活性ガスを使用している。更に、この装置レイアウトでは、紫外線硬化型材料そのものが紫外線照射により塑性変形する可能性があり、高出力の紫外線照射には不向きである。

そこで、出願人は、特許文献３に示す塗布膜の硬化装置を提案した。この硬化装置は、ケーシングが配置されるローラ円周方向の角度βが可撓性フィルムのローラへの巻き掛け角度αよりも小さくすることで、可撓性フィルムのバタツキに影響されずにケーシングを可撓性フィルム面に近接させることができるようにした。また、ケーシングの側壁下端を可撓性フィルムに向けて伸縮できるようにして、側壁下端と可撓性フィルム面との隙間をできるだけ小さくできるように工夫されている。これにより、ケーシングの側壁下端と可撓性フィルム面とのクリアランスを０．５〜１０ｍｍに制御可能になったとされる。
特開平１１−１０４５６２号公報 特開平１１−２６８２４０号公報 特開２００７−７５７９４号公報

特許文献３の硬化装置の構成は、特許文献１、２に比べて酸素濃度が小さな脱酸素雰囲気を形成できるものの未だ充分とは言えず、更なる改良が必要である。また、塗布膜を硬化すると、可撓性フィルムにカールが生じ易い傾向にあり、ケーシングの側壁下端を可撓性フィルム面に近づけ過ぎると、脱酸素雰囲気形成の点では良くなるが、カールした可撓性フィルムが側壁下端に接触することがあるという問題がある。

したがって、塗布膜の硬化により可撓性フィルムがカールすることも配慮して、ケーシングと可撓性フィルムとを特許文献３ほど近づけ過ぎなくてもケーシング内の酸素濃度を充分に下げることができる塗布膜の硬化装置が要望されていた。

本発明は、このような事情に鑑みてなされたもので、可撓性フィルムが連続走行する条件下であっても、ケーシングと可撓性フィルム面とを近づけ過ぎないで酸素濃度を充分に下げ得る囲み空間を形成できるので、少ない不活性ガスの供給量で囲み空間内に低酸素濃度の脱酸素雰囲気を形成できると共に、塗布膜が硬化することにより可撓性フィルムがカールしてもケーシングに接触することがない塗布膜の硬化装置を提供することを目的とする。

本発明は、前記目的を達成するために、裏面がローラに巻き掛け支持されて連続走行する帯状の可撓性フィルムの表面に形成されている活性線硬化性の塗布膜に活性線を照射して前記塗布膜を硬化する塗布膜の硬化装置において、前記硬化装置は、前記可撓性フィルムのローラ支持面に対向する面が開口された箱状に形成され、前記可撓性フィルムに近接するように覆うことにより、前記可撓性フィルム面とで囲まれた略密閉な囲み空間を形成するケーシングと、前記囲み空間内に不活性ガスを供給して前記囲み空間内に脱酸素雰囲気を形成する不活性ガス供給部と、前記ケーシングの透明部分から前記囲み空間を介して前記活性線を前記塗布膜に向けて照射する活性線照射部と、を備え、前記ケーシングには、該ケーシングの前記開口から前記ローラ支持面の形状に倣って鍔状のフランジ部分が延設され、前記フランジ部分の面と前記可撓性フィルムのローラ支持面との離間距離が、２０ｍｍ以上、５０ｍｍ以下であると共に、前記フランジ部分の前記鍔状の幅が、１０ｍｍ以上１００ｍｍ以下であるように形成し、前記囲み空間に供給された不活性ガスを、前記ケーシングの前記開口から前記塗布膜面に向けて吹き出すと共に、前記可撓性フィルムは、その幅方向両端部に未塗布部分を有して前記塗布膜が形成され、前記可撓性フィルム幅方向における前記フランジ部分は、前記未塗布部分に対面していることを特徴とする塗布膜の硬化装置を提供する。

ここで、「可撓性フィルムのローラ支持面」とは、ローラ面に接触している可撓性フィルムの領域をいい、この領域では可撓性フィルムのバタツキが抑制される。また「活性線」とは、電子線や紫外線、及び可視光線を言い、取り扱い易さの点から紫外線が好ましい。

可撓性フィルムが連続走行する条件下においては、従来のケーシングの開口を可撓性フィルムの面にできるだけ近づけるだけの構造では、囲み空間内に供給された不活性ガスが漏れてしまい、囲み空間内の酸素濃度を充分（例えば１００ｐｐｍ以下（体積％））に低減できない。

この理由は、可撓性フィルムの走行によりフィルム表面に同伴風が発生し、この同伴風が囲み空間を形成するケーシングの開口と可撓性フィルムの面の僅かな隙間（入口側の隙間）から囲み空間内に進入して囲み空間内の酸素濃度を押し上げる。また、囲み空間内に供給した不活性ガスが、同伴風に同伴して囲み空間の出口側の隙間から逃げてしまう。

そこで、請求項１の発明によれば、ケーシングの開口からローラ支持面の形状に倣って鍔状のフランジ部分を延設させ、囲み空間に供給された不活性ガスをフランジ部分の内周開口から吹き出して塗布膜に当てるようにした。これにより、囲み空間から不活性ガスが逃げにくくなると共に、同伴風が囲み空間に進入しにくくなるので、囲み空間内の酸素濃度を自在に制御した条件下（低酸素濃度）において塗布膜を高速度で硬化させることができる。

即ち、従来のケーシングの開口を可撓性フィルムに近づけるのに比べて、フランジ部分の面と可撓性フィルムの面との面同士が対抗する間には、通気抵抗が大きな狭隘な面状隙間が形成される。この面状隙間を形成することにより、囲み空間に不活性ガスを供給したときに、外圧（ケーシングの外側の圧力）に対する囲み空間の内圧を増大させることができるので、同伴風が囲み空間に進入しにくくなると共に不活性ガスが外部に逃げにくくなる。また、面状隙間の大きな通気抵抗が同伴風を遮風する役目を行う。これらの理由により、囲み空間内に極めて低酸素な脱酸素雰囲気を形成することができる。

したがって、ケーシングと可撓性フィルム面とを従来ほど（例えば１０ｍｍ以下）に近づけ過ぎなくてもケーシング内の酸素濃度を充分に下げ得る囲み空間を形成できるので、塗布膜の硬化により可撓性フィルムがカールしてもケーシングに接触しにくくなり、品質不良の発生防止に寄与する。また、囲み空間から不活性ガスが逃げにくくなるので、少ない不活性ガスの供給量で囲み空間内を低酸素レベルにすることができる。

これにより、酸素濃度を自在に制御した条件下（低酸素濃度）において塗布膜を高速度で硬化させ、塗布膜の品質を向上させるとともに、生産性を大幅に向上させ、また、不活性ガス供給量を低減することができる。

請求項１の発明によれば、塗布膜の硬化による可撓性フィルムのカールを考慮して、フランジ部分の面とローラ支持面との離間距離を、２０ｍｍ以上５０ｍｍ以下に設定したときに面状隙間に充分な通気抵抗を発揮させるには、フランジ部分の幅は、１０ｍｍ以上１００ｍｍ以下の範囲が好ましいからである。１０ｍｍ未満では充分な通気抵抗が得られず、１００ｍｍを超えると、ケーシングの透明部分から塗布膜に活性線を照射するときに、照射光路の邪魔になる。

事実、この構成により、囲み空間内の酸素濃度を１００ｐｐｍ（体積％）以下まで低下させることができ、しかも塗布膜の硬化により可撓性フィルムがカールしてもケーシングに接触することはなかった。

請求項１によれば、可撓性フィルム幅方向におけるフランジ部分を、可撓性フィルムの両端部であって塗布液が塗布されていない未塗布部分に対面させるようにしたので、ケーシングから吹き出された不活性ガスは塗布膜面に効率的に当てることができる。

請求項２、請求項３、請求項４は、フランジ部分の各種形態を示したものであり、ケーシングの側壁に対して内側に折曲している場合、外側に折曲している場合、内側と外側の両方に折曲している場合である。

請求項５は請求項１〜４の何れかに記載において、前記フランジ部分は、前記ケーシングの側壁下端に支持されたフランジ本体部と、前記フランジ本体部にスライド自在に支持され、前記可撓性フィルムの幅方向にスライド可能なスライド板と、で構成されていることを特徴とする。

可撓性フィルムの幅や、可撓性フィルムに塗布される塗布膜の幅は一定ではなく、製造されるロットにより変わるのが通常である。請求項５によれば、スライド板をフランジ本体部に対して可撓性フィルム幅方向にスライドできるようにしたので、製造される製品ロットにより塗布幅が変わっても、硬化が必要な塗布膜の幅に応じて調整できる。

以上説明したように、本発明によれば、可撓性フィルムが連続走行する条件下であっても、ケーシングと可撓性フィルム面とを近づけ過ぎないで酸素濃度を充分に下げ得る囲み空間を形成できるので、少ない不活性ガスの供給量で囲み空間内に低酸素濃度の脱酸素雰囲気を形成できる。また、塗布膜が硬化することにより可撓性フィルムがカールしてもケーシングに接触することがない。

これにより、酸素濃度を自在に制御した条件下において、塗布膜を高速度で硬化させ、塗布膜の品質を向上させると共に、品質不良が発生しにくい塗布膜の硬化装置を提供できる。

以下、添付図面に従って本発明に係る塗布膜の硬化装置の好ましい実施の形態について詳説する。

図１は、本発明に係る塗布膜の硬化装置が適用される光学フィルムの製造ラインの構成図である。

光学フィルムの製造ライン１０は、図１に示されるように、送り出し機１２から透明支持体である可撓性フィルム１４が送り出される。可撓性フィルム１４は、ガイドローラ１６によってガイドされて除塵機１８に送りこまれる。除塵機１８は、可撓性フィルム１４の表面に付着した塵を取り除く。

除塵機１８の下流には、グラビア塗布装置２０が設けられており、塗布液が可撓性フィルム１４に塗布され、可撓性フィルム１４の表面に塗布膜（例えば、防眩層）が塗布される。可撓性フィルム１４への塗布液の塗布は、可撓性フィルム１４の幅方向全幅に塗布すると、塗布液が裏面に裏回りするので、可撓性フィルム１４の幅方向両端部に未塗布部分を残して塗布されるのが通常である（図４参照）。グラビア塗布装置２０の詳細については後述する。

グラビア塗布装置２０の下流には、乾燥装置２２が設けられ、可撓性フィルム１４上の塗布膜が乾燥され、後段の硬化装置で塗布膜が硬化し易い温度まで加熱される。

そして、乾燥装置２２の下流に、本発明の硬化装置２４が設けられ、活性線照射、例えば紫外線照射により、塗布膜を架橋させて硬化することにより、所望のポリマーを形成する。最後に、硬化装置２４下流に設けられた巻取り機２６により、ポリマーが形成された可撓性フィルム１４が巻き取られる。硬化装置２４の詳細につては後述する。

なお、光学フィルムの製造ライン１０の略全般に亘って、可撓性フィルム１４を巻き掛けて支持し、可撓性フィルム１４の搬送（走行）を可能ならしめるべくガイドローラ１６が設けられている。このガイドローラ１６は、回動自由なローラ部材であり、可撓性フィルム１４の幅と略同一の長さ（本例では、可撓性フィルム１４の幅より若干長い）を有する。

グラビア塗布装置２０は、上流ガイドローラ１７及び下流ガイドローラ１９でガイドされて走行する可撓性フィルム１４に対して、回転駆動されるグラビアローラ２８により可撓性フィルム１４に所期の膜厚の塗布液を塗布する装置である。

グラビアローラ２８、上流ガイドローラ１７及び下流ガイドローラ１９は、可撓性フィルム１４の幅と略同一の長さを有する。グラビアローラ２８は、図１の矢印に示される方向に回転駆動される。この回転方向は、可撓性フィルム１４の走行方向に対して逆転方向となる。なお、図１とは逆の順転の駆動による塗布も、塗布条件によっては採用できる。

グラビアローラ２８の駆動方法は、インバータモータによるダイレクト駆動（軸直結）であるが、各種モータと減速機（ギアヘッド）との組み合わせ、各種モータよりタイミングベルト等の巻き掛け伝達手段による方法であってもよい。

グラビアローラ２８表面のセル（ｃｅｌｌ）形状は、公知のピラミッド型、格子型及び斜線型等のいずれであってもよい。すなわち、塗布速度、塗布液の粘度、塗布層厚等により適宜のセルを選択すればよい。

グラビアローラ２８の下方には、液受けパン３０が設けられており、この液受けパン３０には塗布液が満たされている。そして、グラビアローラ２８の約下半分は塗布液に浸漬されている。この構成により、グラビアローラ２８表面のセルに塗布液が供給されることとなる。

塗布前に塗布液の余剰分を掻き落とすべく、グラビアローラ２８の約１０時の位置にその先端が接するようにドクターブレード３２が設置されている。このドクターブレード３２は、基端部の回動中心３２Ａを中心として、図１の矢印方向に、図示しない付勢手段により付勢されている。

上流ガイドローラ１７及び下流ガイドローラ１９は、グラビアローラ２８と略平行な状態で支持されている。そして、上流ガイドローラ１７及び下流ガイドローラ１９は、両端部分を軸受部材（ボール軸受等）により回動自在に支持され、駆動機構を付されない構成のものが好ましい。

上述したグラビア塗布装置２０は、特に薄層塗布に有効であるので、たとえば、ウエット（湿潤）塗布量が５ｍｌ／ｍ^２以下（塗布時の膜厚が５μｍ以下）の超薄層塗布を行う光学フィルムの製造ラインに好適に適用できる。

本実施の形態において、グラビア塗布装置２０は、クリーンルーム等の清浄な雰囲気に設置するとよい。その際、清浄度はクラス１０００以下が好ましく、クラス１００以下がより好ましく、クラス１０以下が更に好ましい。

本発明において、同時に塗布される塗布液の塗布層の数は単層に限定されるものではなく、必要に応じて同時多層塗布方法にも適用できる。

なお、塗布液の塗布方法としては、上述したグラビア塗布装置２０以外に、バーコータ、ロールコータ（トランスファロールコータ、リバースロールコータ等）、ダイコータ、エクストルージョンコータ、ファウンテンコータ、カーテンコータ、ディップコータ、スピンコータ、スプレーコータ又はスライドホッパ等が採用できる。

また、図１に示される光学機能フィルムの製造ラインにおいて、可撓性フィルム１４のテンションとしては、１００〜５００Ｎ／ｍにすることが好ましい。

次に、本発明の特徴部分である塗布膜の硬化装置２４について説明する。図２は、硬化装置２４の外観図であり、ケーシング３８のフランジ部分３８Ｆを分かり易く図示するために、バックアップローラ３４及び可撓性フィルム１４は２点鎖線で示してある。図３は図２のａ−ａ線に沿った要部断面図、図４は図２のｂ−ｂ線に沿った要部断面図であり、主として硬化装置２４の要部であるケーシング部分を断面で示してある。

これらの図に示すように、硬化装置２４は、連続走行する可撓性フィルム１４を巻き掛け支持するバックアップローラ３４と、可撓性フィルム１４に近接するように覆うことにより、可撓性フィルム１４の面とで囲まれた略密閉な囲み空間３６を形成するケーシング３８と、囲み空間３６内に不活性ガスを供給して囲み空間３６内に脱酸素雰囲気を形成する不活性ガス供給部４０と、ケーシング３８の透明部分から囲み空間３６を介して紫外線を塗布膜４２（図４参照）に向けて照射する紫外線ランプハウス４４（活性線照射部）と、で構成される。

ケーシング３８は、バックアップローラ３４に巻き掛け支持された可撓性フィルム１４のローラ支持面に面して開口した箱状に形成され、ケーシング３８の４つの側壁３８Ａ，３８Ｂ，３８Ｃ，３８Ｄの下端からはローラ支持面の形状に倣って鍔状のフランジ部分３８Ｆが延設される。即ち、図２及び図３から分かるように、フランジ部分３８Ｆは、可撓性フィルム１４のローラ支持面の形状、即ちバックアップローラ３４の面状に倣って同心円状に形成される。そして、フランジ部分３８Ｆの内周開口に囲み空間３６内に供給された不活性ガスが塗布膜面に向かって吹き出される吹出口４１が形成されると共に、フランジ部分３８Ｆの面と可撓性フィルム１４の面との間には、狭隘な面状隙間４３が形成される。面状隙間４３とすることで、従来のようにケーシングの側壁下端と可撓性フィルム１４とで形成される線状隙間に比べて通気抵抗を顕著に大きくできる。なお、フランジ部分３８Ｆは、ケーシング３８の一部として形成しても、ケーシング３８とは別部材として形成してもよい。

図４に示すように、可撓性フィルム１４の幅方向において対向するケーシング側壁３８Ｂ、３８Ｄ同士の距離は、可撓性フィルム１４の幅方向長さと略同等又は可撓性フィルムの幅寸法とバックアップローラ３４のローラ幅との間になるように形成されることが好ましい。一方、図３に示すように、ローラ周面方向において対向するケーシング側壁３８Ａ、３８Ｃ同士の距離は、可撓性フィルム１４がバックアップローラ３４に巻き掛け支持されているローラ支持面の全体長さに相当するローラ中心角αよりも小さな中心角βのローラ支持面となるように形成されることが好ましい。この中心角βのローラ支持面は、可撓性フィルム１４がバックアップローラ３４に確実に巻き掛け支持されている領域なので、可撓性フィルム１４の走行時に可撓性フィルム１４がバタつかない。したがって、可撓性フィルム１４の走行時のバタつき等に影響されることなく、ケーシング３８に形成したフランジ部分３８Ｆの面と可撓性フィルム１４と面との隙間距離を精度良く小さくできる。

また、ケーシング３８と紫外線ランプハウス４４とは、完全に分離されており、各々に光透過性ガラス（透明板３８Ｅ及び照射窓４４Ａ）を設置されている。なお、本発明の実施の形態では、１つのケーシング３８に対して、１つの紫外線ランプハウス４４を設けた図で示してあるが、ケーシング３８に複数の透明板３８Ｅを設け、各透明板３８Ｅに対応してそれぞれ照射窓４４Ａを有する紫外線ランプハウス４４を設けてもよい。透明板３８Ｅや照射窓４４Ａのガラス板としては、紫外線透過率の高い石英ガラス等を好適に使用できる。これにより、紫外線ランプハウス４４から照射される紫外線が可撓性フィルム１４上の塗布膜に効率的に照射される。

このようにケーシング３８と紫外線ランプハウス４４とを分離することで、紫外線ランプハウス４４内に設けた紫外線ランプ（図示せず）を冷却するための冷却風が硬化処理ゾーンであるケーシング内に侵入することを確実に防止できる。冷却風がケーシング３８内に進入すると、ケーシング３８内に多量の不活性ガスを供給しても酸素濃度がある値以下に下がらない。また、ケーシング３８と紫外線ランプハウス４４とを完全に分離することにより、紫外線ランプハウス４４の熱変形（紫外線照射時の温度上昇による熱変形）による影響がケーシング３８に及ばないようにできる。

また、図示しないが、ケーシング３８は、紫外線ランプハウス４４からの紫外線照射時の温度上昇による熱変形を排除できるように、冷却水を循環できるジャケット構造となっていることが好ましい。

このように、可撓性フィルム１４のローラ支持面にケーシング３８を配置したこと、ケーシング３８の熱変形対策や熱膨張対策を講じたことにより、フランジ部分３８Ｆの面と可撓性フィルム１４と面との間の距離が一定な面状隙間４３を精度良く形成できる。フランジ部分３８Ｆの面と可撓性フィルム１４のローラ支持面との離間距離Ｓは、２０ｍｍ以上、５０ｍｍ以下であると共に、フランジ部分３８Ｆの幅（Ｗ）は、１０ｍｍ以上１００ｍｍ以下であることが好ましい（図４参照）。なお、図４では、離間距離Ｓは可撓性フィルム１４の未塗布部分の面との距離で示してあるが、塗布膜４２はミクロンオーダの薄膜（例えば１０μｍ以下）であるので、離間距離Ｓを可撓性フィルム１４の塗布部分（塗布膜）との面との距離としても実質的に変わらない。

また、図５に示すように、可撓性フィルム１４の幅方向の長さＬ１に対して狭く塗布された塗布膜４２の幅Ｌ２と、ケーシング３８の吹出口４１の可撓性フィルム幅方向の長さＬ３とが同等になるように、フランジ部分３８Ｆの可撓性フィルム幅方向の幅（Ｗ１）を形成することが好ましい。これを達成する一つの方法としては、図６に示すように、フランジ部分３８Ｆを、ケーシング側壁下端に支持されたフランジ本体部３８ａと、フランジ本体部３８ａにスライド自在に支持されたスライド板３８ｂとで構成することが好ましい。スライド板３８ｂは、可撓性フィルム１４の幅方向において一対設けられる。フランジ本体部３８ａとスライド板３８ｂとは、例えば蟻溝構造により嵌合させることで、簡単なスライド機構を形成することができ、スライド機構部分の機密性も確保できる。このように、可撓性フィルム１４の幅方向のフランジ部分３８Ｆをスライド板３８ｂで構成することにより、吹出口４１の可撓性フィルム幅方向の長さを塗布膜４２の幅に応じて調整することができる。

なお、上記したフランジ部分３８Ｆは、図４のようにケーシング側壁下端から内側に折曲させた場合で説明したが、図７のようにフランジ部分３８Ｆをケーシング側壁下端から外側に折曲させる場合や、図８のようにケーシング側壁下端から内側と外側との両方に折曲させる場合も採用することができる。

図３及び図４に示すように、不活性ガス供給部４０は、ケーシング３８内部の可撓性フィルム幅方向両端部に一対設けられた吹出管４０Ａと、図示しない不活性ガス供給源から吹出管４０Ａに不活性ガスを供給するガス配管４０Ｃとで構成される。吹出管４０Ａは可撓性フィルム１４の走行方向に沿って長尺な管として形成され、図示しない固定部材を介してケーシング３８の内壁面に支持される。吹出管４０Ａにはスリット状の噴出口４０Ｂが形成され、吹出管４０Ａに供給された不活性ガスが噴出口４０Ｂから吹き出される。なお、本例では、２本の吹出管４０Ａを設けるようにしたが、ケーシング３８の中央部に更に設けても良く、吹出管４０Ａの配置位置や本数は限定されない。

また、ケーシング３８内には酸素濃度センサ４８が設けられ、囲み空間３６内の該当箇所における酸素濃度測定が測定可能となっている。図３及び図４では酸素濃度センサ４８を、ケーシング３８内の上部位置に設けたが、塗布膜４２の近傍に設けることが一層好ましい。酸素濃度センサ４８は、最小単位：０．１ｐｐｍで測定可能な精度を有することが好ましい。また、ケーシング３８内には圧力センサ５０が設けられ、囲み空間３６内の圧力が測定可能となっている。そして、酸素濃度センサ４８及び圧力センサ５０により測定された測定値は、信号ケーブルを介して上記した不活性ガス供給源にフィードバックされ、吹出管４０Ａに供給される不活性ガス供給量が適宜調整される。即ち、囲み空間３６内の酸素濃度が１００ｐｐｍ以下になるように、且つ囲み空間３６内の内圧がケーシング外の外圧に対して＋圧力となるように調整される。なお、酸素濃度センサ４８及び圧力センサ５０は、囲み空間３６内に複数設けてもよい。

次に、光学フィルムの製造ライン１０により製造される光学フィルムとして好適な防眩性反射防止フィルムの基本的な構成を図面を参照しながら説明する。

図９に示される態様は、防眩性反射防止フィルムの一例であり、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）からなる透明支持体１、ハードコート層２、防眩層３、そして低屈折率層４の順序の層構成を有する。５は防眩性粒子であり、その防眩層からの突出部も低屈折率層４で覆われている。防眩層のバインダの屈折率が１．５７〜１．８０であり、低屈折率層の屈折率は１．４３〜１．４８である。

反射防止膜では、低屈折率層が下記式（Ｉ）をそれぞれ満足することが好ましい。

ｍλ／４×０．７＜ｎ１ｄ１＜ｍλ／４×１．３ （Ｉ）
式（Ｉ）中、ｍは正の奇数（一般に１）であり、ｎ１は低屈折率層の屈折率であり、そして、ｄ１は低屈折率層の膜厚（ｎｍ）である。λは使用光線の波長である。

防眩層を形成する素材（バインダ部）の屈折率は、好ましくは１．５７〜２．００であり、より好ましくは１．６０〜１．８０である。基材として好ましく用いられるトリアセチルセルロース（ＴＡＣ）の屈折率は１．４８である。防眩層を形成するバインダの屈折率は１．５７〜２．００であるが、これが小さすぎても、大きすぎても反射防止性が低下する。高屈折率素材が二以上のエチレン性不飽和基を有するモノマーとチタン、アルミニウム、インジウム、亜鉛、錫、アンチモン及びジルコニウムのうちより選ばれる少なくとも一つの酸化物からなる粒径１００ｎｍ以下の微粒子とからなる場合、微粒子の粒径が光の波長よりも十分小さいために散乱が生じず、光学的には均一な物質として挙動する。このことは特開平８−１１０４０１号等に記載されている。

この防眩層は、上記高屈折率素材中に分散する防眩性粒子によって表面散乱が生じるために、防眩層での光学干渉の影響を生じない。防眩性粒子を有しない高屈折率ハードコート層では、ハードコート層と基材との屈折率差による光学干渉のために、反射率の波長依存性において反射率の大きな振幅が見られ、結果として防眩反射防止効果が悪化し、同時に色むらが発生してしまうが、本発明における防眩反射防止フィルムでは防眩層の表面凹凸による散乱効果によってこれらの問題を解決した。

可撓性フィルム１４として用いられる基材は、その用途により好ましいものが選択され、具体的には透明支持体が用いられる。透明支持体としては、プラスチックフィルムを用いることが好ましい。

プラスチックフィルムを形成するポリマーとしては、セルロースエステル（例、トリアセチルセルロース、ジアセチルセルロース）、ポリアミド、ポリカーボネート、ポリエステル（例、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート）、ポリスチレン、ポリオレフィンなどが挙げられる。

このうち、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）が好ましい。防眩性反射防止フィルムを液晶表示装置に用いる場合、片面に粘着層を設ける等してディスプレイの最表面に配置する。トリアセチルセルロースは偏光板の偏光層を保護する保護フィルムに用いられるため、防眩性反射防止フィルムをそのまま保護フィルムに用いることがコストの上では好ましい。

ハードコート層に用いる化合物は、飽和炭化水素またはポリエーテルを主鎖として有するポリマーであることが好ましく、飽和炭化水素を主鎖として有するポリマーであることが更に好ましい。バインダーポリマーは架橋していることが好ましい。飽和炭化水素を主鎖として有するポリマーは、エチレン性不飽和モノマーの重合反応により得ることが好ましい。架橋しているバインダーポリマーを得るためには、二以上のエチレン性不飽和基を有するモノマーを用いることが好ましい。

二以上のエチレン性不飽和基を有するモノマーの例には、多価アルコールと（メタ）アクリル酸とのエステル（例、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、１，４−シクロヘキサンジアクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールエタントリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、１，２，３−シクロヘキサンテトラメタクリレート、ポリウレタンポリアクリレート、ポリエステルポリアクリレート）、ビニルベンゼン及びその誘導体（例、１，４−ジビニルベンゼン、４−ビニル安息香酸−２−アクリロイルエチルエステル、１，４−ジビニルシクロヘキサノン）、ビニルスルホン（例、ジビニルスルホン）、アクリルアミド（例、メチレンビスアクリルアミド）及びメタクリルアミドが含まれる。

ポリエーテルを主鎖として有するポリマーは、多官能エポシキ化合物の開環重合反応により合成することが好ましい。これらのエチレン性不飽和基を有するモノマーは、塗布後、電離放射線、熱などによる重合反応により硬化させる必要がある。これは必要により、光重合開始剤、光増感剤などを用いて、周知の方法により行うことができる。

二以上のエチレン性不飽和基を有するモノマーに代えて、又はそれに加えて、架橋性基の反応により、架橋構造をバインダーポリマーに導入してもよい。架橋性官能基の例には、イソシアナート基、エポキシ基、アジリジン基、オキサゾリン基、アルデヒド基、カルボニル基、ヒドラジン基、カルボキシル基、メチロール基及び活性メチレン基が含まれる。ビニルスルホン酸、酸無水物、シアノアクリレート誘導体、メラミン、エーテル化メチロール、エステル及びウレタン、テトラメトキシシランのような金属アルコキシドも、架橋構造を導入するためのモノマーとして利用できる。

ブロックイソシアナート基のように、分解反応の結果として架橋性を示す官能基を用いてもよい。また、架橋基とは、上記化合物に限らず上記官能基が分解した結果反応性を示すものであってもよい。これら架橋基を有する化合物は塗布後熱などによって架橋させる必要がある。

防眩層は、バインダの形成において、上記ハードコート層を形成する素材に加えて、更に高屈折率モノマー又は高屈折率無機超微粒子を用いて形成することができる。このような高屈折率モノマーは、モノマーの構造中に、芳香族環、フッ素原子以外のハロゲン原子、硫黄原子、リン原子及び窒素原子からなる群から選ばれる少なくとも一つを含むことが好ましい。このような高屈折率モノマーの例には、ビス（４−メタクリロイルチオフェニル）スルフィド、ビニルナフタレン、ビニルフェニルスルフィド、４−メタクリロキシフェニル−４’−メトキシフェニルチオエーテル等が含まれる。

高屈折率モノマーの使用量は、バインダが目的の膜屈折率となるように調整される。高屈折率無機超微粒子としては、チタン、アルミニウム、インジウム、亜鉛、錫、アンチモン及びジルコニウムのうちより選ばれる少なくとも一つの酸化物からなる粒径１００ｎｍ以下の超微粒子を含有することが好ましく、５０ｎｍ以下の超微粒子であることがより好ましい。このような超微粒子の例としては、ＴｉＯ_２、Ａｌ_２Ｏ_３、Ｉｎ_２Ｏ_３、ＺｎＯ、ＳｎＯ_２、Ｓｂ_２Ｏ_３、ＩＴＯ、ＺｒＯ_２等が挙げられる。バインダ中の無機超微粒子の含有量は、防眩層の全重量の１０乃至９０重量％であることが好ましく、２０乃至８０重量％であると更に好ましい。

防眩層には、防眩性付与とハードコート層の干渉による反射率悪化防止、色むら防止の目的で、樹脂又は無機化合物の防眩性粒子が用いられる。平均粒径は１．０〜１０．０μｍが好ましく、１．５〜５．０μｍがより好ましい。また、防眩層のバインダ膜厚よりも小さい粒径の防眩性粒子が、重量比で該防眩性粒子全体の５０％未満であることが好ましい。

防眩性粒子の塗布量は、好ましくは、１０〜１０００ｍｇ／ｍ^２、より好ましくは、３０〜１００ｍｇ／ｍ^２である。粒度分布はコールターカウンター法や遠心沈降法等により測定できるが、分布は粒子数分布に換算して考える。防眩層膜厚は０．５乃至１０μｍが好ましく、１乃至５μｍがより好ましい。また、防眩層のバインダと防眩性粒子との屈折率の差が０．０５未満であることが防眩層内での内部散乱を低減する上で好ましい。

低屈折率層には含フッ素樹脂が用いられ、熱又は電離放射線により架橋する含フッ素化合物（樹脂）が好ましく用いられる。低屈折率層の屈折率は１．３８以上１．４９以下であり、この値が低すぎると膜強度が低下し、高すぎると反射防止性が悪化する。

また、この層の動摩擦係数は、好ましくは０．０３〜０．１５であり、より好ましくは０．０７〜０．１０である。動摩擦係数が小さすぎるとハンドリング膜のスリップが問題となり、大きすぎると耐傷性が悪化する。低屈折率層の水に対する接触角は、好ましくは９０〜１２０°であり、より好ましくは１００〜１２０°であり、これが小さすぎると防汚性に劣る。

このような樹脂を構成する架橋性のフッ素高分子化合物としてはパーフルオロアルキル基含有シラン化合物（たとえば（ヘプタデカフルオロ−１，１，２，２−テトラデシル）トリエトキシシラン）等の他、含フッ素モノマー成分と架橋性基付与のためのモノマー成分を構成成分とする含フッ素共重合体が挙げられる。

上記含フッ素モノマー成分の具体例としては、たとえばフルオロオレフィン類（たとえばフルオロエチレン、ビニリデンフルオライド、テトラフルオロエチレン、ヘキサフルオロエチレン、ヘキサフルオロプロピレン、パーフルオロ−２，２−ジメチル−１，３−ジオキソール等）、（メタ）アクリル酸の部分又は完全フッ素化アルキルエステル誘導体類（たとえばビスコート６ＦＭ（大阪有機化学製）やＭ−２０２０（ダイキン製）等）、完全又は部分フッ素化ビニルエーテル類等である。

架橋性基付与のためのモノマー成分としては、グリシジルメタクリレートのように分子内にあらかじめ架橋性官能基を有する（メタ）アクリレートモノマーの他、カルボキシル基やヒドロキシル基、アミノ基、スルホン酸基等を有する（メタ）アクリレートモノマー（たとえば（メタ）アクリル酸、メチロール（メタ）アクリレート、ヒドロキシアルキル（メタ）アクリレート、アリルアクリレート等）が挙げられる。後者は共重合の後、架橋構造を導入できることが特開平１０−２５３８８及び特開平１０−１４７７３９に知られている。

また、上記含フッ素モノマーを構成単位とするポリマーだけでなく、フッ素原子を含有しないモノマーとの共重合体を用いてもよい。併用可能なモノマー単位には特に限定はなく、たとえばオレフィン類（エチレン、プロピレン、イソプレン、塩化ビニル、塩化ビニリデン等）、アクリル酸エステル類（アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸２−エチルヘキシル）、メタクリル酸エステル類（メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸ブチル、エチレングリコールジメタクリレート等）、スチレン誘導体（スチレン、ジビニルベンゼン、ビニルトルエン、α−メチルスチレン等）、ビニルエーテル類（メチルビニルエーテル等）、ビニルエステル類（酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、桂皮酸ビニル等）、アクリルアミド類（Ｎ−ｔｅｒｔブチルアクリルアミド、Ｎ−シクロヘキシルアクリルアミド等）、メタクリルアミド類、アクリロニトリル誘導体等を挙げることができる。

反射防止膜の各層は、ディップコート法、エアーナイフコート法、カーテンコート法、ローラーコート法、ワイヤーバーコート法、グラビアコート法やエクストルージョンコート法により、塗布により形成することができる。二以上の層を同時に塗布してもよい。同時塗布の方法については、米国特許２７６１７９１号、同２９４１８９８号、同３５０８９４７号、同３５２６５２８号の各明細書及び原崎勇次著、コーティング工学、２５３頁、朝倉書店（１９７３）に記載がある。基材の厚さは用途により全く異なる。防眩層は前記の通りであり、低屈折率層は好ましくは０．０８〜０．１５μｍ、より好ましくは０．０９〜０．１２μｍであり、ハードコート層は好ましくは１〜１０μｍ、より好ましくは３〜６μｍである。

防眩性反射防止フィルムは、基材上に、防眩層と低屈折率層とを順に設けることで構成されていればよく、低屈折率層については、本明細書に規定する屈折率を有する構成成分の異なる低屈折率層を２層以上設けていてもよい。この基材と防眩層の間に、前記ハードコート層を更に設けることが好ましく、構成成分の異なるハードコート層を２層以上設けていてもよい。

反射防止膜は、液晶表示装置（ＬＣＤ）、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）、エレクトロルミネッセンスディスプレイ（ＥＬＤ）や陰極管表示装置（ＣＲＴ）のような画像表示装置に適用する。反射防止膜が透明支持体を有する場合は、透明支持体側を画像表示装置の画像表示面に接着する。

防眩性反射フィルムを適用しうる画像表示装置としては、特開平７−２８７１０２号公報（たとえば段落（００５９）〜（００６１）及び図１４、１５）、特開平７−３３３４０４号公報（たとえば段落（００７８）〜（００７９）及び図１９、２０）などに記載のものがある）。

次に、図１に示される光学フィルムの製造ラインを使用した光学フィルムの製造方法について具体的に説明する。先ず、送り出し機１２から、厚さが４０〜３００μｍの可撓性フィルム１４が送り出される。可撓性フィルム１４はガイドローラ１６によってガイドされて除塵機１８に送りこまれ、これにより、可撓性フィルム１４の表面に付着した塵が取り除かれる。そして、グラビア塗布装置２０により塗布液が可撓性フィルム１４に塗布される。塗布が終了した後には、乾燥装置２２を経て、塗布膜が形成される。更に硬化装置２４により紫外線で塗布膜を照射し、バインダを架橋させることにより、所望のポリマーが形成される。

かかる硬化装置２４において、ケーシング３８の側壁下端からはバックアップローラ３４に巻き掛け支持された可撓性フィルム１４のローラ支持面の形状に倣って形成された鍔状のフランジ部分３８Ｆを有するので、フランジ部分３８Ｆの面と可撓性フィルム１４の面との間には、狭隘な面状隙間４３が形成され、この面状隙間４３は通気抵抗を非常に大きくできる。これにより、ケーシング３８と可撓性フィルムとを近づけ過ぎなくても酸素濃度を充分に下げ得る囲み空間３６を形成できる。実際に、フランジ部分３８Ｆの面と可撓性フィルム１４のローラ支持面との離間距離を、２０ｍｍ以上、５０ｍｍ以下に設定し、フランジ部分の幅を１０ｍｍ以上１００ｍｍ以下に設定することにより、囲み空間３６の酸素濃度が１００ｐｐｍ以下になるように制御することができる。したがって、塗布膜４２の硬化条件を最適範囲に制御でき、塗布層の品質、特に耐擦傷性、密着性、 等を向上させることができる。塗布膜４２の硬化条件を最適範囲に制御するには、囲み空間３６の酸素濃度としては、１００ｐｐｍ以下に制御することがより好ましく、１０ｐｐｍ以下に制御することが更に好ましい。

また、本発明の場合には、従来のようにケーシングの側壁下端と可撓性フィルム１４との距離を１０ｍｍ以下まで近づけなくても、囲み空間３６内に１００ｐｐｍ以下の低酸素濃度の脱酸素雰囲気を形成できるので、塗布膜４２の硬化により可撓性フィルム１４がカールしてもケーシング３８に接触しにくくなる。したがって、接触による品質不良が発生しにくい。

そして、このポリマーが形成された可撓性フィルム１４は巻取り機２６により巻き取られる。

以上、本発明に係る塗布膜の硬化装置２４の実施形態について説明したが、本発明は上記実施形態に限定されるものではなく、各種の態様が採り得る。たとえば、本発明の各実施形態において、主にコスト面の理由により、不活性ガスとして窒素ガスが使用されているが、他の不活性ガス（二酸化炭素や希ガス）を使用してもよい。

また、本発明の各実施形態において、主に光学フィルムの製造について述べられているが、本発明は、これに限られず、硬度を要求される活性線硬化樹脂を用いる全てのものに適用可能である。

図１に示される光学フィルムの製造ライン１０に本発明の硬化装置２４を使用して、塗布液の塗布、硬化を行い、密閉空間内部の酸素濃度制御性の評価を行った。

各塗布液として、以下の配合になるものを使用した。

[光拡散性（防眩性）ハードコート用塗布液Ａ]
光拡散性（防眩性）ハードコート用塗布液は、ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートとの混合物（ＤＰＨＡ、日本化薬（株）製）７５ｇ、粒径約３０ｎｍの酸化ジルコニウム超微粒子分散物含有ハードコート塗布液（デソライトＺ−７４０１、ＪＳＲ（株）製）２４０ｇを、５２ｇのメチルエチルケトン／シクロヘキサノン＝５４／４６重量％の混合溶媒に溶解した。

得られた溶液に、光重合開始剤（イルガキュア９０７、チバファインケミカルズ（株）製）１０ｇを加え、攪拌溶解した後に、２０重量％の含フッ素オリゴマーのメチルエチルケトン溶液からなるフッ素界面活性剤（メガファックＦ−１７６ＰＦ、大日本インキ（株）製）０．９３ｇを添加した（なお、この溶液を塗布、紫外線硬化させて得られた塗布膜の屈折率は１．６５であった。）。

更に、この溶液に個数平均粒径２．０μｍ、屈折率１．６１の架橋ポリスチレン粒子（ＳＸ−２００ＨＳ、綜研化学（株）製）２０ｇを、８０ｇのメチルエチルケトン／シクロヘキサノン＝５４／４６重量％の混合溶媒に高速ディスパにて５０００ｒｐｍで１時間攪拌分散し、孔径１０μｍ、３μｍ、１μｍのポリプロピレン製フィルタ（それぞれＰＰＥ−１０、ＰＰＥ−０３、ＰＰＥ−０１、いずれも富士フイルム（株）製）にて濾過して得られた分散液２９ｇを添加、攪拌した後、孔径３０μｍのポリプロピレン製フィルタで濾過して防眩層用塗布液を調製した。

塗布液の粘度、表面張力を、０．００７Ｎ・ｓ／ｍ２、０．０３３Ｎ／ｍとした。

[低屈折率層用塗布液Ｂ]
屈折率１．４６の熱架橋性含フッ素ポリマー（商品名：ＪＮ−７２２１、ＪＳＲ（株）製）２００ｇにメチルイソブチルケトンを２００ｇ添加、攪拌の後、孔径１μｍのポリプロピレン製フィルタでろ過して、低屈折率層用塗布液を調製した。

可撓性フィルム１４として、富士フイルム（株）製のＴＡＣ（トリアセチルセルロースフィルム）で８０μｍ厚さのもので６５０ｍｍ幅のものを走行させた。可撓性フィルム１４の走行速度を３０ｍ／分とし、光拡散性（防眩性）ハードコート用塗布液をグラビアコーターにて塗布し、厚さ４μｍの光拡散性（防眩性）ハードコート層を形成した。その上に、上記低屈折率層用塗布液Ｂをバーコータを用いて塗布し、８０°Ｃで乾燥の後、更に１２０°Ｃで１０分間熱架橋し、厚さ０．０９６μｍの低屈折率層を形成した。

硬化装置２４のバックアップローラ３４として、直径が５００ｍｍで長さが８００ｍｍのＳＳ製ハードＣｒメッキ品を使用した。ケーシング３８の幅は７６０ｍｍであり、ケーシング３８の側壁下端から内側に延設させたフランジ部分３８Ｆの長さを３０ｍｍとして、フランジ部分３８Ａの先端が塗布膜４２の端に位置するようにした。

透明板３８Ｅ及び照射窓４４Ａとして、厚さ３ｍｍの石英ガラスを使用した。この硬化装置２４において、角度αは１８０°であり、角度βは１６０°である。

紫外線ランプハウス４４（ＵＶ装置）として、空冷メタルハライドランプ（２００Ｗ／ｃｍ、発光長：８００ｍｍ、照射量：６００ｍＪ／ｃｍ^２）を用いた。

不活性ガスとして、純度９９．９９９９％の窒素ガスを使用した。窒素ガスの温度は２２°Ｃであり、圧力は０．４ＭＰaであった。窒素ガス供給部は２ケ所である。

酸素濃度センサとして、ジルコニアセンサ（最小レンジ：０〜１ｐｐｍ、測定精度：±２％）を使用した。酸素濃度センサを塗布膜４２の近傍に配置し、塗布膜近傍における酸素濃度を測定した。

（１）酸素濃度測定結果
フランジ部とバックアップロールに支持された可撓性フィルム面との距離を２０ｍｍ、可撓性フィルムの搬送速度を３０ｍ／ｍｉｎ、パージ用不活性ガス（窒素）の流量を１０００Ｌ／ｍｉｎとし、フランジ部３０ｍｍの有無による酸素濃度の測定結果を表１に示す。また、フランジ有におけるパージ開始からの時間と酸素濃度との関係を図１０に示す。

表１は不活性ガスのパージを開始して８分後に到達した囲み空間内の酸素濃度である。

表１の結果から分かるように、フランジ部が有りの場合には、酸素濃度が７０ｐｐｍまで低下し、囲み空間内の酸素濃度を目標の１００ｐｐｍ以下にすることができた。

これに対して、フランジ部が無しの場合には、酸素濃度が７５０００ｐｐｍまでしか低下せず、これ以下にするには、フランジ部とバックアップロールに支持された可撓性フィルム面との距離を狭くするか、不活性ガスのパージ流量を顕著に増加する必要がある。

また、図１０から分かるように、フランジ有りの場合には、パージ開始から約１分で囲み空間内の酸素濃度が約２００ｐｐｍまで低下し、約４分後には１００ｐｐｍまで低下した。このように、囲み空間内の酸素濃度を短時間で極めて低レベルまで下げることができる。

（２）カール時の接触評価
光拡散性（防眩性）ハードコート用塗布液Ａを使用して図１に示す光学フィルムの製造ラインによる塗布硬化を行いカールの評価を実施した。

フランジ部を３０ｍｍ、可撓性フィルムの搬送速度を３０ｍ／ｍｉｎ、窒素の流量を１０００Ｌ／ｍｉｎとし、フランジ部-バックアップロール間の距離を変えたときに、カールした可撓性フィルムがケーシングへ接触するか否かの接触判定結果を表２に示す。

表２から分かるように、フランジ部とローラに支持フィルム面との距離（ｍｍ）が１０ｍｍの従来の場合には、可撓性フィルムがケーシングに接触し、傷やゴミの発生原因となった。

これに対して、フランジ部とローラに支持フィルム面との距離（ｍｍ）を２０ｍｍまで離すことで、可撓性フィルムがケーシングに接触しなくなった。したがって、上記（１）から、本発明は、距離を２０ｍｍ離しても囲み空間内の酸素濃度を１００ｐｐｍ以下にできるので、酸素濃度の低下とケーシングへの接触防止の両方を達成できる。

本発明に係る塗布膜の硬化装置が適用される光学フィルムの製造ラインの構成図 本発明の塗布膜の硬化装置の外観図 図２のａ−ａ線に沿った要部断面図 図２のｂ−ｂ線に沿った要部断面図 図２のｃ−ｃ線に沿った要部断面図 フランジ部分のスライト板を説明する斜視図 フランジ部分の別態様を説明する説明図 フランジ部分の更に別態様を説明する説明図 防眩性反射防止フィルムの基本的な構成を示す断面図 本実施例において不活性ガスのパージ開始からの酸素濃度低下状況を説明する説明図

符号の説明

１０…光学フィルムの製造ライン、１４…可撓性フィルム、２４…硬化装置、３４…バックアップローラ、３６…囲み空間、３８…ケーシング、３８ａ…フランジ本体部、３８ｂ…スライド板、３８Ｅ…透明板、３８Ｆ…フランジ部分、４０…不活性ガス供給部、４０Ａ…吹出管、４１…不活性ガスの吹出口、４２…塗布膜、４３…面状隙間、４４…紫外線ランプハウス、４４Ａ…照射窓、４８…酸素濃度センサ、５０…圧力センサ

Claims (7)

1. 裏面がローラに巻き掛け支持されて連続走行する帯状の可撓性フィルムの表面に形成されている活性線硬化性の塗布膜に活性線を照射して前記塗布膜を硬化する塗布膜の硬化装置において、
   前記硬化装置は、
   前記可撓性フィルムのローラ支持面に対向する面が開口された箱状に形成され、前記可撓性フィルムに近接するように覆うことにより、前記可撓性フィルム面とで囲まれた略密閉な囲み空間を形成するケーシングと、
   前記囲み空間内に不活性ガスを供給して前記囲み空間内に脱酸素雰囲気を形成する不活性ガス供給部と、
   前記ケーシングの透明部分から前記囲み空間を介して前記活性線を前記塗布膜に向けて照射する活性線照射部と、を備え、
   前記ケーシングには、該ケーシングの前記開口から前記ローラ支持面の形状に倣って鍔状のフランジ部分が延設され、
   前記フランジ部分の面と前記可撓性フィルムのローラ支持面との離間距離が、２０ｍｍ以上、５０ｍｍ以下であると共に、前記フランジ部分の前記鍔状の幅が、１０ｍｍ以上１００ｍｍ以下であるように形成し、
   前記囲み空間に供給された不活性ガスを、前記ケーシングの前記開口から前記塗布膜面に向けて吹き出すと共に、
   前記可撓性フィルムは、その幅方向両端部に未塗布部分を有して前記塗布膜が形成され、前記可撓性フィルム幅方向における前記フランジ部分は、前記未塗布部分に対面していることを特徴とする塗布膜の硬化装置。
2. 前記フランジ部分は、前記ケーシングの前記開口から内側に折曲されていることを特徴とする請求項１に記載の塗布膜の硬化装置。
3. 前記フランジ部分は、前記ケーシングの前記開口から外側に折曲されていることを特徴とする請求項１に記載の塗布膜の硬化装置。
4. 前記フランジ部分は、前記ケーシングの前記開口から内側と外側との両方に折曲されていることを特徴とする請求項１に記載の塗布膜の硬化装置。
5. 前記フランジ部分は、
   前記ケーシングの前記開口に支持されたフランジ本体部と、
   前記フランジ本体部にスライド自在に支持され、前記可撓性フィルムの幅方向にスライド可能なスライド板と、で構成されていることを特徴とする請求項１〜４の何れか１に記載の塗布膜の硬化装置。
6. 裏面がローラに巻き掛け支持されて連続走行する帯状の可撓性フィルムの表面に形成されている活性線硬化性の塗布膜に活性線を照射して前記塗布膜を硬化する塗布膜の硬化装置において、
   前記硬化装置は、
   前記可撓性フィルムのローラ支持面に対向する面が開口された箱状に形成され、前記可撓性フィルムに近接するように覆うことにより、前記可撓性フィルム面とで囲まれた略密閉な囲み空間を形成するケーシングと、
   前記囲み空間内に不活性ガスを供給して前記囲み空間内に脱酸素雰囲気を形成する不活性ガス供給部と、
   前記ケーシングの透明部分から前記囲み空間を介して前記活性線を前記塗布膜に向けて照射する活性線照射部と、を備え、
   前記ケーシングには、該ケーシングの前記開口から前記ローラ支持面の形状に倣って鍔状のフランジ部分が延設され、
   前記フランジ部分の面と前記可撓性フィルムのローラ支持面との離間距離が、２０ｍｍ以上、５０ｍｍ以下であると共に、前記フランジ部分の前記鍔状の幅が、１０ｍｍ以上１００ｍｍ以下であるように形成し、
   前記囲み空間に供給された不活性ガスを、前記ケーシングの前記開口から前記塗布膜面に向けて吹き出すと共に、
   前記フランジ部分は、
   前記ケーシングの前記開口に支持されたフランジ本体部と、
   前記フランジ本体部にスライド自在に支持され、前記可撓性フィルムの幅方向にスライド可能なスライド板と、で構成されていることを特徴とする塗布膜の硬化装置。
7. 光学フィルムの製造ライン中において、請求項１〜６の何れか１項に記載の塗布膜の硬化装置を用いて塗布膜を硬化する工程を有することを特徴とする光学フィルムの製造方法。

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