JPH0618608Y2 - 紫外線硬化形塗工剤用硬化装置 - Google Patents
紫外線硬化形塗工剤用硬化装置Info
- Publication number
- JPH0618608Y2 JPH0618608Y2 JP1988005376U JP537688U JPH0618608Y2 JP H0618608 Y2 JPH0618608 Y2 JP H0618608Y2 JP 1988005376 U JP1988005376 U JP 1988005376U JP 537688 U JP537688 U JP 537688U JP H0618608 Y2 JPH0618608 Y2 JP H0618608Y2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- base material
- roll
- ultraviolet
- coating agent
- nitrogen
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
Landscapes
- Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
- Coating Apparatus (AREA)
- Physical Or Chemical Processes And Apparatus (AREA)
Description
【考案の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本考案は走行する基材に塗工された紫外線硬化形塗工剤
(以下、UV塗工剤という)を硬化させる紫外線硬化形
塗工剤用硬化装置に関する。
(以下、UV塗工剤という)を硬化させる紫外線硬化形
塗工剤用硬化装置に関する。
一般に、UV塗工剤は紫外線を照射されることにより瞬
時に乾燥硬化するという性質を有し、通常の塗工剤に比
べて乾燥時間が著しく短かくなり、しかも乾燥時に溶剤
が放出されることもない。
時に乾燥硬化するという性質を有し、通常の塗工剤に比
べて乾燥時間が著しく短かくなり、しかも乾燥時に溶剤
が放出されることもない。
そこで、従来からこのUV塗工剤の性質を利用して良好
な塗工を行なう装置が開発されている。
な塗工を行なう装置が開発されている。
例えば、第5図はこの従来装置の原理を示している。
第5図は連続走行するフイルム、紙材等からなる基材1
に塗工を行なう場合を示しており、この基材1は原反ロ
ール2から導出され、複数のガイドロール3,3…に沿
って走行させられ、途中の塗工機構4の部分においてU
V塗工剤7を塗工され、このUV塗工剤7に紫外線の照
射を受けることによりUV塗工剤7を乾燥固化せしめら
れ、最後に巻取ロール6に巻取られる。更に説明する
と、塗工機構4の部分においては、容器8内に貯留され
ているUV塗工剤7がグラビアロール等の適当な塗工ロ
ール9を介して基材1の下面に塗工される。そして、紫
外線照射機構5の部分においては紫外線発生光源10か
ら発射された紫外線を直接および石英で形成されている
コールドミラー11を介して反射させることにより基材
1に塗工されたUV塗工剤7に照射するようにしてい
る。
に塗工を行なう場合を示しており、この基材1は原反ロ
ール2から導出され、複数のガイドロール3,3…に沿
って走行させられ、途中の塗工機構4の部分においてU
V塗工剤7を塗工され、このUV塗工剤7に紫外線の照
射を受けることによりUV塗工剤7を乾燥固化せしめら
れ、最後に巻取ロール6に巻取られる。更に説明する
と、塗工機構4の部分においては、容器8内に貯留され
ているUV塗工剤7がグラビアロール等の適当な塗工ロ
ール9を介して基材1の下面に塗工される。そして、紫
外線照射機構5の部分においては紫外線発生光源10か
ら発射された紫外線を直接および石英で形成されている
コールドミラー11を介して反射させることにより基材
1に塗工されたUV塗工剤7に照射するようにしてい
る。
UV塗工剤7は紫外線を照射されることにより、極めて
短時間に乾燥固化されるので、塗工剤の乾燥時間の短縮
化が図られる。また、UV塗工剤7は乾燥時に溶剤を放
出しないために、塗工装置を操作する作業員にとって極
めて衛生的な作業環境となる。そして、溶剤を処理する
装置等を不要とした、装置全体の構成の簡略化並びにコ
ストの低廉化を図った装置を得ることもできた。
短時間に乾燥固化されるので、塗工剤の乾燥時間の短縮
化が図られる。また、UV塗工剤7は乾燥時に溶剤を放
出しないために、塗工装置を操作する作業員にとって極
めて衛生的な作業環境となる。そして、溶剤を処理する
装置等を不要とした、装置全体の構成の簡略化並びにコ
ストの低廉化を図った装置を得ることもできた。
しかしながら、紫外線照射機構5において紫外線を照射
すると空気中に含まれる酸素がオゾンに変換させられて
しまう。このオゾンは強い酸化作用を有し、UV塗工剤
7の良好な乾燥固化を阻害するものであるから、UV塗
工剤7の近傍におけるオゾンの発生を防止する必要があ
る。
すると空気中に含まれる酸素がオゾンに変換させられて
しまう。このオゾンは強い酸化作用を有し、UV塗工剤
7の良好な乾燥固化を阻害するものであるから、UV塗
工剤7の近傍におけるオゾンの発生を防止する必要があ
る。
そのため従来は第6図に示すように、基材1が窒素封入
室12内を貫通走行している間に、紫外線照射機構5か
ら紫外線を照射して、オゾンの発生を低く抑えるように
している。すなわち窒素封入室12内にガイドロール1
3を設け、窒素封入室12の側壁部に設けた透孔14
a,14bを通して基材1を貫通させ、ガイドロール1
3の下半外周部に沿って走行可能にしている。また、こ
のガイドロール13の下半外周部を走行する基材1に向
けて、窒素封入室12の下端部に設けた紫外線が透過可
能な石英ガラス12a越しに紫外線照射機構5より紫外
線を照射するようにしている。そして、運転時には窒素
封入室12内へ窒素ガス供給機構(図示せず)によって
絶えず窒素ガスを供給する。この窒素ガスの供給量は、
両透孔14a,14bを通して窒素封入室12から漏曵
する窒素ガスの漏曵量と同量もしくはそれ以上とされ
る。
室12内を貫通走行している間に、紫外線照射機構5か
ら紫外線を照射して、オゾンの発生を低く抑えるように
している。すなわち窒素封入室12内にガイドロール1
3を設け、窒素封入室12の側壁部に設けた透孔14
a,14bを通して基材1を貫通させ、ガイドロール1
3の下半外周部に沿って走行可能にしている。また、こ
のガイドロール13の下半外周部を走行する基材1に向
けて、窒素封入室12の下端部に設けた紫外線が透過可
能な石英ガラス12a越しに紫外線照射機構5より紫外
線を照射するようにしている。そして、運転時には窒素
封入室12内へ窒素ガス供給機構(図示せず)によって
絶えず窒素ガスを供給する。この窒素ガスの供給量は、
両透孔14a,14bを通して窒素封入室12から漏曵
する窒素ガスの漏曵量と同量もしくはそれ以上とされ
る。
このように窒素ガスが充満している窒素封入室12内に
おいて紫外線照射機構5より基材1に塗工されたUV塗
工剤7に紫外線を照射することにより、有害なオゾンの
発生を低く抑えながら、UV塗工剤7の乾燥固化が行な
われる。
おいて紫外線照射機構5より基材1に塗工されたUV塗
工剤7に紫外線を照射することにより、有害なオゾンの
発生を低く抑えながら、UV塗工剤7の乾燥固化が行な
われる。
しかしがなら、第6図に示す従来例においては、両透孔
14a,14bを基材1が自由状態で貫通するように形
成されているので、これらの両透孔14a,14bを通
じて漏曵する窒素ガス量が極めて多量であって、ランニ
ングコストが非常に高価なものであった。また、紫外線
照射機構5の紫外線発生光源10から紫外線を発射する
際に同時に高熱が発せられるため、基材1が窒素封入室
12を通過する途中や前後において伸縮作用を受けてし
まい、熱に弱い基材1自身に損傷が発生してしまうとい
う問題点があった。特に、基材1が薄い場合にこれらの
問題点が顕著であった。
14a,14bを基材1が自由状態で貫通するように形
成されているので、これらの両透孔14a,14bを通
じて漏曵する窒素ガス量が極めて多量であって、ランニ
ングコストが非常に高価なものであった。また、紫外線
照射機構5の紫外線発生光源10から紫外線を発射する
際に同時に高熱が発せられるため、基材1が窒素封入室
12を通過する途中や前後において伸縮作用を受けてし
まい、熱に弱い基材1自身に損傷が発生してしまうとい
う問題点があった。特に、基材1が薄い場合にこれらの
問題点が顕著であった。
また、従来からガイドロール13内に冷水を循環送給し
て、ガイドロール13を介して基材1を冷却し、基材1
の伸縮を抑えるように構成したものもあるが、冷水のみ
を冷媒としていたため、基材1の材質、例えば厚さ、
幅、耐熱強度等の諸性質が変わると、その基材1を適正
な温度に保持することができず、良好な塗工を施すこと
ができなかった。
て、ガイドロール13を介して基材1を冷却し、基材1
の伸縮を抑えるように構成したものもあるが、冷水のみ
を冷媒としていたため、基材1の材質、例えば厚さ、
幅、耐熱強度等の諸性質が変わると、その基材1を適正
な温度に保持することができず、良好な塗工を施すこと
ができなかった。
本考案はこれらの点に鑑みてなされたものであり、窒素
の消費料を極めて少量に抑えてランニングコストの低廉
化を図ることができ、また、基材の温度制御を確実に行
なうことができ、基材の変化を防止してUV塗工剤の塗
工を極めて良好に行なうことのできる紫外線硬化形塗工
剤用硬化装置を提供することを目的とする。
の消費料を極めて少量に抑えてランニングコストの低廉
化を図ることができ、また、基材の温度制御を確実に行
なうことができ、基材の変化を防止してUV塗工剤の塗
工を極めて良好に行なうことのできる紫外線硬化形塗工
剤用硬化装置を提供することを目的とする。
本考案の紫外線硬化形塗工剤用硬化装置は、外周面の周
方向一部分に基材を巻回させて周方向に走行させる回転
自在な基材支持ロールと、この基材支持ロールに巻回さ
れている基材の外面に塗工されている紫外線硬化形塗工
剤に紫外線を照射する紫外線照射機構と、前記基材支持
ロールと紫外線照射機構との間に位置させられたケーシ
ングであって、基材の前記基材支持ロールに巻回されて
いる周方向範囲の外面との間に、その基材支持ロール側
に位置調整自在に配設された縁部材に開設したロール挿
入孔の縁部を前記外面と微小間隙を介在させて臨ませる
ことにより窒素が封入される窒素封入室を形成するとと
もに、前記紫外線照射機構に面する側に紫外線が前記基
材に向けて透過自在な遮蔽板を備えているケーシング
と、前記紫外線照射機構から基材に向けて発せられる熱
線を遮断する熱線カットフィルタとをもって形成したこ
とを特徴とする。
方向一部分に基材を巻回させて周方向に走行させる回転
自在な基材支持ロールと、この基材支持ロールに巻回さ
れている基材の外面に塗工されている紫外線硬化形塗工
剤に紫外線を照射する紫外線照射機構と、前記基材支持
ロールと紫外線照射機構との間に位置させられたケーシ
ングであって、基材の前記基材支持ロールに巻回されて
いる周方向範囲の外面との間に、その基材支持ロール側
に位置調整自在に配設された縁部材に開設したロール挿
入孔の縁部を前記外面と微小間隙を介在させて臨ませる
ことにより窒素が封入される窒素封入室を形成するとと
もに、前記紫外線照射機構に面する側に紫外線が前記基
材に向けて透過自在な遮蔽板を備えているケーシング
と、前記紫外線照射機構から基材に向けて発せられる熱
線を遮断する熱線カットフィルタとをもって形成したこ
とを特徴とする。
以下、本考案の実施例を第1図から第4図について説明
する。
する。
第1図から第3図は本考案の一実施例を示し、第4図は
本考案を用いた塗工装置の全体を示しており、従来と同
一部分には同一の符号を付してある。
本考案を用いた塗工装置の全体を示しており、従来と同
一部分には同一の符号を付してある。
本実施例においては、基材1を直径が比較的大径な中空
の基材支持ロール15の外周の周方向一部分に巻回させ
て走行させるようにしている。この基材支持ロール15
は基材1の幅よりも長い軸方向長を有しており、内部に
は一方の軸方向端の中心部を通して基材1の温度を調整
するための熱媒体からなる流体が循環送給されるように
形成されている。すなわち1例を示せば、第2図に示す
ように、基材支持ロール15の左端にボス部15aを貫
通するようにして熱媒体送給管16aが途中まで挿入さ
れ、この熱媒体送給管16aとボス部15aとの間に熱
媒体復流路16bが形成され、これらの熱媒体送給管1
6aと熱媒体復流路16bとがロータリージョイント1
7を介して熱媒体温度コントローラを備えた熱媒体供給
源(共に図示せず)と接続されている。そして、本実施
例においては、基材1の基材支持ロール15に巻回され
ている部分との間で窒素封入室19を形成するケーシン
グ18を設けている。本実施例では、ケーシング18は
上下動自在な架台20上に載置することにより基材支持
ロール15の下側に配設されている。また、ケーシング
18の下方には、紫外線発生光源10およびコールドミ
ラー11からなる紫外線照射機構5が、ケーシング18
および基材支持ロール15に対して遠近調整自在にして
設けられている。ケーシング18は上下方向にそれぞれ
開口している矩形枠体21を主体としており、矩形枠体
21の下部開口は紫外線が透過自在な透明な石英ガラス
等からなる遮蔽板22によって閉塞されている。また、
矩形枠体21の上端部には、基材支持ロール15の基材
1が巻回されている下方部分が全長に亘って矩形枠体2
1内まで挿入されるロール挿入口23aを有する矩形の
縁部材23が取付けられている。この縁部材23のロー
ル挿入口23aの縁部23bは逆ハ字状に上方に開くよ
う形成されているとともに、基材支持ロール15に巻回
されている基材1の外面に塗工されているUV塗工剤7
との間に微小間隙を介して対向せしめられている。第1
図においては基材1とUV塗工剤7との厚さを誇張して
示してある。このようにして形成されているケーシング
18は、矩形枠体21を架台20上の支持ブロック2
4,24の間に載置し、水平方向に配設されている緊締
ボルト25を緊締することにより固着される。また、縁
部材23は支持ブロック24を水平方向に貫通し、縁部
材23内に螺入している微調整ねじ26を正逆回転させ
ることにより矩形枠体21上を基材支持ロール15の軸
方向と直交する方向(第1図左右方向)に移動させら
れ、縁部材23の適当位置に配設した緊締ボルト27,
27…を緊締することにより固着させられる。そして、
矩形枠体21および縁部材23は耐蝕性を向上させるた
めに表面にポリ4フッ化エチレン樹脂がコーティングさ
れている。また、矩形枠体21、遮蔽板22、縁部材2
3、基材支持ロール15および基材1によって形成され
る窒素封入室19内に窒素を送給する長尺な窒素送給管
28が矩形枠体21を貫通するようにして挿入支持され
ている。この窒素送給管28は窒素封入室19内で途中
をサポートブロック29によって支承されている。ま
た、遮蔽板22の外側には紫外線照射機構5から発生さ
れる熱線を遮断する熱線カットフィルタ30が設けられ
ている。
の基材支持ロール15の外周の周方向一部分に巻回させ
て走行させるようにしている。この基材支持ロール15
は基材1の幅よりも長い軸方向長を有しており、内部に
は一方の軸方向端の中心部を通して基材1の温度を調整
するための熱媒体からなる流体が循環送給されるように
形成されている。すなわち1例を示せば、第2図に示す
ように、基材支持ロール15の左端にボス部15aを貫
通するようにして熱媒体送給管16aが途中まで挿入さ
れ、この熱媒体送給管16aとボス部15aとの間に熱
媒体復流路16bが形成され、これらの熱媒体送給管1
6aと熱媒体復流路16bとがロータリージョイント1
7を介して熱媒体温度コントローラを備えた熱媒体供給
源(共に図示せず)と接続されている。そして、本実施
例においては、基材1の基材支持ロール15に巻回され
ている部分との間で窒素封入室19を形成するケーシン
グ18を設けている。本実施例では、ケーシング18は
上下動自在な架台20上に載置することにより基材支持
ロール15の下側に配設されている。また、ケーシング
18の下方には、紫外線発生光源10およびコールドミ
ラー11からなる紫外線照射機構5が、ケーシング18
および基材支持ロール15に対して遠近調整自在にして
設けられている。ケーシング18は上下方向にそれぞれ
開口している矩形枠体21を主体としており、矩形枠体
21の下部開口は紫外線が透過自在な透明な石英ガラス
等からなる遮蔽板22によって閉塞されている。また、
矩形枠体21の上端部には、基材支持ロール15の基材
1が巻回されている下方部分が全長に亘って矩形枠体2
1内まで挿入されるロール挿入口23aを有する矩形の
縁部材23が取付けられている。この縁部材23のロー
ル挿入口23aの縁部23bは逆ハ字状に上方に開くよ
う形成されているとともに、基材支持ロール15に巻回
されている基材1の外面に塗工されているUV塗工剤7
との間に微小間隙を介して対向せしめられている。第1
図においては基材1とUV塗工剤7との厚さを誇張して
示してある。このようにして形成されているケーシング
18は、矩形枠体21を架台20上の支持ブロック2
4,24の間に載置し、水平方向に配設されている緊締
ボルト25を緊締することにより固着される。また、縁
部材23は支持ブロック24を水平方向に貫通し、縁部
材23内に螺入している微調整ねじ26を正逆回転させ
ることにより矩形枠体21上を基材支持ロール15の軸
方向と直交する方向(第1図左右方向)に移動させら
れ、縁部材23の適当位置に配設した緊締ボルト27,
27…を緊締することにより固着させられる。そして、
矩形枠体21および縁部材23は耐蝕性を向上させるた
めに表面にポリ4フッ化エチレン樹脂がコーティングさ
れている。また、矩形枠体21、遮蔽板22、縁部材2
3、基材支持ロール15および基材1によって形成され
る窒素封入室19内に窒素を送給する長尺な窒素送給管
28が矩形枠体21を貫通するようにして挿入支持され
ている。この窒素送給管28は窒素封入室19内で途中
をサポートブロック29によって支承されている。ま
た、遮蔽板22の外側には紫外線照射機構5から発生さ
れる熱線を遮断する熱線カットフィルタ30が設けられ
ている。
次に、本実施例の作用を説明する。
先ず、準備段階として、基材支持ロール15に基材1を
巻回し、この基材1の外側に塗工されるUV塗工剤7の
塗工厚を予定し、架台20と一緒にケーシング18を上
下動させたり、微調整ねじ26をもって縁部材23を矩
形枠体21上で第1図左右方向に移動させたりして、縁
部材23のロール挿入口23aの縁部23bを基材1の
外側に対して走行方向の前後部において等しい微小間隙
をもって対向させる。この微小間隙は窒素封入室19内
から窒素が漏曵する唯一の場所であるからできるだけ小
さくする。その後、紫外線照射機構5を上下動させて紫
外線発生光源10の基材1との距離調整を行なう。ま
た、同時に、窒素ボンベ等の窒素供給源(図示せず)か
ら窒素送給管28へ窒素を連続供給し、ケーシング18
の窒素封入室19内へ窒素を充満させる。この窒素の連
続供給量は、基材支持ロール15に巻回されている基材
1と縁部材23の縁部23bとの微小間隙を通して漏曵
する窒素漏曵量と同等若しくは若干多い量とされる。ま
た、温水や冷水等からなる温度調整用の熱媒体をロータ
リージョイント17、熱媒体送給管16aおよび熱媒体
復流路16bを介して基材支持ロール15内へ循環送給
させる。
巻回し、この基材1の外側に塗工されるUV塗工剤7の
塗工厚を予定し、架台20と一緒にケーシング18を上
下動させたり、微調整ねじ26をもって縁部材23を矩
形枠体21上で第1図左右方向に移動させたりして、縁
部材23のロール挿入口23aの縁部23bを基材1の
外側に対して走行方向の前後部において等しい微小間隙
をもって対向させる。この微小間隙は窒素封入室19内
から窒素が漏曵する唯一の場所であるからできるだけ小
さくする。その後、紫外線照射機構5を上下動させて紫
外線発生光源10の基材1との距離調整を行なう。ま
た、同時に、窒素ボンベ等の窒素供給源(図示せず)か
ら窒素送給管28へ窒素を連続供給し、ケーシング18
の窒素封入室19内へ窒素を充満させる。この窒素の連
続供給量は、基材支持ロール15に巻回されている基材
1と縁部材23の縁部23bとの微小間隙を通して漏曵
する窒素漏曵量と同等若しくは若干多い量とされる。ま
た、温水や冷水等からなる温度調整用の熱媒体をロータ
リージョイント17、熱媒体送給管16aおよび熱媒体
復流路16bを介して基材支持ロール15内へ循環送給
させる。
以上の準備段階が終了した後に、原反ロール2、ガイド
ロール3、基材支持ロール15、巻取ロール6等を回転
させて基材1を連続走行させ、塗工機構4において基材
1にUV塗工剤7を所定厚さに塗工する。
ロール3、基材支持ロール15、巻取ロール6等を回転
させて基材1を連続走行させ、塗工機構4において基材
1にUV塗工剤7を所定厚さに塗工する。
この基材1に塗工されたUV塗工剤7が本実施例装置に
達すると、第1図において基材支持ロール15の外周に
巻回されて基材1と一緒に反時計方向に回転する。そし
て、基材1に塗工されたUV塗工剤7は基材1と一緒に
第1図左側に位置する縁部材23の縁部23b部分を相
互間に微小間隙を介在させて対向しながら通過して、窒
素が充満しているケーシング18の窒素封入室19内に
入り、その窒素封入室19内を進行する間に紫外線照射
機構5から発せられた紫外線を照射されて瞬時に硬化す
る。
達すると、第1図において基材支持ロール15の外周に
巻回されて基材1と一緒に反時計方向に回転する。そし
て、基材1に塗工されたUV塗工剤7は基材1と一緒に
第1図左側に位置する縁部材23の縁部23b部分を相
互間に微小間隙を介在させて対向しながら通過して、窒
素が充満しているケーシング18の窒素封入室19内に
入り、その窒素封入室19内を進行する間に紫外線照射
機構5から発せられた紫外線を照射されて瞬時に硬化す
る。
紫外線照射機構5が紫外線を発生する時に同時に発生す
る熱線は熱線カットフイルタ30によって良好に減少さ
せられる。同時に基材1は基材支持ロール15と接触し
ていることにより基材支持ロール15内を流通する熱媒
体である流体と熱交換して温度上昇を防止され常に適正
な温度状態に保持される。そして、基材1は基材支持ロ
ール15に巻回されていることによりばたつくことなく
安定的に伸縮することなく一定状態で走行させられる。
また、窒素封入室19内は窒素が充満しているので、酸
化作用の強いオゾンの発生が極めて低く抑えられ、UV
塗工剤7の硬化力を阻害することがなくなる。従って、
基材1に塗工されているUV塗工剤7の紫外線を受けて
硬化した後の塗工仕上り状態も極めて良好となり、商品
価値が大きく向上される。また、基材1が基材支持ロー
ル15に巻回されてばたつくことなく安定的に走行する
ので、基材1に塗工されているUV塗工剤7と縁部材2
3のロール挿入口23aの縁部23bとの間の微小間隙
の大きさも経時変化することなく小さく保持されること
となり、同微小間隙を通しての窒素の漏曵量も第6図に
示す従来例に比べて約1/100程度に減少させられ
る。従って、ランニングコストが大きく低減させられ
る。このようにして基材1は窒素封入室19内において
UV塗工剤7を極めて良好に硬化せしめられ、その後、
第1図右側に位置する縁部材23の縁部23b部分を相
互間に微小間隙を介在させて対向しながら通過して、ケ
ーシング18外へ進行し、その後巻取ロール6に巻取ら
れる。
る熱線は熱線カットフイルタ30によって良好に減少さ
せられる。同時に基材1は基材支持ロール15と接触し
ていることにより基材支持ロール15内を流通する熱媒
体である流体と熱交換して温度上昇を防止され常に適正
な温度状態に保持される。そして、基材1は基材支持ロ
ール15に巻回されていることによりばたつくことなく
安定的に伸縮することなく一定状態で走行させられる。
また、窒素封入室19内は窒素が充満しているので、酸
化作用の強いオゾンの発生が極めて低く抑えられ、UV
塗工剤7の硬化力を阻害することがなくなる。従って、
基材1に塗工されているUV塗工剤7の紫外線を受けて
硬化した後の塗工仕上り状態も極めて良好となり、商品
価値が大きく向上される。また、基材1が基材支持ロー
ル15に巻回されてばたつくことなく安定的に走行する
ので、基材1に塗工されているUV塗工剤7と縁部材2
3のロール挿入口23aの縁部23bとの間の微小間隙
の大きさも経時変化することなく小さく保持されること
となり、同微小間隙を通しての窒素の漏曵量も第6図に
示す従来例に比べて約1/100程度に減少させられ
る。従って、ランニングコストが大きく低減させられ
る。このようにして基材1は窒素封入室19内において
UV塗工剤7を極めて良好に硬化せしめられ、その後、
第1図右側に位置する縁部材23の縁部23b部分を相
互間に微小間隙を介在させて対向しながら通過して、ケ
ーシング18外へ進行し、その後巻取ロール6に巻取ら
れる。
このように本実施例によれば、基材1に塗工されたUV
塗工剤7を極めて精度よく硬化させることができるとと
もに、窒素の消費量も少なく抑えてランニングコストの
低減を図ることができる。
塗工剤7を極めて精度よく硬化させることができるとと
もに、窒素の消費量も少なく抑えてランニングコストの
低減を図ることができる。
なお、本考案は前記実施例に限定されるものではなく、
例えばケーシング18の方向を上向き以外の方向にして
設けたりして、必要に応じて変更することができる。
例えばケーシング18の方向を上向き以外の方向にして
設けたりして、必要に応じて変更することができる。
このように本考案は構成され作用するものであるから、
窒素の消費量を極めて少量に抑えてランニングコストの
低廉化を図ることができ、また、基材の温度制御を確実
に行なうことができ、基材の変形を防止してUV塗工剤
の塗工を極めて良好に行なうことができ、特に従来不可
能であった薄いフイルムからなる基材に対してもUV塗
工剤を極めて良好に塗工することがてきる等の効果を奏
する。
窒素の消費量を極めて少量に抑えてランニングコストの
低廉化を図ることができ、また、基材の温度制御を確実
に行なうことができ、基材の変形を防止してUV塗工剤
の塗工を極めて良好に行なうことができ、特に従来不可
能であった薄いフイルムからなる基材に対してもUV塗
工剤を極めて良好に塗工することがてきる等の効果を奏
する。
第1図から第3図は本考案の紫外線硬化形塗工剤用硬化
装置の一実施例を示し、第1図は縦断側面図、第2図は
第1図のII−II線に沿った断面図、第3図は基材支持ロ
ールを除いた状態の平面図、第4図は本考案装置を用い
た塗布装置の概略構成図、第5図は従来の塗布装置の概
略構成図、第6図は従来の紫外線照射装置を示す縦断側
面図である。 1…基材、5…紫外線照射機構、10……紫外線発生光
源、11…コールドミラー、15…基材支持ロール、1
6…流体流路、18…ケーシング、19…窒素封入室、
21…矩形枠体、22…遮蔽板、23…縁部材、23a
…ロール挿入口、23b…縁部、28…窒素送給管、3
0…熱線カットフイルタ。
装置の一実施例を示し、第1図は縦断側面図、第2図は
第1図のII−II線に沿った断面図、第3図は基材支持ロ
ールを除いた状態の平面図、第4図は本考案装置を用い
た塗布装置の概略構成図、第5図は従来の塗布装置の概
略構成図、第6図は従来の紫外線照射装置を示す縦断側
面図である。 1…基材、5…紫外線照射機構、10……紫外線発生光
源、11…コールドミラー、15…基材支持ロール、1
6…流体流路、18…ケーシング、19…窒素封入室、
21…矩形枠体、22…遮蔽板、23…縁部材、23a
…ロール挿入口、23b…縁部、28…窒素送給管、3
0…熱線カットフイルタ。
Claims (2)
- 【請求項1】外周面の周方向一部分に基材を巻回させて
周方向に走行させる回転自在な基材支持ロールと、この
基材支持ロールに巻回されている基材の外面に塗工され
ている紫外線硬化形塗工剤に紫外線を照射する紫外線照
射機構と、前記基材支持ロールと紫外線照射機構との間
に位置させられたケーシングであって、基材の前記基材
支持ロールに巻回されている周方向範囲の外面との間
に、その基材支持ロール側に位置調整自在に配設された
縁部材に開設したロール挿入孔の縁部を前記外面と微小
間隙を介在させて臨ませることにより窒素が封入される
窒素封入室を形成するとともに、前記紫外線照射機構に
面する側に紫外線が前記基材に向けて透過自在な遮蔽板
を備えているケーシングと、前記紫外線照射機構から基
材に向けて発せられる熱線を遮断する熱線カットフィル
タとを有することを特徴とする紫外線硬化形塗工剤用硬
化装置。 - 【請求項2】基材支持ロールは、内部に熱交換用の流体
が循環送給されるように形成されていることを特徴とす
る紫外線硬化形塗工剤用硬化装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1988005376U JPH0618608Y2 (ja) | 1988-01-21 | 1988-01-21 | 紫外線硬化形塗工剤用硬化装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1988005376U JPH0618608Y2 (ja) | 1988-01-21 | 1988-01-21 | 紫外線硬化形塗工剤用硬化装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH01110877U JPH01110877U (ja) | 1989-07-26 |
JPH0618608Y2 true JPH0618608Y2 (ja) | 1994-05-18 |
Family
ID=31208701
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1988005376U Expired - Lifetime JPH0618608Y2 (ja) | 1988-01-21 | 1988-01-21 | 紫外線硬化形塗工剤用硬化装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0618608Y2 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2003093963A (ja) * | 2001-09-21 | 2003-04-02 | Konica Corp | 光学フィルムの製造方法 |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007075794A (ja) * | 2005-09-16 | 2007-03-29 | Fujifilm Corp | 塗布膜の硬化装置及び方法 |
JP5139133B2 (ja) * | 2008-03-31 | 2013-02-06 | 富士フイルム株式会社 | 塗布膜の硬化装置及びその装置を用いた光学フィルムの製造方法 |
Family Cites Families (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5749262B2 (ja) * | 1974-03-25 | 1982-10-21 | ||
JPS54143776A (en) * | 1978-04-28 | 1979-11-09 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Ultraviolet irradiator |
DE3416502A1 (de) * | 1984-05-04 | 1985-11-07 | Goldschmidt Ag Th | Vorrichtung zum aushaerten von flaechigen werkstoffen aus durch uv-strahlung haertbaren verbindungen oder zubereitungen |
-
1988
- 1988-01-21 JP JP1988005376U patent/JPH0618608Y2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2003093963A (ja) * | 2001-09-21 | 2003-04-02 | Konica Corp | 光学フィルムの製造方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH01110877U (ja) | 1989-07-26 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US6185840B1 (en) | Method and apparatus for hardening a layer on a substrate | |
EP0357423A3 (en) | An exposure apparatus | |
AU2007299024B2 (en) | A device and a process for coating a peripheral surface of a sleeve body | |
JPS5946789B2 (ja) | 光重合性物質硬化用ランプ硬化装置 | |
US4337220A (en) | Production of photosensitive resin cylinders | |
JPH0618608Y2 (ja) | 紫外線硬化形塗工剤用硬化装置 | |
JPS6321182B2 (ja) | ||
JP2931183B2 (ja) | 凹凸フィルムの製造装置 | |
KR960043010A (ko) | 플래즈마 처리장치 및 플래즈마 처리방법 | |
US6984830B2 (en) | Apparatus for limited-heat curing of photosensitive coatings and inks | |
ES2168394T3 (es) | Dispositivo para el revestimiento interior de tubos. | |
US6405790B1 (en) | Roll | |
KR960022713A (ko) | 배향필름의 배향처리방법 및 장치 | |
US20090218924A1 (en) | Light source for ultraviolet ray irradiation | |
JPH0731913A (ja) | 表裏両面に凹凸模様を有するフィルムの製造装置 | |
US3676178A (en) | Process and apparatus for coating web supports | |
JP3200968B2 (ja) | 紫外線照射装置 | |
JPH103085A (ja) | 液晶素子の封止装置および封止方法 | |
JPH0312257A (ja) | 熱可塑性塗工液の塗工装置及び塗工方法 | |
JPS638424Y2 (ja) | ||
JP2013213885A (ja) | 露光装置及び露光方法及びパターンフィルムの製造方法 | |
JPH10163103A (ja) | 露光方法及び露光装置 | |
JPS6132731Y2 (ja) | ||
KR960007296B1 (ko) | 수직형 진공식 열가소성 튜브 확관장치 | |
FI92231C (fi) | Päällystyslaitteen patoterä |