JP5137419B2 - コーティング剤、同組成物を塗布した成型体および光学部材 - Google Patents

Description

本発明は、特定構造のポリカーボネート重合体からなるコーティング剤、同コーティング剤を基材に塗布してなるコーティング層を有する成形体、特に、同コーティング層の表面にさらにレンズ形成材料を塗布してマイクロレンズ構造を形成してなる光学部材に関する。
特に、液晶表示パネル、車搭載用メーターパネル、テイルランプ等のバック照明装置に用いられる、光散乱層または集光層としての役割を有するマイクロレンズ構造を設けた光学部材、例えば導光板、拡散板、反射板、偏光板、三次元立体視ディスプレイ用マイクロレンズアレイデバイス等として利用できる光学部材に関するものである。また、固体撮像カメラもしくはイメージセンサーとして用いられる固体撮像素子や液晶素子にも応用が可能な光学部材に関するものである。

パーソナルコンピュータや携帯電話、ＰＤＡ等に使用される液晶表示装置には、液晶表示装置の薄型、軽量化、省電力、高輝度・高精細化の要求に対処するために、液晶表示パネルのバック照明用として、均一に発光する面光源ユニットが組み込まれている。また、車搭載用メーターパネル、テイルランプ、各種誘導灯等のバック照明用についても同様に面状の光源ユニットが使用されており、中でも、透明な板状成形体で形成され、光源である冷陰極管（蛍光灯）やＬＥＤ等の発光源からの光を受けて面発光するものは導光板と呼ばれている。導光板の場合、発光源からの光は導光板の側面より導入され、板内を透過した光の一部が、板の裏面に施された光散乱層で散乱光を発し、面全体が均一に発光するものである。
一般に、導光板材料としては、高度な全光線透過率が必要であることから、通常アクリル系樹脂（ＰＭＭＡ）が用いられているが、アクリル系樹脂は耐熱性、機械的強度、難燃性に劣ることから、車搭載用のディスプレイ、テイルランプ、ウィンカー等の耐熱性を要求される照明装置には適さない。また近年、パーソナルコンピュータや携帯電話、ＰＤＡ等の機器の内部で発生する熱が高くなる傾向にあることから、耐熱性、機械的強度、難燃性が良好なポリカーボネート樹脂がアクリル樹脂に代わって使用され始めている。
なお、導光板への光散乱層形成については、従来、円錐ドリル等による切削加工法等や成型体にマイクロレンズやマイクロプリズム等のマイクロ構造を転写する方法等が使用されてきた。切削加工によるマイクロ構造体の形成には高度な技術が必要な上、複雑な工程を経ることから、生産性が高く、量産化がし易い射出成型等による成型加工法を用いた転写法が主流として用いられている。しかしながら、この方法は金型にマイクロ構造（スタンパ）を作製し、射出成型等を用いて樹脂を流し込み、マイクロ構造体を転写するため、サイクルタイムが短くて良い反面、樹脂の流動性が悪いことに起因する転写性の低さという問題がある。転写性を向上させるためには、ポリカーボネート樹脂の分子量を低下させる方法があるが、分子量低下とともに、機械的強度が低下する。また流動性改良のためにポリカーボネート樹脂へ他の材料を添加する方法が提案（特許文献１）されているが、耐熱性の問題や透明性の問題がある。さらに、金型にマイクロ構造を形成するため、簡単にマイクロ構造の修正をするわけにはいかず、最初から金型を作製し直さなければならないという問題がある。上記以外のマイクロレンズ形成法としては、インクジェット等を用いた方法が提案されている（特許文献２）。液晶表示装置に用いられるバックライトの導光板等を製造するに当たり、導光板の基材となるプラスチックの片面または両面に入射光の拡散または散乱を阻止する半球形状の鏡面ドットを形成するもので、上記の射出成型加工等による製造法に比べて、金型を作製する必要がないという利点を有している。しかしながら本方法の場合、基材として用いられるポリカーボネート樹脂等の表面エネルギーが高いため、鏡面ドットを形成するマイクロレンズ形成材料と馴染み易く、形成したマイクロレンズが平坦化するため、輝度低下につながる。
一方、液晶素子や固体撮像素子においては、素子の高密度化が進められているが、素子の高密度化は画素の開口率の低下を招き、素子の光利用率を低下させるため、液晶素子や固体撮像素子の各画素に対応しマイクロレンズを形成し、ブラックマトリックスによって遮光される光を各画素に集光することにより光利用効率を向上させる方法等が提案されている（非特許文献１）。マイクロレンズの作製方法としてスタンパを用いた加工法等が提案されている（特許文献３）。この方法は、凹状のスタンパを作製し、このスタンパを用いて樹脂を凸状に形成することによりマイクロレンズを製造する。これらのマイクロレンズは、液晶素子や固体撮像素子に貼り合わせるか、または液晶素子や固体撮像素子上に直接形成される。しかしながら、スタンパの作製には高度な技術を要することや、レンズ形状を変更したい場合、最初から作り直さなければならないという問題がある上、液晶素子等に張り合わせる場合、接着界面での光の拡散、反射等により、光利用率が低下するという問題がある。

特開２００１−２１５３３６号公報 特開２００５−２４９８８２号公報 特開平８−７２０６４号公報 日経マイクロデバイス（１２）１２９（１９９１）

本発明は、塗液としての安定性が良好で、かつポリカーボネート樹脂等基材に対して良好な密着性を示し、塗布した後に乾燥させても白化せず、その塗布膜が良好な撥水性（低表面エネルギー化）を示すコーティング剤、並びにそのコーティング剤から形成されるコーティング層表面にレンズ形成材料を塗布することにより、簡便にマイクロレンズを形成でき、しかもレンズ形成材料の平坦化を抑制することが可能で、輝度等の光学特性に優れたマイクロレンズ構造を有する成型体および光学部材を提供することにある。

本発明者等は、上記課題を解決するために鋭意研究した結果、分子構造内に特定の繰り返し単位と特定の骨格を有し、かつ、還元粘度が特定の範囲にあるポリカーボネート重合体と有機溶剤を含有するコーティング剤が、上記本発明の目的に適合しうることを見出し本発明を完成させるに至った。
すなわち、本発明は以下（１）〜（１２）
（１）一般式（１）

[式中、Ａ¹は二価のフェノール性水酸基を有する化合物残基および/または二価のアルコール性水酸基を有する化合物残基を示す]
で表される繰り返し単位と、一般式（２）

[式中、Ｒ¹およびＲ²は各々独立にアルキル基、アルコキシ基、またはアリール基、アリール置換アルケニル基、縮合多環式炭化水素基から選ばれる一価の置換基を示し、ｎは１〜１００の整数を示す］
で表されるシロキサン骨格および/またはフッ素原子を含む骨格を有し、かつ塩化メチレンを溶媒とする濃度０．５ｇ/ｄｌ溶液の２０℃における還元粘度［η_sp/ｃ］が０．１〜３．０ｄｌ/ｇであるポリカーボネート重合体（以下、ポリカーボネート重合体Iと称することがある）および有機溶剤を含むことを特徴とするコーティング剤、
（２）一般式（３）

[式中、Ａ²は二価のフェノール性水酸基を有する化合物残基、二価のアルコール性水酸基を有する化合物残基、および二価のポリオルガノシロキサンフェノール変性物残基の中から選ばれる少なくとも１種の残基を示す]
で表される繰り返し単位とフッ素原子を含む骨格を有し、かつ塩化メチレンを溶媒とする濃度０．５ｇ/ｄｌ溶液の２０℃における還元粘度［η_sp/ｃ］が０．１〜３．０ｄｌ/ｇであるポリカーボネート重合体（以下、ポリカーボネート重合体IIと称することがある）及び有機溶剤を含むことを特徴とするコーティング剤、
（３）フッ素原子を含む骨格として、一般式（４）

［式中、Ｒ_f1は、少なくとも炭素原子及びフッ素原子から構成され、アリーレン基を介することなく、カーボネート結合の各酸素原子と直接結合している基を表す］で表される繰り返し単位を有する上記（１）または（２）に記載のコーティング剤、
（４）フッ素原子を含む骨格として重合体末端が下記一般式（５）〜（１０）

［（５）〜（１０）式中のＲ⁵は炭素数１〜３０のパーフルオロアルキル基または置換パーフルオロアルキル基、Ｙは−ＣＨ₂−でｅは０〜６の整数であり、Ｚは−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＯＣＯ−、−Ｓ−、−ＳＯ−、−ＳＯ₂ −又は−ＮＨＣＯ−であり、ｆは０又は１であり、Ｒ⁶ はハロゲン原子、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数５〜７のシクロアルキル基又は炭素数６〜１２の置換もしくは無置換のアリール基のいずれかであり、ｃ及びｄはｃ＋ｄ≦５、ｃ＝１〜５、ｄ＝０〜４で表わされる整数である]
のいずれかで表される基を有する上記（１）〜（３）のいずれかに記載のコーティング剤、
（５）二価のポリオルガノシロキサンフェノール変性物残基が下記一般式（１１）

［式(１１)中、Ｒ⁷、Ｒ⁸、Ｒ⁹は各々独立にアルキル基、アルコキシ基、またはアリール基、アリール置換アルケニル基、縮合多環式炭化水素基から選ばれる一価の置換基を示し、Ｒ⁸、Ｒ⁹は水素原子であってもよい。ｇは０〜４の整数、ｎ１は１〜１０の整数、ｎ２は１〜１００の整数を示す］、
もしくは下記一般式（１２）

［式(１２)中、Ｒ¹⁰は各々独立にハロゲン原子、炭素原子数が１〜６の置換もしくは無置換のアルキル基、炭素原子数が１〜６の置換もしくは無置換のアルコキシ基又は炭素原子数が６〜１２の置換もしくは無置換のアリール基であり、Ｒ¹¹は脂肪族不飽和結合を含まない同種又は異種の一価炭化水素基であり、ｇは０〜４の整数、ｎ３は１〜５０の整数、ｎ４、ｎ５はそれぞれ独立に１〜１０の整数である］
で表される基である上記（２）〜（４）のいずれかに記載のコーティング剤、
（６）二価のフェノール性水酸基を有する化合物残基が下記一般式（１３）

［式中、Ｒ¹²、Ｒ¹³は、それぞれ独立に、ハロゲン原子、置換または無置換の炭素数１〜１２のアルキル基、置換または無置換の炭素数１〜１２のアルコキシ基、置換または無置換の炭素数６〜１２のアリール基、置換または無置換の炭素数７〜１３のアリールアルキルもしくはアリールアルケニル基及び置換または無置換の炭素数１〜１２のフルオロアルキル基、置換または無置換の炭素数６〜２４の縮合多環式炭化水素を示す。ｓ、ｔは各々独立に０〜４の整数である。Ｘ¹は、単結合、−Ｏ−、−ＣＯ−、−Ｓ−、−ＳＯ−、−ＳＯ₂ −、−ＣＲ¹⁴及び−ＣＲ¹⁵−（ただし、Ｒ¹⁴及びＲ¹⁵は各々独立に水素、置換又は無置換の炭素数１〜２４のアルキル基、置換または無置換のフェニル基及びトリフルオロメチル基から選ばれる）、置換または無置換の炭素数５〜１２のシクロアルキリデン基、２，２−アダマンチル基、１，３−アダマンチル基、置換または無置換の炭素数２〜１２のα，ω−アルキレン基、置換または無置換の炭素数１３〜２５の９，９−フルオレニリデン基、１，８−メンタンジイル基、２，８−メンタンジイル基、置換または無置換の炭素数４〜１０のピラジリデン基、置換または無置換の炭素数６〜１２のアリーレン基、及び−Ｃ（ＣＨ₃）₂−Ｐｈ−Ｃ（ＣＨ₃）₂−から選ばれるいずれかの基を示す（Ｐｈは、フェニレン基を示す）］
で表される基を含む上記（１）〜（５）のいずれかに記載のコーティング剤、
（７）有機溶剤が非ハロゲン系溶剤から選ばれる少なくとも１種である上記（１）〜（６）のいずれかに記載のコーティング剤、
（８）上記（１）〜（７）のいずれかに記載のコーティング剤を基材表面に塗布してコーティング層を形成させてなる成型体、
（９）上記（８）に記載の成型体からなる光学部材、
（１０）さらに、レンズ形成材料を塗布してなるマイクロレンズ構造を表面に有する上記（９）に記載の光学部材、
（１１）インクジェット印刷技術によりレンズ形成材料を塗布してなる上記（９）に記載の光学部材および、
（１２）導光板、偏光板、反射板、拡散板、三次元立体視ディスプレイ用マイクロレンズアレイデバイスのいずれかである上記（１１）に記載の光学部材
を提供するものである。

本発明により、コーティング剤としての安定性が良好で、かつポリカーボネート樹脂等への基材に対して良好な密着性を示し、塗布した後に乾燥させて形成されたコーティング層が白化せず、良好な撥水性を示すコーティング剤、および同コーティング剤が適用された成型体が提供される。また、その成型体表面に形成されたコーティング層表面に光学材料を塗布することにより、光学材料の平坦化を抑制することができ、輝度等の光学特性に優れたマイクロレンズを形成することが可能となる。

まず、本発明のコーティング剤について説明する。
本発明のコーティング剤は以下に示すポリカーボネート重合体Iまたはポリカーボネート重合体IIと有機溶剤を含むことを特徴とする。
ポリカーボネート重合体Iは一般式（１）

[式中、Ａ¹は二価のフェノール性水酸基を有する化合物残基および/または二価のアルコール性水酸基を有する化合物残基を示す]と一般式（２）で表されるシロキサン骨格

[式中、Ｒ¹およびＲ²は各々独立にアルキル基、アルコキシ基、またはアリール基、アリール置換アルケニル基、縮合多環式炭化水素基から選ばれる一価の置換基を示し、ｎは１〜１００の整数を示す］
で表されるシロキサン骨格および/またはフッ素原子を含む骨格を有している。
一方、ポリカーボネート重合体IIは一般式（３）

[式中、Ａ²は二価のフェノール性水酸基を有する化合物残基、二価のアルコール性水酸基を有する化合物残基、および二価のポリオルガノシロキサンフェノール変性物残基の中から選ばれる少なくとも１種の残基を示す]
で表される繰り返し単位とフッ素原子を含む骨格を有している。

前記一般式（１）および一般式（３）におけるA¹およびA²のうちの二価のフェノール性水酸基を有する化合物残基としては、一般式（１３）

で表される二価フェノールおよびナフタレンジオール類由来の残基などを挙げることができる。
上記一般式（１３）において、式中、Ｒ¹²、Ｒ¹³は、それぞれ独立に、ハロゲン原子、置換または無置換の炭素数１〜１２のアルキル基、置換または無置換の炭素数１〜１２のアルコキシ基、置換または無置換の炭素数６〜１２のアリール基、置換または無置換の炭素数７〜１３のアリールアルキルもしくはアリールアルケニル基及び置換または無置換の炭素数１〜１２のフルオロアルキル基、置換または無置換の炭素数６〜２４の縮合多環式炭化水素を示す。ｓ、ｔは各々独立に０〜４の整数である。Ｘ¹は、単結合、−Ｏ−、−ＣＯ−、−Ｓ−、−ＳＯ−、−ＳＯ₂−、−ＣＲ¹⁴及び−ＣＲ¹⁵−（ただし、Ｒ¹⁴及びＲ¹⁵は各々独立に水素、置換又は無置換の炭素数１〜２４のアルキル基、置換または無置換のフェニル基及びトリフルオロメチル基から選ばれる）、置換または無置換の炭素数５〜１２のシクロアルキリデン基、２，２−アダマンチル基、１，３−アダマンチル基、置換または無置換の炭素数２〜１２のα，ω−アルキレン基、置換または無置換の炭素数１３〜２５の９，９−フルオレニリデン基、１，８−メンタンジイル基、２，８−メンタンジイル基、置換または無置換の炭素数４〜１０のピラジリデン基、置換または無置換の炭素数６〜１２のアリーレン基、及び−Ｃ（ＣＨ₃）₂−Ｐｈ−Ｃ（ＣＨ₃）₂−から選ばれるいずれかの基を示す（Ｐｈは、フェニレン基を示す）。

前記Ｒ¹²、Ｒ¹³におけるハロゲン原子は塩素、フッ素、臭素、ヨウ素原子を示し、炭素数１〜１２のアルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、、各種ブチル基、すなわち、n−ブチル基、イソブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、各種ペンチル基、各種ヘキシル基、各種ヘプチル基、各種オクチル基などの炭素数１〜８のアルキル基が好ましい。炭素数１〜１２のアルコキシ基としては、前記例示の各種アルキル基に対応する炭素数１〜８のアルコキシ基が好ましく挙げられる。炭素数６〜１２のアリール基としては、例えば、フェニル基、ナフチル基などが、炭素数７〜１３のアリールアルキル基としては、例えば、ベンジル基、フェネチル基、ナフチルメチル基などが、炭素数７〜１３のアリールアルケニル基としては、例えば、スチリル基、α−メチルスチリル基などをあげることができる。置換または無置換の炭素数１〜１２のフルオロアルキル基としては、トリフルオロメチル基、パーフルオロオクチル基等を挙げることができる。置換または無置換の炭素数６〜２４の縮合多環式炭化水素基としては、ナフチル基、アントラセニル基、トリシクロデカニル基等を挙げることができる。前記ｓが２〜４の場合はＲ¹²は互いに同一であっても異なっていてもよいし、ｔが２〜４の場合はＲ¹³は互いに同一であっても異なっていてもよい。
前記一般式（１３）で表される二価のフェノール性水酸基を有する化合物残基は一般式（１３−ａ）

で表される二価のフェノール性水酸基を有する化合物によって形成される。
一般式（１３−ａ）において、Ｒ¹²、Ｒ¹³、ｓ、およびｔは一般式（１３）における場合と同じである。
このような二価のフェノール性水酸基を有する化合物の具体例を挙げると下記のとおりである。
例えば、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）メタン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）エタン、１，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）エタン、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）ブタン、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）ブタン、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）オクタン、４，４−ビス（４−ヒドロキシフェニル）ヘプタン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−１，１−ジフェニルメタン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−１−フェニルエタン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−１−フェニルメタン、ビス（４−ヒドロキシフェニル）エーテル、ビス（４−ヒドロキシフェニル）スルフィド、ビス（４−ヒドロキシフェニル）スルホン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）シクロペンタン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン、２，２−ビス（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（３−フェニル−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２−（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）−２−（４−ヒドロキシフェニル）−１−フェニルエタン、ビス（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）スルフィド、ビス（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）スルホン、ビス（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）メタン、１，１−ビス（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン、４，４−ビフェノール、３，３’−ジメチル−４，４’−ビフェノール、３，３’−ジフェニル−４，４’−ビフェノール、３，３’−ジクロロ−４，４’−ビフェノール、３，３’−ジフルオロ−４，４’−ビフェノール、３，３’，５，５’−テトラメチル−４，４’−ビフェノール、２，７−ナフタレンジオール、２，６−ナフタレンジオール、１，４−ナフタレンジオール、１，５−ナフタレンジオール、２，２−ビス（２−メチル−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、１，１−ビス（２−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）ブタン、１，１−ビス（２−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）エタン、１，１−ビス（２−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）プロパン、１，１−ビス（２−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）ブタン、１，１−ビス（２−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）イソブタン、１，１−ビス（２−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）ヘプタン、１，１−ビス（２−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）−１−フェニルメタン、１，１−ビス（２−ｔｅｒｔ−アミル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）ブタン、ビス（３−クロロ−４−ヒドロキシフェニル）メタン、ビス（３，５−ジブロモ−４−ヒドロキシフェニル）メタン、２，２−ビス（３−クロロ−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（３−フルオロ−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（３−ブロモ−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（３，５−ジフルオロ−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（３，５−ジクロロ−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（３，５−ジブロモ−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（３−ブロモ−４−ヒドロキシ−５−クロロフェニル）プロパン、２，２−ビス（３，５−ジブロモ−４−ヒドロキシフェニル）ブタン、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）ブタン、２，２−ビス（３，５−ジブロモ−４−ヒドロキシフェニル）ブタン、１−フェニル−１，１−ビス（３−フルオロ−４−ヒドロキシフェニル）エタン、ビス（３−フルオロ−４−ヒドロキシフェニル）エーテル、３，３’−ジフルオロ−４，４’−ジヒドロキシビフェニル、１，１−ビス（３−シクロヘキシル−４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）ヘキサフルオロプロパン、２，２−ビス（３−フェニル−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、１，１−ビス（３−フェニル−４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン、ビス（３−フェニル−４−ヒドロキシフェニル）スルホン、４，４’−（３，３，５−トリメチルシクロヘキシリデン）ジフェノール、４，４’−〔１，４−フェニレンビス（１−メチルエチリデン）〕ビスフェノール、４，４’−〔１，３−フェニレンビス（１−メチルエチリデン）〕ビスフェノール、９，９’−ビス(４−ヒドロキシフェニル）フルオレン、９，９’−ビス(３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）フルオレン、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）アダマンタン、１，３−ビス（４−ヒドロキシフェニル）アダマンタン等が挙げられる。
これらの化合物の中で、得られるコーティング剤の特性及び入手の容易さなどの観点から、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）エタン、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−１，１−ジフェニルメタン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−１−フェニルエタン、ビス（４−ヒドロキシフェニル）スルホン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン、２，２−ビス（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（３−フェニル−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、４，４−ビフェノール、２，７−ナフタレンジオール、２，２−ビス（３−フェニル−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）ブタン、４，４’−（３，３，５−トリメチルシクロヘキシリデン）ジフェノール、４，４’−〔１，４−フェニレンビス（１−メチルエチリデン）〕ビスフェノール、９，９’−ビス(４−ヒドロキシフェニル）フルオレン、９，９’−ビス(３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）フルオレンが好ましい。
なお、これらの化合物は１種単独で用いても、２種以上を混合して用いてもよい。

ポリカーボネート重合体Iの一般式（２）で表されるシロキサン骨格はポリオルガノシロキサンに由来する骨格であり、式中Ｒ¹およびＲ²は各々独立にメチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、、各種ブチル基、すなわち、n−ブチル基、イソブチル基等の炭素数１〜５のアルキル基およびフェニル基が好ましい。ｎは１〜１００の整数を示す。ｎの好ましい範囲は１０〜６０である。ｎのさらに好ましい範囲は１０〜５０である。
一般式（２）で表されるシロキサン骨格の元となる化合物としては、両末端型、片末端型、側鎖型、側鎖両末端型のアミノ変性シリコーンオイル、エポキシ変性シリコーンオイル、カルボキシル変性シリコーンオイル、カルビノール変性シリコーンオイル、メタクリル変性シリコーンオイル、メルカプト変性シリコーンオイル、フェノール変性シリコーンオイル、ポリエーテル変性シリコーンオイル、異種官能基変性シリコーンオイル等があるが、ポリカーボネート樹脂合成時の反応性や入手の容易さなどの観点から両末端型、片末端型、側鎖型、側鎖両末端型のフェノール変性シリコーンオイルが好ましい。

一般式（１）中のＡ¹および一般式（３）中のＡ²のひとつである二価のアルコール性水酸基を有する化合物残基の元となる化合物としては、１，３−プロパンジオール、1，４−ブタンジオール、１，５−ペンタンジオール、１，６−ヘキサンジオール、１，７−ヘプタンジオール、１，８−オクタンジオール、１，９−ノナンジオール、１，１０−デカンジオール、１，１１−ウンデカンジオール、１，１２−ドデカンジオール、１，１−エタンジオール、1，１−ブタンジオール、１，１−ペンタンジオール、１，１−ヘキサンジオール、１，１−ヘプタンジオール、１，１−オクタンジオール、１，１−ノナンジオール、１，１−デカンジオール、１，１−ウンデカンジオール、１，１−ドデカンジオール、１，２−プロパンジオール、１，２−ブタンジオール、１，２−ペンタンジオール、１，２−ヘキサンジオール、１，２−ヘプタンジオール、１，２−オクタンジオール、１，２−ノナンジオール、１，２−デカンジオール、１，２−ウンデカンジオール、１，２−ドデカンジオール、１，２−トリデカンジオール、１，２−テトラデカンジオール、１，２−ペンタデカンジオール、１，２−ヘキサデカンジオール、プロパン−２，２−ジオール、ブタン−２，２−ジオール、ペンタン−３，３−ジオール、デカン−２，２−ジオール、ドデカン−２，２−ジオール、テトラデカン−２，２−ジオール、ブタン−２，３−ジオール、ペンタン−２，３−ジオール、ウンデカン−２，３−ジオール、トリデカン−２，３−ジオール、ペンタデカン−２，３−ジオール、ヘキサン−３，４−ジオール、ヘプタン−３，４−ジオール、トリデカン−３，４−ジオール、プロパン−１，２−ジオール、デカン−１，２−ジオール、ドデカン−１，２−ジオール、ブタン−１，２−ジオール、ウンデカン−１，２−ジオール、トリデカン−１，２−ジオール、１，４−ビス（２−ヒドロキシ−２−プロピル）ベンゼン、１，３−ビス（２−ヒドロキシ−２−プロピル）ベンゼン、１，４−ビス（２−ヒドロキシ−２−デシル）ベンゼン、１，２−シクロヘキサンジオール、１，３−シクロヘキサンジオール、１，４−シクロヘキサンジオール、３，３’−ジシクロヘキサンジオール、３，４’−ジシクロヘキサンジオール、４，４’−ジシクロヘキサンジオール、２，２−ビス（３−ヒドロキシシクロヘキシル）プロパン、２，２−ビス（４−ヒドロキシシクロヘキシル）プロパン、ビス（３−ヒドロキシシクロヘキシル）エーテル、ビス（４−ヒドロキシシクロヘキシル）エーテル、ビス（３−ヒドロキシシクロヘキシル）スルフィド、ビス（４−ヒドロキシシクロヘキシル）スルフィド、ビス（３−ヒドロキシシクロヘキシル）メタン、ビス（４−ヒドロキシシクロヘキシル）メタン、２，５−ノルボルナンジオール、２，６−ノルボルナンジオール、１，４−ノルボルナンジオール、２，３−ノルボルナンジオール、トリシクロ（５．２．１．０^2,6 ）デカンジメタノール、ペンタシクロペンタデカンジメタノール等が挙げられる。
上記の化合物の中で、得られるポリカーボネート樹脂やコーティング剤の特性及び入手の容易さなどの観点から１，２−シクロヘキサンジオール、１，３−シクロヘキサンジオール、１，４−シクロヘキサンジオール、３，３’−ジシクロヘキサンジオール、３，４’−ジシクロヘキサンジオール、４，４’−ジシクロヘキサンジオール、２，２−ビス（３−ヒドロキシシクロヘキシル）プロパン、２，２−ビス（４−ヒドロキシシクロヘキシル）プロパン、ビス（３−ヒドロキシシクロヘキシル）エーテル、ビス（４−ヒドロキシシクロヘキシル）エーテル、ビス（３−ヒドロキシシクロヘキシル）スルフィド、ビス（４−ヒドロキシシクロヘキシル）スルフィド、ビス（３−ヒドロキシシクロヘキシル）メタン、ビス（４−ヒドロキシシクロヘキシル）メタン、２，５−ノルボルナンジオール、２，６−ノルボルナンジオール、１，４−ノルボルナンジオール、２，３−ノルボルナンジオール、トリシクロ（５．２．１．０^2,6 ）デカンジメタノール、ペンタシクロペンタデカンジメタノール等が好ましい。

ポリカーボネート重合体IおよびIIにおける一般式（４）で表される骨格中、Ｒ_f1は、少なくとも炭素原子及びフッ素原子から構成され、アリーレン基を介することなく、カーボネート結合の各酸素原子と直接結合している基を表す。
一般式（４）中の−Ｒ_f1−の元となる化合物としては、ＨＯ−Ｒｆ₁−ＯＨ [Ｒ_f1は一般式（４）における場合と同じである] で表される含フッ素ジオールが用いられる。該ジオールとしては、フッ素原子が一つ以上導入された炭素数２〜２０の直鎖状もしくは分岐状のアルカンジオール及びこのアルカンジオールのアルキル鎖にアリール基が導入された化合物を好ましくあげることができる。
このような含フッ素ジオールとしては、２，２−ジフルオロ−１，３−プロパンジオール、２，２，３，３−テトラフルオロ−１，４−ブタンジオール、２，２，３，３，４，４−ヘキサフルオロ−１，５−ペンタンジオール、１Ｈ，１Ｈ，６Ｈ，６Ｈ−パーフルオロ−１，６−ヘキサンジオール、１Ｈ，１Ｈ，７Ｈ，７Ｈ−パーフルオロ−１，７−ヘプタンジオール、１Ｈ，１Ｈ，８Ｈ，８Ｈ−パーフルオロ−１，８−オクタンジオール、１Ｈ，１Ｈ，９Ｈ，９Ｈ−パーフルオロ−１，９−ノナンジオール、１Ｈ，１Ｈ，１０Ｈ，１０Ｈ−パーフルオロ−１，１０−デカンジオール、１Ｈ，１Ｈ，１１Ｈ，１１Ｈ−パーフルオロ−１，１１−ウンデカンジオール、１Ｈ，１Ｈ，１２Ｈ，１２Ｈ−パーフルオロ−１，１２−ドデカンジオール、２，２，２−トリフルオロ−１，１−エタンジオール、２，２，３，３，３−ペンタフルオロ−１，１−エタンジオール、１Ｈ−パーフルオロ−１，１−ブタンジオール、１Ｈ−パーフルオロ−１，１−ペンタンジオール、１Ｈ−パーフルオロ−１，１−ヘキサンジオール、１Ｈ−パーフルオロ−１，１−ヘプタンジオール、１Ｈ−パーフルオロ−１，１−オクタンジオール、１Ｈ−パーフルオロ−１，１−ノナンジオール、１Ｈ−パーフルオロ−１，１−デカンジオール、１Ｈ−パーフルオロ−１，１−ウンデカンジオール、１Ｈ−パーフルオロ−１，１−ドデカンジオール、３，３，３−トリフルオロ−１，２−プロパンジオール、１Ｈ，１Ｈ，２Ｈ−パーフルオロ−１，２−ブタンジオール、１Ｈ，１Ｈ，２Ｈ−パーフルオロ−１，２−ペンタンジオール、１Ｈ，１Ｈ，２Ｈ−パーフルオロ−１，２−ヘキサンジオール、１Ｈ，１Ｈ，２Ｈ−パーフルオロ−１，２−ヘプタンジオール、１Ｈ，１Ｈ，２Ｈ−パーフルオロ−１，２−オクタンジオール、１Ｈ，１Ｈ，２Ｈ−パーフルオロ−１，２−ノナンジオール、１Ｈ，１Ｈ，２Ｈ−パーフルオロ−１，２−デカンジオール、１Ｈ，１Ｈ，２Ｈ−パーフルオロ−１，２−ウンデカンジオール、１Ｈ，１Ｈ，２Ｈ−パーフルオロ−１，２−ドデカンジオール、１Ｈ，１Ｈ，２Ｈ−パーフルオロ−１，２−トリデカンジオール、１Ｈ，１Ｈ，２Ｈ−パーフルオロ−１，２−テトラデカンジオール、４，４，４−トリフルオロ−１，２−ブタンジオール、４，４，５，５，５−ペンタフルオロ−１，２−ペンタンジオール、１Ｈ，１Ｈ，２Ｈ，３Ｈ，３Ｈ−パーフルオロ−１，２−ヘキサンジオール、１Ｈ，１Ｈ，２Ｈ，３Ｈ，３Ｈ−パーフルオロ−１，２−ヘプタンジオール、１Ｈ，１Ｈ，２Ｈ，３Ｈ，３Ｈ−パーフルオロ−１，２−オクタンジオール、１Ｈ，１Ｈ，２Ｈ，３Ｈ，３Ｈ−パーフルオロ−１，２−ノナンジオール、１Ｈ，１Ｈ，２Ｈ，３Ｈ，３Ｈ−パーフルオロ−１，２−デカンジオール、１Ｈ，１Ｈ，２Ｈ，３Ｈ，３Ｈ−パーフルオロ−１，２−ウンデカンジオール、１Ｈ，１Ｈ，２Ｈ，３Ｈ，３Ｈ−パーフルオロ−１，２−ドデカンジオール、１Ｈ，１Ｈ，２Ｈ，３Ｈ，３Ｈ−パーフルオロ−１，２−トリデカンジオール、１Ｈ，１Ｈ，２Ｈ，３Ｈ，３Ｈ−パーフルオロ−１，２−テトラデカンジオール、１Ｈ，１Ｈ，２Ｈ，３Ｈ，３Ｈ−パーフルオロ−１，２−ペンタデカンジオール、１Ｈ，１Ｈ，２Ｈ，３Ｈ，３Ｈ−パーフルオロ−１，２−ヘキサデカンジオール、パーフルオロプロパン−２，２−ジオール、パーフルオロブタン−２，２−ジオール、パーフルオロペンタン−３，３−ジオール、パーフルオロデカン−２，２−ジオール、パーフルオロドデカン−２，２−ジオール、パーフルオロテトラデカン−２，２−ジオール、２Ｈ，３Ｈ−パーフルオロブタン−２，３−ジオール、２Ｈ，３Ｈ−パーフルオロペンタン−２，３−ジオール、２Ｈ，３Ｈ−パーフルオロウンデカン−２，３−ジオール、２Ｈ，３Ｈ−パーフルオロトリデカン−２，３−ジオール、２Ｈ，３Ｈ−パーフルオロペンタデカン−２，３ 10−ジオール、２Ｈ，２Ｈ，３Ｈ，４Ｈ，５Ｈ，５Ｈ−パーフルオロヘキサン−３，４−ジオール、２Ｈ，２Ｈ，３Ｈ，４Ｈ，５Ｈ，５Ｈ−パーフルオロヘプタン−３，４−ジオール、２Ｈ，２Ｈ，３Ｈ，４Ｈ，５Ｈ，５Ｈ−パーフルオロトリデカン−３，４−ジオール、２−パーフルオロメチル−１Ｈ，１Ｈ−パーフルオロプロパン−１，２−ジオール、２−パーフルオロメチル−１Ｈ，１Ｈ−パーフルオロデカン−１，２−ジオール、２−パーフルオロメチル−１Ｈ，１Ｈ−パーフルオロドデカン−１，２−ジオール、２−（１Ｈ，１Ｈ−パーフルオロエチル）−１Ｈ，１Ｈ，３Ｈ，３Ｈ−パーフルオロブタン−１，２−ジオール、２−（１Ｈ，１Ｈ−パーフルオロエチル）−１Ｈ，１Ｈ，３Ｈ，３Ｈ−パーフルオロウンデカン−１，２−ジオール、２−（１Ｈ，１Ｈ−パーフルオロエチル）−１Ｈ，１Ｈ，３Ｈ，３Ｈ−パーフルオロトリデカン−１，２−ジオール、１，４−ビス（２−ヒドロキシパーフルオロ−２−プロピル）ベンゼン、１，３−ビス（２−ヒドロキシパーフルオロ−２−プロピル）ベンゼン、１，４−ビス（２−ヒドロキシパーフルオロ−２−デシル）ベンゼン等が挙げられる。
上記の化合物の中で得られるコーティング剤の特性及び入手の容易さなどの観点から、１Ｈ，１Ｈ，８Ｈ，８Ｈ−パーフルオロ−１，８−オクタンジオール、１Ｈ，１Ｈ，９Ｈ，９Ｈ−パーフルオロ−１，９−ノナンジオール、１Ｈ，１Ｈ，１０Ｈ，１０Ｈ−パーフルオロ−１，１０−デカンジオール、１Ｈ，１Ｈ，１１Ｈ，１１Ｈ−パーフルオロ−１，１１−ウンデカンジオール、１Ｈ，１Ｈ，１２Ｈ，１２Ｈ−パーフルオロ−１，１２−ドデカンジオール等が好ましい。

ポリカーボネート重合体Iおよびポリカーボネート重合体IIにおいて、フッ素原子を含む骨格としては、下記一般式（５）〜（１０）が例示される。

上記一般式（５）〜（１０）中のＲ⁵は炭素数１〜３０、好ましくは５〜２０のパーフルオロアルキル基または置換パーフルオロアルキル基、Ｙは−ＣＨ₂−でｅは０〜６の整数であり、Ｚ_fは−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＯＣＯ−、−Ｓ−、−ＳＯ−、−ＳＯ₂ −又は−ＮＨＣＯ−であり、ｆは０又は１であり、Ｒ⁶ はハロゲン原子、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数５〜７のシクロアルキル基又は炭素数６〜１２の置換もしくは無置換のアリール基のいずれかであり、ｃ及びｄはｃ＋ｄ≦５、ｃ＝１〜５、ｄ＝０〜４で表わされる整数である。
これらの基の元となる化合物は、分子量調整剤としての役割を果たす。この化合物としては、例えば、Ｒ_f2−ＯＨで表される一価アルコールを挙げることができる。Ｒ_f2は、フッ素原子がひとつ以上導入された炭素数３〜２０の直鎖状もしくは分岐状のアルキル基が好ましい。

この一価アルコールの具体例としては、１Ｈ，１Ｈ，３Ｈ−テトラフルオロプロパノール，１Ｈ，１Ｈ，５Ｈ−オクタフルオロペンタノール，１Ｈ，１Ｈ，７Ｈ−ドデカフルオロヘプタノール，１Ｈ，１Ｈ，９Ｈ−ヘキサデカフルオロノナノール，１Ｈ，１Ｈ，３Ｈ−ヘキサフルオロブタノール，２，２，２−トリフルオロエタノール、２，２，３，３，３−ペンタフルオロプロパノール、１Ｈ，１Ｈ−パーフルオロブタノール、１Ｈ，１Ｈ−パーフルオロペンタノール、１Ｈ，１Ｈ−パーフルオロヘキサノール、１Ｈ，１Ｈ−パーフルオロヘプタノール、１Ｈ，１Ｈ−パーフルオロオクタノール、１Ｈ，１Ｈ−パーフルオロノナノール、１Ｈ，１Ｈ−パーフルオロデカノール、１Ｈ，１Ｈ−パーフルオロウンデカノール、１Ｈ，１Ｈ−パーフルオロドデカノール、１Ｈ，１Ｈ−パーフルオロトリデカノール、１Ｈ，１Ｈ−パーフルオロテトラデカノール、１Ｈ，１Ｈ−パーフルオロペンタデカノール、１Ｈ，１Ｈ，２Ｈ，２Ｈ−パーフルオロプロパノール、１Ｈ，１Ｈ，２Ｈ，２Ｈ−パーフルオロブタノール、１Ｈ，１Ｈ，２Ｈ，２Ｈ−パーフルオロペンタノール、１Ｈ，１Ｈ，２Ｈ，２Ｈ−パーフルオロヘキサノール、１Ｈ，１Ｈ，２Ｈ，２Ｈ−パーフルオロヘプタノール、１Ｈ，１Ｈ，２Ｈ，２Ｈ−パーフルオロオクタノール、１Ｈ，１Ｈ，２Ｈ，２Ｈ−パーフルオロノナノール、１Ｈ，１Ｈ，２Ｈ，２Ｈ−パーフルオロデカノール、１Ｈ，１Ｈ，２Ｈ，２Ｈ−パーフルオロウンデカノール、１Ｈ，１Ｈ，２Ｈ，２Ｈ−パーフルオロドデカノール、１Ｈ，１Ｈ，２Ｈ，２Ｈ−パーフルオロトリデカノール、１Ｈ，１Ｈ，２Ｈ，２Ｈ−パーフルオロテトラデカノール、１Ｈ，１Ｈ，２Ｈ，２Ｈ−パーフルオロペンタデカノール、７，７，８，８，８−ペンタフルオロオクタノール、２，２，３，３，４，４，５，５，６，６，７，７−ドデカフルオロヘプタノール、７，７，８，８，９，９，１０，１０，１０−ノナフルオロデカノール、７，７，８，８，９，９，１０，１０，１１，１１，１２，１２，１２−トリデカフルオロドデカノール、７，７，８，８，９，９，１０，１０，１１，１１，１２，１２，１３，１３，１４，１４，１４−ヘプタデカフルオロテトラデカノール、１Ｈ，１Ｈ，３Ｈ−パーフルオロブタノール、１Ｈ，１Ｈ−２−トリフルオロメチルブタノール、１，１，１，３，３，３−ヘキサフルオロ−２−プロパノール、１Ｈ，１Ｈ，１Ｈ，２Ｈ−パーフルオロ−２−ペンタノール等が挙げられる。

さらに、上記一般式で表される一価アルコール以外にも、４，４，５，５，６，６，７，７，７−ノナフルオロ−２−ヘプテノール、４，４，５，５，６，６，７，７，８，８，９，９，９−トリデカフルオロ−２−ノネノール、４，４，５，５，６，６，７，７，８，８，９，９，１０，１０，１１，１１，１１−ヘプタデカフルオロ−２−ウンデセノール、１Ｈ，１Ｈ，２Ｈ，２Ｈ−５−トリフルオロメチルパーフルオロヘキサノール、１Ｈ，１Ｈ，２Ｈ，２Ｈ−７−トリフルオロメチルパーフルオロオクタノール、１Ｈ，１Ｈ，２Ｈ，２Ｈ−９−トリフルオロメチルパーフルオロデカノール、１Ｈ，１Ｈ，２Ｈ，２Ｈ−１１−トリフルオロメチルパーフルオロドデカノール、２，２−ビス（トリフルオロメチル）プロパノール、パーフルオロ−ｔｅｒｔ−ブタノール等が好適に用いられる。これらの一価アルコールは、１種単独で用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。

また、分子量調整剤として、前記一般式（９）で表される基の元となる化合物として、下記一般式（９−ａ）

[一般式（９−ａ）において、Ｒ⁵、Ｒ⁶、Ｙ、Ｚ、ｃ、ｄ、ｅ、およびｆは一般式（９）の場合と同じである]
で表されるフッ素原子を有する一価のフェノール化合物も好適に用いられる。
その具体例としては、ｐ−（パーフルオロ−ｎ−ノニル）フェノール、ｐ−（パーフルオロ−ｎ−オクチル）フェノール、ｐ−（パーフルオロ−ｎ−ヘキシルオキシ）フェノール、ｐ−（パーフルオロブチル）フェノール、４−パーフルオロデシル−２，３，５，６−テトラフルオロフェノール、３−メチル−４−パーフルオロノニルフェノール、ｐ−（２−１Ｈ，１Ｈ−パーフルオロトリデシルオキシ−１，１，１，３，３，３−ヘキサフルオロ−２−プロピル）フェノール、３，５−ビス（パーフルオロヘキシルオキシカルボニル）フェノール、ｐ−１Ｈ，１Ｈ−パーフルオロオクチルオキシフェノールが挙げられる。
さらに、分子量調整剤としてｐ−ヒドロキシ安息香酸パーフルオロドデシル、（ｐ−ヒドロキシベンジル）パーフルオロデカン、２Ｈ，２Ｈ，９Ｈ−パーフルオロノナン酸等が挙げられる。
さらに分子量調整剤として、前記一般式（７）で表される基の元となる化合物として、下記一般式Ｒ⁵−Ｙ_e−ＣＯＯＨ [式中、Ｒ⁵、Ｙおよびｅは一般式（７）の場合と同じである]
で表されるフッ素原子を有する一価のカルボン酸またはそのハロゲン化物も用いることができる。
一価のカルボン酸またはそのハロゲン化物としては、炭素数５〜２０のものが好ましい。
その具体例としては、パーフルオロヘプタン酸、パーフルオロオクタン酸、パーフルオロノナン酸、２Ｈ，２Ｈ−パーフルオロノナン酸、パーフルオロデカン酸、２Ｈ，２Ｈ，３Ｈ，３Ｈ−パーフルオロデカン酸、パーフルオロウンデカン酸、パーフルオロドデカン酸、パーフルオロトリデカン酸、パーフルオロテトラデカン酸、パーフルオロペンタデカン酸、パーフルオロヘキサデカン酸、パーフルオロオクタデカン酸、又はこれらカルボン酸の酸ハロゲン化物等が好適に用いられる。これら一価のカルボン酸またはそのハロゲン化物は、１種単独で用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。
上記の分子量調整剤の中で入手が容易であるという観点から、ｐ−（パーフルオロ−ｎ−ノニル）フェノール、ｐ−（パーフルオロ−ｎ−ヘキシルオキシ）フェノール、１−（ｐ−ヒドロキシベンジル）パーフルオロ−ｎ−デカン、ｐ−１Ｈ，１Ｈ−パーフルオロオクチルオキシフェノール、２，２，３，３，４，４，５，５，６，６，７，７−ドデカフルオロヘプタノール、２，２，３，３，４，４，５，５，６，６，７，７，8，8，9，9−ヘキサデカフルオロノナノールが好ましく用いられる。

また、ポリカーボネート重合体IIにおいて、一般式（３）のＡ²のうち二価のポリオルガノシロキサンフェノール変性物残基の元となる化合物としては、得られるコーティング剤の特性及び入手の容易さなどの観点から、下記一般式（１１）および（１２）

で表される基の元となる化合物が好ましい。
前記一般式(１１)において、Ｒ⁷ 、Ｒ⁸、Ｒ⁹は各々独立にアルキル基、アルコキシ基、またはアリール基、アリール置換アルケニル基および縮合多環式炭化水素基から選ばれる一価の置換基を示し、Ｒ⁸、Ｒ⁹は水素原子であってもよい。ｇは０〜４の整数、ｎ１は１〜１０の整数、ｎ２は１〜１００の整数を示す。ｎ２は、好ましくは１〜５０の整数である。

前記アルキル基としては、置換または無置換の炭素数１〜６のアルキル基が好ましく、アルコキシ基としては、置換または無置換の炭素数１〜６のアルコキシ基が好ましい。アリール基としては、置換または無置換の炭素数６〜１２のアリール基が好ましく、アルケニル基としては、置換または無置換の炭素数７〜１３のアリール置換アルケニル基が好ましい。縮合多環式炭化水素基としては、置換または無置換の炭素数６〜２４の縮合多環式炭化水素基が好ましい。

前記一般式(１２)において、Ｒ¹⁰は各々独立にハロゲン原子、炭素原子数が１〜６の置換もしくは無置換のアルキル基、炭素原子数が１〜６の置換もしくは無置換のアルコキシ基又は炭素原子数が６〜１２の置換もしくは無置換のアリール基であり、Ｒ¹¹は脂肪族不飽和結合を含まない同種又は異種の一価炭化水素基であり、ｇは０〜４の整数、ｎ３は１〜５０の整数、ｎ４、ｎ５はそれぞれ独立に１〜１０の整数である。前記一般式(１１)で表される基は同一般式(１１)の両末端結合手にＯＨがついた構造の二価のフェノール化合物により、また一般式(１２)で表される基は同一般式(１２)の両末端結合手にＯＨがついた構造の二価のフェノール化合物によって形成される。

ポリカーボネート重合体Iにおける、「一般式（１）で表される繰り返し単位」と「一般式（２）で表されるシロキサン骨格」および/または「フッ素原子を含む骨格」の比率「前者/後者（モル比）」は、ポリカーボネート樹脂の反応性、得られるコーティング剤やそれから形成されるコーティング膜の特性の観点から、通常９９．９９/０．０１〜５０/５０、好ましくは、９９．９８/０．０２〜７０/３０、さらに好ましくは、９９．９５/０．０５〜８０/２０である。

また、ポリカーボネート重合体IIにおける「一般式（３）で表される繰り返し単位」と「フッ素原子を含む骨格」の比率「前者/後者（モル比）」は得られるコーティング剤やそれから形成されるコーティング膜の特性の観点から、通常９９．９/０．１〜５０/５０、好ましくは、９９．５/０．５〜７０/３０、さらに好ましくは、９９/１〜８０/２０である。

以上のような構造を有するポリカーボネート重合体IおよびIIは、それぞれ、塩化メチレンを溶媒とする濃度０．５ｇ/ｄｌ溶液の２０℃における還元粘度［η_sp/ｃ］が０．１〜３．０ｄｌ/ｇであることを要する。同還元粘度が上記の範囲にあればコーティング剤として良好な性能を発揮する。好ましい還元粘度は
０．２〜２．０、さらに好ましくは、０．３〜１．７である。

本発明のコーティング剤中の樹脂成分であるポリカーボネート重合体Iおよびポリカーボネート重合体IIは以下のような界面重縮合反応により製造することができる。
たとえば、ポリカーボネート重合体Iの場合は、前記「一般式（１）で表される繰り返し単位」中のＡ¹基を含むジヒドロキシ化合物と末端に反応性基を有する一般式（２）で表されるポリオルガノシロキサンおよび/またはフッ素原子を含む骨格の元となる化合物を適当な溶媒中において、公知の酸受容体および必要に応じて用いられる後記する分子量調整剤存在下に炭酸エステル形成性化合物と反応させればよい。
ポリカーボネート重合体IIの場合は、前記「一般式（３）で表される繰り返し単位」中のＡ²基を含むジヒドロキシ化合物とフッ素原子を含む骨格の元となる化合物を用いて前記と同様に反応させればよい。
なお、これらの反応において、フッ素原子を含む骨格の元となる化合物が分子量調整剤をかねる場合は新たに分子量調整剤を用いる必要はないが、そうでない場合は分子量調整剤を用いる。

必要に応じて用いられる分子量調整剤としては、たとえば、フェノール、ｐ−クレゾール、ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール、ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルオクチルフェノール、ｐ−クミルフェノール、ｐ−ノニルフェノール、ドコシルフェノール、テトラコシルフェノール、ヘキサコシルフェノール、オクタコシルフェノール、トリアコンチルフェノール、ドトリアコンチルフェノール、テトラアコンチルフェノール等を挙げることができる。これらは１種または２種以上混合したものでもよい。

炭酸エステル形成性化合物（以下、カーボネート前駆体ともいう）として、ホスゲン、ホスゲンダイマー、ホスゲントリマー等のジハロゲン化カルボニル又はクロロホーメート等のハロホーメート類が挙げられる。
例えば、カーボネート前駆体として、ホスゲン等のジハロゲン化カルボニル又はクロロホーメート等のハロホーメート類を用いる場合、この反応は、適当な溶媒中で、酸受容体（例えば、アルカリ金属水酸化物やアルカリ金属炭酸塩等の塩基性アルカリ金属化合物、あるいはピリジン等の有機塩基等）の存在下で行うことができる。アルカリ金属水酸化物及びアルカリ金属炭酸塩としては、各種のものが使用可能であるが、経済的な面から、通常、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等が好適に利用される。これらは、通常は水溶液として好適に使用される。上記カーボネート前駆体の使用割合は、反応の化学量論比（当量）を考慮して適宜調整すればよい。また、ホスゲン等のガス状のカーボネート前駆体を使用する場合、これを反応系に吹き込む方法が好適に採用できる。上記酸受容体の使用割合も、同様に反応の化学量論比（当量）を考慮して適宜定めればよい。具体的には、使用するジヒドロキシ化合物の合計モル数（通常、１モルは２当量に相当）に対して２倍当量もしくはこれより若干過剰量の酸受容体を用いることが好ましい。

上記溶媒としては、一般的なポリカーボネート化合物製造の際に使用される公知の各種溶媒を１種類単独であるいは混合溶媒として使用すればよい。溶媒の代表的な例としては、例えばトルエン、キシレン等の炭化水素溶媒、塩化メチレン、クロロベンゼンをはじめとするハロゲン化炭化水素溶媒などが好適に使用することができる。

反応は通常０〜１５０℃、好ましくは５〜４０℃の範囲の温度で行われる。反応圧力は、減圧、常圧、加圧のいずれでも可能であるが、通常は、常圧もしくは反応系の自圧程度で好適に行いうる。反応時間は、通常０．５分間〜１０時間、好ましくは１分間〜２時間程度である。

また、反応を促進するために、トリエチルアミンのような第三級アミン又は第四級アンモニウム塩などの触媒を、さらにはフロログルシン、ピロガロール、４，６−ジメチル−２，４，６−トリス（４−ヒドロキシフェニル）−２−ヘプテン、１，３，５−トリス（４−ヒドロキシフェニル）ベンゼン、１，１，１−トリス（４−ヒドロキシフェニル）エタン、トリス（４−ヒドロキシフェニル）フェニルメタン、２，２−ビス［４，４−ビス（４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキシル］プロパン、２，４−ビス［２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−２−プロピル］フェノール、２，６−ビス（２−ヒドロキシ−５−メチルベンジル）−４−メチルフェノール、２−（４−ヒドロキシフェニル）−２−（２，４−ジヒドロキシフェニル）プロパン、テトラキス（４−ヒドロキシフェニル）メタン、テトラキス［４−（４−ヒドロキシフェニルイソプロピル）フェノキシ］メタン、２，４−ジヒドロキシ安息香酸、トリメシン酸、シアヌル酸などの分岐剤を添加して反応を行うことができる。
また、所望に応じ、亜硫酸ナトリウム、ハイドロサルファイト等の酸化防止剤を少量添加してもよい。
反応方式としては、連続法、半連続法、回分法等のいずれも採用可能である。
得られた反応生成物は（粗生成物）は公知の分離・精製法などの各種の後処理を施して、所望の純度（精製度）のポリカーボネート重合体として回収することができる。

分子量調整剤の仕込み量は、得られるポリカーボネート重合体IまたはIIの所望分子量に応じて異なり、一概に定めることはできないが、使用するＡ¹またはＡ²の元となる化合物に対して通常、０．１〜１０モル％程度、好ましくは、０．２〜５モル％である。
本発明においては、ポリカーボネート重合体IまたはIIの還元粘度［η_sp/ｃ］は前記のように、塩化メチレンを溶媒とする濃度０．５ｇ/ｄｌ溶液での２０℃における測定で０．１〜３．０ｄｌ/ｇの範囲である。したがって、還元粘度をこの範囲に設定するには、前記の反応条件の選択、分子量調整剤の使用量などさまざまな方法を採用することができる。
また、場合により、得られたポリカーボネート重合体に適宜物理的処理（混合、分画等）及び/又は化学的処理（ポリマー反応、架橋処理、部分分解処理など）を施して所定の還元粘度［η_sp/ｃ］のポリカーボネート重合体として取得することもできる。

上記のようにして調製されたポリカーボネート重合体IまたはIIを有機溶媒に溶解することにより本発明のコーティング剤が調製される。ポリカーボネート重合体IおよびIIは、適宜混合して用いてもよい。
用い得る有機溶媒としては、以下の溶剤が挙げられる。すなわち、本発明におけるポリカーボネート重合体を溶解させるものであれば特に制限は無く、例えばｎ−ヘキサン、シクロヘキサン、ｎ−ヘプタン、ゴム揮発油などの脂肪族炭化水素溶剤；ズワゾール（丸善石油化学）、イプゾール（出光興産）などの石油系炭化水素溶剤；ミネラルスピリット、高沸点石油溶剤（インキオイル）、トルエン、アニソール、クロルベンゼン、キシレン、トリメチルベンゼン、ソルベントナフサ、テトラリン、ジペンテンなどの芳香族炭化水素溶剤；メチルアルコール、エチルアルコール、ｎ−プロピルアルコール、イソプロピルアルコール、ｎ−ブチルアルコール、第二ブチルアルコール、イソブチルアルコール、シクロヘキシルアルコール、２−メチルシクロヘキシルアルコール、トリデシルアルコール（トリデカノール）などのアルコール系溶剤；クロロホルム、ジクロロメタン、テトラクロロエタンなどのハロゲン系炭化水素系溶剤；酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル、二塩基酸エステル（ＤＢＥ）などのエステル系溶剤；アセトン、メチルエチルケトン（ＭＥＫ）、メチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）、シクロヘキサノン、メチルシクロヘキサノン、ジアセトンアルコール（ＤＡＡ）、イソホロンなどのケトン系溶剤；テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル系溶剤；エチレングリコール、プロピレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ジプロピレングリコールなどのグリコール系溶剤；エチレングリコールモノブチルエーテル（ブチルセルソルブ）、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル（ブチルカルビトール）などのグリコールエーテル系溶剤；エチレングリコールモノブチルエーテルアセテート（ブチルセロソルブアセテート）、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノブチルエーテルアセテート（ブチルカルビトールアセテート）などのグリコールエーテルエステル系溶剤等が挙げられる。
これらは１種または２種以上混合したものでもよい。
上記の溶剤の中で環境衛生、蒸発性、溶解性、取り扱い性および経済性などの観点から、非ハロゲン系溶剤であるシクロヘキサノン、テトラヒドロフラン、ジオキサン、イソホロン、トルエン、ジエチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、ズワゾール等の石油炭化水素、二塩基酸エステル等が好ましい。
本発明のコーティング剤中のポリカーボネート重合体の濃度は特に限定されず、取り扱いの容易性、コーティング作業の効率性の点から、通常１〜５０質量％、好ましくは３〜４０質量％、特に好ましくは５〜３０質量％である。

また、本発明のコーティング剤には、所望に応じ、ヒンダードフェノール系酸化防止剤、芳香族アミン系酸化防止剤、ヒンダードアミン系酸化防止剤、スルフィド系酸化防止剤、有機りん系酸化防止剤を少量添加してもよい。添加量は、組成物全量中通常０．００１〜１質量％程度、好ましくは、０．００５〜０．５質量％、さらに好ましくは、０．０１〜０．１質量％である。

上記のようにして調製された本発明のコーティング剤を基材面に塗布してコーティング層を形成させることにより本発明の成型体となる。
上記コーティング剤を調製する方法としては、特に限定されず、ポリカーボネート重合体と前記各種溶剤、必要に応じて添加剤を加えてボールミル、超音波、ペイントシェーカー、レッドデビル、サンドミル、ミキサー、アトライターなどを用いて溶解させる方法が挙げられる。
本発明のコーティング剤が塗布される基材としては、各種のプラスチックフィルムやシート、その他の成型品、特にポリカーボネート樹脂やアクリル樹脂など特に透明性に優れた基材を用いることが好ましい。

基材表面に形成させるコーティング層の厚みは、特に限定されず、撥水性（低表面エネルギー化）が発現する厚みであれば問題がなく、コーティング剤の特性や塗工法の観点から、通常０．１〜３０μｍ程度、好ましくは、０．２〜２０μｍ、さらに好ましくは、０．５〜１５μｍである。

コーティング層を形成させる方法としては、通常の各種のコーティング方法を採用することができ、例えば、スピンコート法、浸漬塗工法、静電塗工法、粉体塗工法、スプレー塗工法、ロール塗工法、アプリケーター塗工法、スプレーコーター塗工法、バーコーター塗工法、ロールコーター塗工法、ディップコーター塗工法、ドクターブレード塗工法、ワイヤーバー塗工法、ナイフコーター塗工法、アトライター塗工法、スピナー塗工法、ビード塗工法、ブレード塗工法、カーテン塗工法などを挙げることができる。

上記のようにして調製された本発明の成型体のコーティング層上にさらにレンズ形成材料を塗布して光散乱層または集光層としての役割を有するマイクロレンズ構造を形成させることにより導光板、偏光板、反射板、拡散板、三次元立体視ディスプレイ用マイクロレンズアレイデバイスのような光学部材として好ましく用いられる成型体を得ることができる。レンズ形成材料層の厚みは、マイクロレンズを形成した光学部材の特性の観点から、通常１〜１０００μｍ程度、好ましくは、５〜５００μｍ、さらに好ましくは、１０〜２００μｍである。

レンズ形成材料は透明な樹脂を形成する化合物であれば特に限定されず、エポキシ系化合物、オキセタン化合物、ビニルエーテル化合物、ラクトン化合物、環状のエーテル化合物、ケトン類、スチレン類、アクロレイン、ビニルアレーン類、ビニルシクロヘキセンのような脂環式ビニル化合物、スピロオルソエステル化合物、スピロオルソカーボネイト化合物、ビシクロオルソエステル化合物、ジエン化合物、フェノール/ホルムアルデヒド樹脂等が挙げられる。中でも、アクリル系ベースレジンを用いたラジカル系紫外線硬化樹脂や熱硬化系樹脂、エポキシ系ベースレジンを用いたカチオン系紫外線硬化樹脂や熱硬化系樹脂、オキセタン系樹脂等の光硬化系樹脂や熱硬化系樹脂が好適である。例えば、エポキシ系化合物として、ダイセル工業株式会社製の脂環エポキシ化合物（セロキサイド２０２１、セロキサイド２０２１Ａ、セロキサイド２０２１Ｐ、 セロキサイド２０００、セロキサイド３０００）、多官能エポキシ化合物（エポリードＧＴ３０１、エポリードＧＴ４０１、エポリードＰＢ３６００）、脂環骨格を持つエポキシ化合物（ＥＨＰＥ３１５０、ＥＨＰＥ３１５０ＣＥ）、エポキシ基を有する（メタ）アクリレート（サイクロマーＡ４００、サイクロマーＭ１００）などが挙げられが、その限りではない。
さらに、特開平６−７３３５８号公報及び特開平６−７３３５９号公報に記載のフッ素含有エポキシ系化合物、特開平９−１１１１８９にて開示されている特定のビニルスルフィド化合物、メタクリル酸誘導体および該メタクリル酸誘導体とチオール類とのプレポリマーから選択される含イオウ化合物と非含イオウ化合物からなる光学接着剤用組成物、特開平２００３−２１３２４３にて開示されている分子内に少なくとも一個のオキセタニル基を有する脂環式化合物と活性エネルギー線の照射および／または加熱によりカチオン重合を開始させる化合物を含む光学接着剤用組成物、特開２００４−０２７１４０及び特開２００４−０２７１４１に記載の光学接着剤組成物、市販の光学接着剤ではＮＴＴアドバンステクノロジー社製の光学接着剤（エポキシ系：ＡＴ７１９５Ｍ、ＡＴ３０６４等）、光路結合用接着剤（アクリレート系：ＡＴ３２７９等）や光導波路形成樹脂なども適用できる。

上記レンズ形成材料は、カチオン重合によるもの、酸無水物やアミンなどの硬化剤を用いた反応、さらに熱硬化や紫外線硬化によるものなど公知の方法で硬化させることが可能である。カチオン重合開始剤としては、熱あるいは紫外線によりレンズ形成材料中の活性基と反応するものであれば何でもよいが、例えば、ｐ−メトキシベンゼンジアゾニウムヘキサフルオロホスフェート等の芳香族ジアゾニウム塩、トリフェニルスルホニウムヘキサフルオロホスフェート等の芳香族スルホニウム塩、ジフェニルヨードニウムヘキサフルオロホスフェート等の芳香族ヨードニウム塩、芳香族ヨードシル塩、芳香族スルホキソニウム塩、メタロセン化合物などが挙げられる。中でもトリフェニルスルホニウムヘキサフルオロホスフェート等の芳香族スルホニウム塩、ジフェニルヨードニウムヘキサフルオロホスフェート等の芳香族ヨードニウム塩が最適である。市販の開始剤としては、例えばチバ・スペシャリティ・ケミカルズ社から販売されているＩｒｇａｃｕｒｅ １８４、２９５９、３６９、９０７、１３００、８１９、２０２２、２１００、２５０、ＤＡＲＯＣＵＲ １１７３、ＭＢＦ、ＴＰＯ、４２６５等の光開始剤が適用できる。カチオン重合開始剤の含有率は、特に限定はないが、上記レンズ形成樹脂に対して、０．０１〜５．０質量％であることが好ましく、より好ましくは、０．１〜３．０質量％である。
硬化剤としては、目的に応じて酸無水物系硬化剤、フェノール系硬化剤、アミン系硬化剤などを併用しても良い。酸無水物系硬化剤としては、例えば、無水フタル酸、無水マレイン酸、無水トリメリット酸、無水ピロメリット酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、テトラヒドロ無水フタル酸、無水メチルナジック酸、無水ナジック酸、無水グルタル酸、メチルヘキサヒドロ無水フタル酸、メチルテトラヒドロ無水フタル酸等が挙げられる。
フェノール系硬化剤としては、例えばフェノールノボラック樹脂、クレゾールノボラック樹脂、ビスフェノールＡノボラック樹脂、トリアジン変性フェノールノボラック樹脂などが挙げられる。アミン系硬化剤としては、例えばジシアンジアミドや、ｍ−フェニレンジアミン、４，４'−ジアミノジフェニルメタン、４，４'―ジアミノジフェニルスルホン、ｍ−キシリレンジアミンなどの芳香族ジアミンなどが挙げられる。これらの硬化剤は２種以上を併用してもよい。
これらの硬化剤の中では、硬化樹脂の透明性などの物性の点から、酸無水物系硬化剤が好適であり、中でも，ヘキサヒドロ無水フタル酸、テトラヒドロ無水フタル酸、メチルヘキサヒドロ無水フタル酸、メチルテトラヒドロ無水フタル酸が最適である。

レンズ形成材料と硬化剤との配合割合は、レンズ形成材料と硬化剤との反応可能な活性基の等量を基に調合することが好ましく、例えばエポキシ系化合物を含む樹脂組成物からなるレンズ形成材料の場合、樹脂組成物中のエポキシ基１当量に対して、硬化剤におけるエポキシ基と反応可能な活性基（酸無水基や水酸基など）が０．５〜１．５当量、さらには、０．７〜１．２当量となるような割合であることが好ましい。レンズ形成材料と硬化剤との配合割合を最適化することにより、硬化速度の遅延等を抑制することができる。
また、本発明で用いられるレンズ形成材料には、必要に応じて、従来から用いられている、例えば、硬化促進剤、劣化防止剤、変性剤、シランカップリング剤、脱泡剤、無機粉末、溶剤、レべリング剤、離型剤、染料、顔料などの、公知の各種の添加剤を適宜配合してもよい。
上記硬化促進剤としては、特に限定されるものではなく、例えば、１，８−ジアザ−ビシクロ（５.４.０）ウンデセン−７、トリエチレンジアミン、トリス（２，４，６−ジメチルアミノメチル）フェノール等の３級アミン類、２−エチル−４−メチルイミダゾール、２−メチルイミダゾール等のイミダゾール類、トリフェニルホスフィン、テトラフェニルホスホニウムブロマイド、テトラフェニルホスホニウムテトラフェニルボレート、テトラ−ｎ−ブチルホスホニウム−ｏ，ｏ−ジエチルホスホロジチオエート等のリン化合物、４級アンモニウム塩、有機金属塩類、およびこれらの誘導体等が挙げられる。これらは単独で使用してもよく、あるいは、併用してもよい。これら硬化促進剤の中では、３級アミン類、イミダゾール類、リン化合物を用いることが好ましい。
硬化促進剤の含有率は、上記材料に対して、０．０１〜８．０質量％であることが好ましく、より好ましくは、０．１〜３．０質量％である。
劣化防止剤としては、例えば、フェノール系化合物、アミン系化合物、有機硫黄系化合物、リン系化合物などの、従来から公知の劣化防止剤が挙げられる。
フェノール系化合物としては、イルガノクス１０１０（Ｉｒｇａｎｏｘ１０１０、チバ・スペシャリティ・ケミカルズ社、商標）、イルガノクス１０７６（Ｉｒｇａｎｏｘ１０７６、チバ・スペシャリティ・ケミカルズ社、商標）、イルガノクス１３３０（Ｉｒｇａｎｏｘ１３３０、チバ・スペシャリティ・ケミカルズ社、商標）、イルガノクス３１１４（Ｉｒｇａｎｏｘ３１１４、チバ・スペシャリティ・ケミカルズ社、商標）、イルガノクス３１２５（Ｉｒｇａｎｏｘ３１２５、チバ・スペシャリティ・ケミカルズ社、商標）、イルガノクス３７９０（Ｉｒｇａｎｏｘ３７９０、チバ・スペシャリティ・ケミカルズ社、商標）ＢＨＴ、シアノクス１７９０（Ｃｙａｎｏｘ１７９０、サイアナミド社、商標）、スミライザーＧＡ−８０（ＳｕｍｉｌｉｚｅｒＧＡ−８０、住友化学社、商標）などの市販品を挙げることができる。
アミン系化合物としては、イルガスタブＦＳ０４２（チバ・スペシャリティ・ケミカルズ社、商標）、ＧＥＮＯＸ ＥＰ（クロンプトン社、商標、化合物名；ジアルキル−Ｎ−メチルアミンオキサイド）など、さらにはヒンダードアミン系である旭電化社製のＡＤＫＳＴＡＢ ＬＡ−５２、ＬＡ−５７、ＬＡ−６２、ＬＡ−６３、ＬＡ−６７、ＬＡ−６８、ＬＡ−７７、ＬＡ−８２、ＬＡ−８７、ＬＡ−９４、ＣＳＣ社製のＴｉｎｕｖｉｎ １２３、１４４、４４０、６６２、Ｃｈｉｍａｓｓｏｒｂ ２０２０、１１９、９４４、Ｈｏｅｃｈｓｔ社製のＨｏｓｔａｖｉｎ Ｎ３０、Ｃｙｔｅｃ社製の Ｃｙａｓｏｒｂ ＵＶ−３３４６、ＵＶ−３５２６、ＧＬＣ社製のＵｖａｌ ２９９、Ｃｌａｒｉａｎｔ社製の Ｓａｎｄｕｖｏｒ ＰＲ−３１等を挙げることができる。
有機硫黄系化合物としては、ＤＳＴＰ（ヨシトミ）（吉富社、商標）、ＤＬＴＰ（ヨシトミ）（吉富社、商標）、ＤＬＴＯＩＢ（吉富社、商標）、ＤＭＴＰ（ヨシトミ）（吉富社、商標）、Ｓｅｅｎｏｘ ４１２Ｓ（シプロ化成社、商標）、Ｃｙａｎｏｘ １２１２（サイアナミド社、商標）などの市販品を挙げることができる。
変性剤としては、例えば、グリコール類、シリコーン類、アルコール類などの、従来から公知の変性剤が挙げられる。シランカップリング剤としては、例えば、シラン系、チタネート系などの、従来から公知のシランカップリング剤が挙げられる。脱泡剤としては、例えば、シリコーン系などの、従来から公知の脱泡剤が挙げられる。無機粉末としては、用途に応じて粒径が数ｎｍ〜１０μｍのものが使用でき、例えば、ガラス粉末、シリカ粉末、チタニア、酸化亜鉛、アルミナなどの公知の無機粉末が挙げられる。溶剤としては、エポキシ樹脂が粉末の場合や、コーティングの希釈溶剤として、トルエンやキシレンなどの芳香族系溶剤やメチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノンなどのケトン系溶剤などが使用可能である。
本発明で用いられるエポキシ系化合物を含むエポキシ樹脂組成物は、上記のエポキシ系化合物成分及び硬化剤と各種添加剤を混合してレンズ形成材料とし、成形体にコーティングした後に、加熱硬化させる。硬化温度としては、５０〜２００℃、好ましくは１００〜１８０℃である。５０℃以上とすることにより硬化不良となることがなく、２００℃以下とすることにより着色などを生じることが無くなる。硬化時間は使用するエポキシ樹脂、硬化剤、促進剤や開始剤によって異なるが、０．５〜６時間が好ましい。

レンズ形成材料を塗布する方法としては、特に制限が無く、静電塗工法、粉体塗工法、スプレー塗工法、インクジェット塗工法、オフセット印刷法、スクリーン印刷法、スプレーコーター塗工法、ロールコーター塗工法、ディップコーター塗工法、アトライター塗工法、スピナー塗工法、ビード塗工法、ブレード塗工法、カーテン塗工法などが採用できる。
中でも、マイクロレンズの形状制御や生産性の観点から、インクジェット塗工法およびスクリーン印刷法、スプレー塗工法が好適である。インクジェット印刷技術を利用したインクジェット塗工法がさらに好ましい。

以下に本発明の実施例を挙げて詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。

［合成例１］
１，1−ビス（４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン６８．６ｇ、２モル/リットルの水酸化ナトリウム水溶液５５０ｍｌ、塩化メチレン４００ｍｌ、分子量調整剤であるｐ−（パーフルオロ−ｎ−ノニル）フェノール０．８ｇ及び触媒として１０質量％濃度のトリエチルアミン水溶液３ｍｌを混合して攪拌しながら、冷却下、液中にホスゲンガスを３４０ｍｌ/分の割合で３０分間吹き込んだ。反応終了後、有機相に塩化メチレン１リットルを加えて希釈し、水、希塩酸、水の順に洗浄した後、メタノール中に投入してポリカーボネート重合体を得た。このようにして得られた「ポリカーボネート重合体は、塩化メチレンを溶媒とする濃度０．５ｇ/ｄｌの溶液の２０℃における還元粘度［η_sp/ｃ］が０．８２ｄｌ/ｇであった。このポリカーボネート重合体は¹Ｈ−ＮＭＲスペクトル分析より下記の構造式（１４）からなることが確認された。

［合成例２］
２，2−ビス（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）プロパン６５．５ｇ、２モル/リットルの水酸化ナトリウム水溶液５５０ｍｌ、塩化メチレン４００ｍｌ、分子量調整剤であるｐ−（パーフルオロ−ｎ−ヘキシルオキシ）フェノール０．９ｇ及び触媒として１０質量％濃度のトリエチルアミン水溶液３ｍｌを混合して攪拌しながら、冷却下、液中にホスゲンガスを３４０ｍｌ/分の割合で３０分間吹き込んだ。反応終了後、有機相に塩化メチレン１リットルを加えて希釈し、水、希塩酸、水の順に洗浄した後、メタノール中に投入してポリカーボネート重合体を得た。このようにして得られたポリカーボネート重合体は、塩化メチレンを溶媒とする濃度０．５ｇ/ｄｌの溶液の２０℃における還元粘度［η_sp/ｃ］が０．９１ｄｌ/ｇであった。このポリカーボネート重合体は¹Ｈ−ＮＭＲスペクトル分析より下記の構造式（１５）からなることが確認された。

［合成例３］
１，1−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−１，１−ジフェニルメタン９０．１ｇ、２モル/リットルの水酸化ナトリウム水溶液５５０ｍｌ、塩化メチレン４００ｍｌ、分子量調整剤である１−（ｐ−ヒドロキシベンジル）パーフルオロ−ｎ−デカン１．５ｇ及び触媒として１０質量％濃度のトリエチルアミン水溶液３ｍｌを混合して攪拌しながら、冷却下、液中にホスゲンガスを３４０ｍｌ/分の割合で３０分間吹き込んだ。反応終了後、有機相に塩化メチレン１リットルを加えて希釈し、水、希塩酸、水の順に洗浄した後、メタノール中に投入してポリカーボネート重合体を得た。このようにして得られたポリカーボネート重合体は、塩化メチレンを溶媒とする濃度０．５ｇ/ｄｌの溶液の２０℃における還元粘度［η_sp/ｃ］が０．５１ｄｌ/ｇであった。
このポリカーボネート重合体は¹Ｈ−ＮＭＲスペクトル分析より下記の構造式（１６）からなることが確認された。

［合成例４］
１，1−ビス（４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン６８．６ｇ、２モル/リットルの水酸化ナトリウム水溶液５５０ｍｌ、塩化メチレン４００ｍｌ、分子量調整剤であるｐ−１Ｈ，１Ｈ−パーフルオロオクチルオキシフェノール０．８ｇ及び触媒として１０質量％濃度のトリエチルアミン水溶液３ｍｌを混合して攪拌しながら、冷却下、液中にホスゲンガスを３４０ｍｌ/分の割合で３０分間吹き込んだ。反応終了後、有機相に塩化メチレン１リットルを加えて希釈し、水、希塩酸、水の順に洗浄した後、メタノール中に投入してポリカーボネート重合体を得た。このようにして得られたポリカーボネート重合体は、塩化メチレンを溶媒とする濃度０．５ｇ/ｄｌの溶液の２０℃における還元粘度［η_sp/ｃ］が０．７９ｄｌ/ｇであった。このポリカーボネート重合体は¹Ｈ−ＮＭＲスペクトル分析より下記の構造式（１７）からなることが確認された。

［合成例５］
１，1−ビス（４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン１００ｇを２モル/リットルの水酸化カリウム水溶液９００ミリリットルに溶解した溶液と、塩化メチレン４５０ミリリットルとを混合して撹拌しながら、冷却下、液中にホスゲンガスを９５０ミリリットル/分の割合で約３０分間吹き込んだ。次いで、この反応液を静置分離し、有機相に重合度が２〜４であり、 分子末端にクロロホーメート基を有するオリゴマーの塩化メチレン溶液を得た。得られたオリゴマー溶液に塩化メチレンを加えて全量を６００ミリリットルとした後、４，４’−ビフェノール２１ｇを２Ｎ水酸化ナトリウム溶液２００ミリリットルに溶解した溶液と混合し、これに分子量調整剤である２，２，３，３，４，４，５，５，６，６，７，７−ドデカフルオロヘプタノールの２．８ｇを加えた。次いで、この混合液を激しく撹拌しながら、触媒として７質量％トリエチルアミン水溶液を２ミリリットル加え、２５℃において撹拌下で１．５時間反応を行った。反応終了後、反応生成物を塩化メチレン１リットルで希釈し、次いで水１．５リットルで２回、０．０１モル/リットル塩酸１リットル、水１リットルで２回の順に洗浄し、有機相をメタノール中に投入し、再沈精製した。このようにして得られたポリカーボネート重合体は塩化メチレンを溶媒とする濃度０．５ｇ/ｄｌの溶液の２０℃における還元粘度［η_sp/ｃ］が１．２ｄｌ/ｇであった。このポリカーボネート重合体は¹Ｈ−ＮＭＲスペクトル分析より下記の構造式（１８）からなることが確認された。

［合成例６］
１，１−ビス（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン１１０ｇを２モル/リットルの水酸化カリウム水溶液９００ミリリットルに溶解した溶液と、塩化メチレン４５０ミリリットルとを混合して撹拌しながら、冷却下、液中にホスゲンガスを９５０ミリリットル/分の割合で約３０分間吹き込んだ。次いで、この反応液を静置分離し、有機相に重合度が２〜４であり、分子末端にクロロホーメート基を有するオリゴマーの塩化メチレン溶液を得た。得られたオリゴマー溶液に塩化メチレンを加えて全量を６００ミリリットルとした後、４，４’−ビフェノール２１ｇを２モル/リットル水酸化ナトリウム溶液２００ミリリットルに溶解した溶液と混合し、これに分子量調整剤である２，２，３，３，４，４，５，５，６，６，７，７−ドデカフルオロヘプタノールの３．８ｇを加えた。次いで、この混合液を激しく撹拌しながら、触媒として７質量％トリエチルアミン水溶液を２ミリリットル加え、２５℃において撹拌下で１．５時間反応を行った。反応終了後、反応生成物を塩化メチレン１リットルで希釈し、次いで水１．５リットルで２回、０．０１モル/リットル塩酸１リットル、水１リットルで２回の順に洗浄し、有機相をメタノール中に投入し、再沈精製した。このようにして得られたポリカーボネート重合体は塩化メチレンを溶媒とする濃度０．５ｇ/ｄｌの溶液の２０℃における還元粘度［η_sp/ｃ］が０．６ｄｌ/ｇであった。このポリカーボネート重合体は¹Ｈ−ＮＭＲスペクトル分析より下記の構造式（１９）からなることが確認された。

［合成例７］
２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）ブタン１０３ｇを２モル/リットルの水酸化ナトリウム水溶液５５０ミリリットルに溶解した溶液と、塩化メチレン３５０ミリリットルとを混合して撹拌しながら、冷却下、液中にホスゲンガスを９５０ミリリットル/分の割合で３０分間吹き込んだ。次いで、この反応液を静置分離し、有機相に重合度が２〜４であり、分子末端にクロロホーメート基を有するオリゴマーの塩化メチレン溶液を得た。得られたオリゴマー溶液に塩化メチレンを加えて全量を６００ミリリットルとした後、４，４’−ビフェノール２１ｇを２モル/リットル水酸化ナトリウム溶液２００ミリリットルに溶解した溶液と混合し、これに分子量調整剤である２，２，３，３，４，４，５，５，６，６，７，７，8，8，9，9−ヘキサデカフルオロノナノールの３．５ｇを加えた。次いで、この混合液を激しく撹拌しながら、触媒として７質量％トリエチルアミン水溶液を２ミリリットル加え、２５℃において撹拌下で１．５時間反応を行った。反応終了後、反応生成物を塩化メチレン１リットルで希釈し、次いで水１．５リットルで２回、０．０１モル/リットル塩酸１リットル、水１リットルで２回の順に洗浄し、有機相をメタノール中に投入し、再沈精製した。このようにして得られたポリカーボネート重合体は塩化メチレンを溶媒とする濃度０．５ｇ/ｄｌの溶液の２０℃における還元粘度［η_sp/ｃ］が０．８ｄｌ/ｇであった。このポリカーボネート重合体は¹Ｈ−ＮＭＲスペクトル分析より下記の構造式（２０）からなることが確認された。

［合成例８］
１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン１０２ｇを２モル/リットルの水酸化カリウム水溶液５５０ｍｌに溶解した溶液と、塩化メチレン３５０ｍｌとを混合して撹拌しながら、冷却下、液中にホスゲンガスを９５０ｍｌ/分の割合で３０分間吹き込んだ。次いで、この反応液を静置分離し、有機層に重合度が２〜５であり、分子末端にクロロホーメート基を有するオリゴマーの塩化メチレン溶液を得た。得られたオリゴマー溶液に塩化メチレンを加えて全量を７００ｍｌとした後、末端フェノール変性ポリジメチルシロキサン（フェノール当量１６００）７ｇと１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン７ｇ、加え、さらに２モル/リットル水酸化カリウム溶液２００ｍｌ溶液と混合し、これに分子量調整剤であるｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノールの２．０ｇを加えた。次いで、この混合液を激しく撹拌しながら、触媒として７質量％トリエチルアミン水溶液を２ｍｌ加え、２５℃において撹拌下で１．５時間反応を行った。反応終了後、反応生成物を塩化メチレン１リットルで希釈し、次いで水１．５リットルで２回、０．０１モル/リットル塩酸１リットル、水１リットルで２回の順に洗浄し、有機相をメタノール中に投入し、再沈精製した。このようにして得られたポリカーボネート重合体は塩化メチレンを溶媒とする濃度０．５ｇ/ｄｌの溶液の２０℃における還元粘度［η_sp/ｃ］が０．５２ｄｌ/ｇであった。このポリカーボネート重合体は¹Ｈ−ＮＭＲスペクトル分析より下記の構造式（２１）からなることが確認された。

［合成例９］
２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）ブタンの９５ｇを２モル/リットルの水酸化ナトリウム水溶液５５０ミリリットルに溶解した溶液と、塩化メチレン３５０ミリリットルとを混合して撹拌しながら、冷却下、液中にホスゲンガスを９５０ミリリットル/分の割合で３０分間吹き込んだ。次いで、この反応液を静置分離し、有機相に重合度が２〜４であり、分子末端にクロロホーメート基を有するオリゴマーの塩化メチレン溶液を得た。得られたオリゴマー溶液に塩化メチレンを加えて全量を６００ミリリットルとした後、４，４’−ビフェノールの２１ｇ及び下記構造式（２２）のフェノール変性ポリジメチルシロキサンの１ｇを２モル/リットル水酸化ナトリウム溶液２００ミリリットルに溶解した溶液と混合し、これに分子量調整剤である２，２，３，３，４，４，５，５，６，６，７，７，8，8，9，9−ヘキサデカフルオロノナノールの３．５ｇを加えた。次いで、この混合液を激しく撹拌しながら、触媒として７質量％トリエチルアミン水溶液を２ミリリットル加え、２５℃において撹拌下で１．５時間反応を行った。反応終了後、反応生成物を塩化メチレン１リットルで希釈し、次いで水１．５リットルで２回、０．０１モル/リットル塩酸１リットル、水１リットルで２回の順に洗浄し、有機相をメタノール中に投入し、再沈精製した。このようにして得られたポリカーボネート重合体は塩化メチレンを溶媒とする濃度０．５ｇ/ｄｌの溶液の２０℃における還元粘度［η_sp/ｃ］が０．８ｄｌ/ｇであった。このポリカーボネート重合体は¹Ｈ−ＮＭＲスペクトル分析より下記の構造式（２３）からなることが確認された。

［合成例１０］
１，1−ビス（４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン １０２ｇを２モル/リットルの水酸化カリウム水溶液５５０ｍｌに溶解した溶液と、塩化メチレン３５０ｍｌとを混合して撹拌しながら、冷却下、液中にホスゲンガスを９５０ｍｌ/分の割合で３０分間吹き込んだ。次いで、この反応液を静置分離し、有機層に重合度が２〜４であり、分子末端にクロロホーメート基を有するオリゴマーの塩化メチレン溶液を得た。得られたオリゴマー溶液に塩化メチレンを加えて全量を６００ｍｌとした後、４，４’−（１，３−フェニレンビス（１−メチルエチリデン）ビスフェノール１５ｇ及び末端フェノール変性ポリジメチルシロキサン（フェノール当量１６００）５ｇを２モル/リットル水酸化カリウム溶液２００ｍｌに溶解した溶液と混合し、これに分子量調整剤であるｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール２．０ｇを加えた。次いで、この混合液を激しく撹拌しながら、触媒として７質量％トリエチルアミン水溶液を２ｍｌ加え、２５℃において撹拌下で１．５時間反応を行った。反応終了後、反応生成物を塩化メチレン１リットルで希釈し、次いで、水１．５リットルで２回、０．０１モル/リットル塩酸１リットル、水１リットルで２回の順に洗浄し、有機相をメタノール中に投入し、再沈精製した。このようにして得られたポリカーボネート重合体は塩化メチレンを溶媒とする濃度０．５ｇ/ｄｌの溶液の２０℃における還元粘度［η_sp/ｃ］が０．６ｄｌ/ｇであった。このポリカーボネート重合体は¹Ｈ−ＮＭＲスペクトル分析より下記の構造式（２４）からなることが確認された。

［合成例１１］
１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン１００ｇを２モル/リットルの水酸化カリウム水溶液９００ミリリットルに溶解した溶液と、塩化メチレン４５０ミリリットルとを混合して撹拌しながら、冷却下、液中にホスゲンガスを９５０ミリリットル/分の割合で約３０分間吹き込んだ。次いで、この反応液を静置分離し、有機相に重合度が２〜４であり、 分子末端にクロロホーメート基を有するオリゴマーの塩化メチレン溶液を得た。得られたオリゴマー溶液に塩化メチレンを加えて全量を６００ミリリットルとした後、末端フェノール変性ポリジメチルシロキサン（フェノール当量１６００）３．６ｇ及び４，４’−ビフェノール１９ｇを２Ｎ水酸化ナトリウム溶液２００ミリリットルに溶解した溶液と混合し、これに末端停止剤である２，２，３，３，４，４，５，５，６，６，７，７−ドデカフルオロヘプタノール（Ｈ（ＣＦ２ ）６ ＣＨ２ ＯＨ）６．０ｇを加えた。次いで、この混合液を激しく撹拌しながら、触媒として７％トリエチルアミン水溶液を２ミリリットル加え、２５℃において撹拌下で１．５時間反応を行った。反応終了後、反応生成物を塩化メチレン１リットルで希釈し、次いで水１．５リットルで２回、０．０１規定塩酸１リットル、水１リットルで２回の順に洗浄し、有機相をメタノール中に投入し、再沈精製した。このようにして得られたポリマーは塩化メチレンを溶媒とする濃度０．５ｇ/ｄｌの溶液の２０℃における還元粘度［ηｓｐ/ｃ］が０．５ｄｌ/ｇであった。このポリカーボネート重合体は¹Ｈ−ＮＭＲスペクトル分析より下記の構造式（２５）からなることが確認された。

［比較合成例１］
モノマー原料として２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン６０．２ｇ、末端停止剤としてｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール０．９ｇを用いた以外は、合成例５と同様の操作により合成した。このようにして得られたポリマーは塩化メチレンを溶媒とする濃度０．５ｇ/ｄｌの溶液の２０℃における還元粘度［ηｓｐ/ｃ］が０．９ｄｌ/ｇであった。

［比較合成例２］
モノマー原料として１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン６８．５ｇ、末端停止剤としてｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール０．３ｇを用いた以外は、合成例５と同様の操作により合成した。このようにして得られたポリマーは塩化メチレンを溶媒とする濃度０．５ｇ/ｄｌの溶液の２０℃における還元粘度［ηｓｐ/ｃ］が０．６ｄｌ/ｇであった。

［比較合成例３］
末端停止剤として、ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール０．９ｇを用いた以外は、合成例５と同様の操作により合成した。このようにして得られたポリマーは塩化メチレンを溶媒とする濃度０．５ｇ/ｄｌの溶液の２０℃における還元粘度［ηｓｐ/ｃ］が０．８ｄｌ/ｇであった。このポリカーボネート重合体は¹Ｈ−ＮＭＲスペクトル分析より下記の構造式（２６）からなることが確認された。

［比較合成例４］
末端停止剤として、ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール１．０ｇを用いた以外は、合成例７と同様の操作により合成した。このようにして得られたポリマーは塩化メチレンを溶媒とする濃度０．５ｇ/ｄｌの溶液の２０℃における還元粘度［η_sp/ｃ］が０．７ｄｌ/ｇであった。このポリカーボネート重合体は¹Ｈ−ＮＭＲスペクトル分析より下記の構造式（２７）からなることが確認された。

［実施例１〜１１および比較例１〜４］
合成例１〜１１（合成例１で得られたポリカーボネート重合体を実施例１で、合成例２で得られたポリカーボネート重合体を実施例２で使用。以下、同様）及び比較合成例１〜４で得られたポリカーボネート重合体（いずれもフレーク状）を用い、ポリカーボネート重合体５重量部、シクロヘキサノン溶剤９５重量部の割合で混合、攪拌しコーティング剤を作製した。
上記コーティング剤をポリカーボネート樹脂基板（出光興産社製、タフロンA１９００を射出成型した基材、１００×１００×厚み３ｍｍ）の片面にアプリケータを用いて塗布し、１２０℃で６時間乾燥してコーティングされた成型体を得た。外観については、コーティング面に白化が見られるどうかを目視にて判定した。
次に、レンズ形成材料として、セロキサイド２０２１Ｐ（ダイセル化学工業社、商標、化合物名：３，４−エポキシシクロヘキセニルメチル−３，’4'−エポキシシクロヘキセンカルボキシレート）１００部、Ｉｒｇａｃｕｒｅ ２５０（チバ・スペシャリティ・ケミカルズ社、商標）３部からなる光カチオン硬化型材料を調整し、マイクロディスペンサーに充填して、コーティングされた成型体表面に、単位面積当たり１００ドット/ｃｍ²の割合で滴下した後、ＵＶ硬化機（アイグラフィック社製、ＥＣＳ−３０１Ｇ１）により、紫外線３０００ｍＪを照射して硬化させ、マイクロレンズ構造を形成した。
得られた成型体の外観を観察し、密着性、曇り度（透明性）、水に対する接触角、さらにマイクロレンズ構造を形成したコーティングされた成型体のレンズ形状率、輝度の値を第１表に示す。それらの測定方法は下記の通りである。

［測定項目］
＜還元粘度（η_sp/ｃ）＞
各「ポリカーボネート重合体」の濃度が０．５ｇ/ｄｌになるように塩化メチレンに溶解した溶液の２０℃における還元粘度（η_sp/ｃ）を、離合社製、自動粘度測定装置ＶＭＲ−０４２を用い、自動粘度用ウッベローデ改良型粘度計（ＲＭ型）で測定した。
＜塗液の保存安定性＞
各「コーティング剤」を常温で１日放置した後、塗液がゲル化しているかどうかを目視にて観察し、以下の基準で判定した。
ゲルが全く観察されないもの：○
ゲルが観察されるもの：×
＜密着性＞
ＪＩＳ Ｋ５４００に準じて１ｍｍ間隔で縦横１１本、計１００個の碁盤目を作り、ニチバン製セロテープを接着した後、９０度方向に急激に剥がした。被膜が剥離せずに残った桝目の数を「残存桝目数/１００」で表わした。
＜透明性＞
ヘイズメータ（スガ試験機社製、ＨＧＭ−２ＤＰ型）を用いて曇り度を測定した。
＜マイクロレンズ形状率＞
マイクロレンズを１０個選び、その高さをドット径で割り％で表したものである。なお、マイクロレンズの高さはオリンパス光学社製走査型レーザー顕微鏡を用い測定した。
＜撥水性＞
コーティング成型体表面に超純水を滴下し、エルマゴニオメータ式接触角測定器（エルマ光学社製、G−I型）を用いて接触角を測定した。
＜レンズ形状率＞
コーティング体表面に形成したマイクロレンズを１０個選び、その高さをドット半径で割り、形状率（％）を算出した。なおマイクロレンズの半径及び高さは、走査型レーザー顕微鏡（オリンパス光学社製）を用いて測定した。
＜輝度＞
コーティング層の上にマイクロレンズを形成した成型体の裏面（マイクロプリズムを形成した側）及び側面を高反射率材料（出光石油化学社製、タフロンＨＲ２５００を射出成形）のプレート（厚さ３ｍｍ）で覆い、光源側エッジより冷陰極管（ハリソン電機社製、ＨＭＢＳ２６Ｅ）で照射し、導光板表面を乳白のアクリル板（三菱レイヨン社製、アクリライト４３２、厚さ２ｍｍ）で覆い、導光板の中央部の輝度を測定（ミノルタ社製、ＬＳ−１１０を使用）した。

表１の結果から明らかなように、本発明におけるポリカーボネート重合体および各コーティング剤を用いたものは比較用ポリカーボネート重合体およびコーティング剤を用いたものに比べて撥水性が良いため、表面にレンズ形成材料を塗布して形成されるマイクロレンズの形状率が高い。その結果、光学部材としての輝度の点で特に優れていることがわかる。

本発明のコーティング剤は、ポリカーボネート樹脂のような透明性に優れた基材に塗布することにより光学部材、例えば導光板、拡散板、反射板、偏光板等として光学機器分野で好ましく利用できる。

Claims (9)

1. 一般式（１）
   

   

   [式中、Ａ¹は二価のフェノール性水酸基を有する化合物残基および/または二価のアルコール性水酸基を有する化合物残基を示す]
   で表される繰り返し単位と、一般式（２）
   

   

   [式中、Ｒ¹およびＲ²は各々独立に炭素数１〜５のアルキル基又はフェニル基を示し、ｎは１０〜６０の整数を示す］
   で表されるシロキサン骨格および/または重合体末端に下記一般式（５）〜（１０）
   

   

   ［（５）〜（１０）式中のＲ ⁵ は炭素数５〜２０のパーフルオロアルキル基または置換パーフルオロアルキル基、Ｙは−ＣＨ ₂ −でｅは０〜６の整数であり、Ｚは−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＯＣＯ−、−Ｓ−、−ＳＯ−、−ＳＯ ₂ −又は−ＮＨＣＯ−であり、ｆは０又は１であり、Ｒ ⁶ はハロゲン原子、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数５〜７のシクロアルキル基又は炭素数６〜１２の置換もしくは無置換のアリール基のいずれかであり、ｃ及びｄはｃ＋ｄ≦５、ｃ＝１〜５、ｄ＝０〜４で表わされる整数である]
   のいずれかで表されるフッ素原子を含む基を有し、かつ塩化メチレンを溶媒とする濃度０．５ｇ/ｄｌ溶液の２０℃における還元粘度［η_sp/ｃ］が０．１〜３．０ｄｌ/ｇであるポリカーボネート重合体および有機溶剤を含むコーティング剤を基材表面に塗布してコーティング層を形成させてなる成型体の表面に、レンズ形成材料を塗布してなるマイクロレンズ構造を有する光学部材。
2. 一般式（３）
   

   

   [式中、Ａ²は二価のフェノール性水酸基を有する化合物残基、二価のアルコール性水酸基を有する化合物残基、および下記一般式（１１）もしくは（１２）
   

   

   ［式(１１)中、Ｒ ⁷ 、Ｒ ⁸ 、Ｒ ⁹ は各々独立に炭素数１〜６の無置換のアルキル基、炭素数１〜６の無置換のアルコキシ基、または炭素数６〜１２の無置換のアリール基、炭素数７〜１３のアリール置換アルケニル基、炭素数６〜２４の縮合多環式炭化水素基から選ばれる一価の置換基を示し、Ｒ ⁸ 、Ｒ ⁹ は水素原子であってもよい。ｇは０〜４の整数、ｎ１は１〜１０の整数、ｎ２は１〜５０の整数を示す］、
   

   

   ［式(１２)中、Ｒ ¹⁰ は各々独立にハロゲン原子、炭素原子数が１〜６の無置換のアルキル基、炭素原子数が１〜６の無置換のアルコキシ基又は炭素原子数が６〜１２の無置換のアリール基であり、Ｒ ¹¹ は脂肪族不飽和結合を含まない同種又は異種の一価炭化水素基であり、ｇは０〜４の整数、ｎ３は１〜５０の整数、ｎ４、ｎ５はそれぞれ独立に１〜１０の整数である］
   で表される二価のポリオルガノシロキサンフェノール変性物残基の中から選ばれる少なくとも１種の残基を示す]
   で表される繰り返し単位と重合体末端に下記一般式（５）〜（１０）
   

   

   ［（５）〜（１０）式中のＲ ⁵ は炭素数５〜２０のパーフルオロアルキル基または置換パーフルオロアルキル基、Ｙは−ＣＨ ₂ −でｅは０〜６の整数であり、Ｚは−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＯＣＯ−、−Ｓ−、−ＳＯ−、−ＳＯ ₂ −又は−ＮＨＣＯ−であり、ｆは０又は１であり、Ｒ ⁶ はハロゲン原子、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数５〜７のシクロアルキル基又は炭素数６〜１２の置換もしくは無置換のアリール基のいずれかであり、ｃ及びｄはｃ＋ｄ≦５、ｃ＝１〜５、ｄ＝０〜４で表わされる整数である]
   のいずれかで表されるフッ素原子を含む基を有し、かつ塩化メチレンを溶媒とする濃度０．５ｇ/ｄｌ溶液の２０℃における還元粘度［η_sp/ｃ］が０．１〜３．０ｄｌ/ｇであるポリカーボネート重合体及び有機溶剤を含むことを特徴とするコーティング剤を基材表面に塗布してコーティング層を形成させてなる成型体の表面に、レンズ形成材料を塗布してなるマイクロレンズ構造を有する光学部材。
3. 二価のフェノール性水酸基を有する化合物残基が下記一般式（１３）
   

   

   ［式中、Ｒ¹²、Ｒ¹³は、それぞれ独立に、ハロゲン原子、置換または無置換の炭素数１〜１２のアルキル基、置換または無置換の炭素数１〜１２のアルコキシ基、置換または無置換の炭素数６〜１２のアリール基、置換または無置換の炭素数７〜１３のアリールアルキルもしくはアリールアルケニル基及び置換または無置換の炭素数１〜１２のフルオロアルキル基、置換または無置換の炭素数６〜２４の縮合多環式炭化水素を示す。ｓ、ｔは各々独立に０〜４の整数である。Ｘ¹は、単結合、−Ｏ−、−ＣＯ−、−Ｓ−、−ＳＯ−、−ＳＯ₂ −、−ＣＲ¹⁴及び−ＣＲ¹⁵−（ただし、Ｒ¹⁴及びＲ¹⁵は各々独立に水素、置換又は無置換の炭素数１〜２４のアルキル基、置換または無置換のフェニル基及びトリフルオロメチル基から選ばれる）、置換または無置換の炭素数５〜１２のシクロアルキリデン基、２，２−アダマンチル基、１，３−アダマンチル基、置換または無置換の炭素数２〜１２のα，ω−アルキレン基、置換または無置換の炭素数１３〜２５の９，９−フルオレニリデン基、１，８−メンタンジイル基、２，８−メンタンジイル基、置換または無置換の炭素数４〜１０のピラジリデン基、置換または無置換の炭素数６〜１２のアリーレン基、及び−Ｃ（ＣＨ₃）₂−Ｐｈ−Ｃ（ＣＨ₃）₂−から選ばれるいずれかの基を示す（Ｐｈは、フェニレン基を示す）］
   で表される基を含む請求項１又は２に記載の光学部材。
4. 有機溶剤が非ハロゲン系溶剤から選ばれる少なくとも１種である請求項１〜３のいずれかに記載の光学部材。
5. インクジェット印刷技術によりレンズ形成材料を塗布してなる請求項１〜４のいずれかに記載の光学部材。
6. 導光板、偏光板、反射板、拡散板、三次元立体視ディスプレイ用マイクロレンズアレイデバイスのいずれかである請求項１〜５のいずれかに記載の光学部材。
7. 一般式（１）
   

   

   [式中、Ａ ¹ は二価のフェノール性水酸基を有する化合物残基および/または二価のアルコール性水酸基を有する化合物残基を示す]
   で表される繰り返し単位と、一般式（２）
   

   

   [式中、Ｒ ¹ およびＲ ² は各々独立に炭素数１〜５のアルキル基又はフェニル基を示し、ｎは１０〜６０の整数を示す］
   で表されるシロキサン骨格および重合体末端に下記一般式（５）〜（１０）
   

   

   ［（５）〜（１０）式中のＲ ⁵ は炭素数５〜２０のパーフルオロアルキル基または置換パーフルオロアルキル基、Ｙは−ＣＨ ₂ −でｅは０〜６の整数であり、Ｚは−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＯＣＯ−、−Ｓ−、−ＳＯ−、−ＳＯ ₂ −又は−ＮＨＣＯ−であり、ｆは０又は１であり、Ｒ ⁶ はハロゲン原子、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数５〜７のシクロアルキル基又は炭素数６〜１２の置換もしくは無置換のアリール基のいずれかであり、ｃ及びｄはｃ＋ｄ≦５、ｃ＝１〜５、ｄ＝０〜４で表わされる整数である]
   のいずれかで表されるフッ素原子を含む基を有し、かつ塩化メチレンを溶媒とする濃度０．５ｇ/ｄｌ溶液の２０℃における還元粘度［η _sp /ｃ］が０．１〜３．０ｄｌ/ｇであるポリカーボネート重合体および有機溶剤を含むコーティング剤。
8. 一般式（３）
   

   

   [式中、Ａ ² は下記一般式（１１）もしくは（１２）
   

   

   ［式(１１)中、Ｒ ⁷ 、Ｒ ⁸ 、Ｒ ⁹ は各々独立に炭素数１〜６の無置換のアルキル基、炭素数１〜６の無置換のアルコキシ基、または炭素数６〜１２の無置換のアリール基、炭素数７〜１３のアリール置換アルケニル基、炭素数６〜２４の縮合多環式炭化水素基から選ばれる一価の置換基を示し、Ｒ ⁸ 、Ｒ ⁹ は水素原子であってもよい。ｇは０〜４の整数、ｎ１は１〜１０の整数、ｎ２は１〜５０の整数を示す］、
   

   

   ［式(１２)中、Ｒ ¹⁰ は各々独立にハロゲン原子、炭素原子数が１〜６の無置換のアルキル基、炭素原子数が１〜６の無置換のアルコキシ基又は炭素原子数が６〜１２の無置換のアリール基であり、Ｒ ¹¹ は脂肪族不飽和結合を含まない同種又は異種の一価炭化水素基であり、ｇは０〜４の整数、ｎ３は１〜５０の整数、ｎ４、ｎ５はそれぞれ独立に１〜１０の整数である］
   で表される二価のポリオルガノシロキサンフェノール変性物残基を示す]
   で表される繰り返し単位を有するポリカーボネート重合体であって、重合体末端にのみフッ素原子を含む基を有し、該フッ素原子を含む基が下記一般式（５）〜（１０）
   

   

   ［（５）〜（１０）式中のＲ ⁵ は炭素数５〜２０のパーフルオロアルキル基または置換パーフルオロアルキル基、Ｙは−ＣＨ ₂ −でｅは０〜６の整数であり、Ｚは−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＯＣＯ−、−Ｓ−、−ＳＯ−、−ＳＯ ₂ −又は−ＮＨＣＯ−であり、ｆは０又は１であり、Ｒ ⁶ はハロゲン原子、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数５〜７のシクロアルキル基又は炭素数６〜１２の置換もしくは無置換のアリール基のいずれかであり、ｃ及びｄはｃ＋ｄ≦５、ｃ＝１〜５、ｄ＝０〜４で表わされる整数である]
   のいずれかで表され、かつ塩化メチレンを溶媒とする濃度０．５ｇ/ｄｌ溶液の２０℃における還元粘度［η _sp /ｃ］が０．１〜３．０ｄｌ/ｇであるポリカーボネート重合体及び有機溶剤を含むことを特徴とするコーティング剤。
9. 有機溶剤が非ハロゲン系溶剤から選ばれる少なくとも１種である請求項７又は８に記載のコーティング剤。