JP5130366B2 - 光記録媒体 - Google Patents

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Description

本発明は、多数の記録層が積層された光ディスク等の光記録媒体に関する。
多数の記録層が積層された多層の光ディスクにおいては、通常、光ビームの入射表面にて各記録層からの戻り光量が同一になるように各記録層の反射率が設計されている。しかしながら、多層の光ディスクには、多重反射という問題がある。例えば、図1に示すように、8つの記録層L0〜L7が積層された多層の光ディスクにおいて、光ビームの光ディスクの入射表面から最奥に位置する記録層L0を目的層として再生する場合は、記録層L0に光ビームが集光され、そこで反射されるが、その記録層L0に近い記録層L1、記録層L2、及び記録層L3各々でも光ビームの反射が生じる。記録層L1、記録層L2、及び記録層L3各々で反射した光は、記録層L2、記録層L4、及び記録層L6各々の裏面に第1共焦点、第2共焦点、第3共焦点を形成し、それらのスポットが層間クロストークを発生する。これを以降、多重反射CTと呼ぶ。
従来、多重反射CTを低減するために、光ディスクの複数の記録層のうちの少なくとも一部の隣接する記録層間の距離が異なるように各記録層間の距離を定める技術が知られている(特許文献1〜4参照)。
特開2001−155380号公報 特開2006−40456号公報 特開2006−59433号公報 特開2006−252752号公報
最も簡便なものでも2種類の層間距離が必要になるのでディスクの製造方法が煩雑で歩留まりが悪くなり製造コストが上がる。具体的には次のような煩雑さがある。
一般的に、多層ディスクの中間層を形成する方法としては、フィルム状シートを用いる手法と、スピンコート法の2種類がある。シートを用いる手法は層間距離誤差(設定した層間距離からのずれ)を小さくすることはできるが、複数の層間距離を形成するためにはシートも複数種類用意し、記録層毎にシート種類を切り替える必要があるため歩留まりが悪くなる。一方、スピンコート法は、滴下する樹脂の量やスピンドル回転数等のパラメータを調整することにより層間距離を変えることができる。しかしながら、一般にこれらのパラメータの調整は非常にシビアであるため、気温や湿度等の周囲環境の僅かな変化で層間距離誤差が大きくなってしまうことが多々ある。そのため層間距離誤差を抑えるために適宜パラメータ調整が必要になるが、複数種類の層間距離を形成する場合にはパラメータ調整も複数回必要となってしまう。このようにディスク製造方法が煩雑になると歩留まりが悪くなり、結果としてディスク製造コストが上がる。
更には、このような多層ディスクを記録再生するドライブは、層間距離が不均一であるため、層間ジャンプの際に対物レンズを動かす量や球面収差補正量などを記録層毎に切り替えなければならず制御ロジックが複雑になる。
そこで、本発明が解決しようとする課題には、上記の欠点が一例として挙げられ、従来の構成に比して簡単な構成で多重反射を低減させることができる多数の記録層を有する光記録媒体を提供することを目的とする。
請求項1に係る発明の光記録媒体は、少なくとも3つの記録層が積層された多層の光記録媒体であって、読み取り用の光ビームの入射表面から奥に位置する記録層ほどその記録層で反射されて前記入射表面に達する戻り光量が小さいことを特徴としている。
請求項1に係る発明の光記録媒体によれば、入射表面から奥に位置する記録層ほど戻り光量が小さくなるようにしたので、主に奥側の層を再生する際に生じる多重反射CTを低減できるので、奥側の層のジッタ値が改善される。
以下、本発明の実施例を図面を参照しつつ詳細に説明する。
図2は、本発明による光ディスクの断面構成を示す図である。この光ディスクは、20層のディスクであり、基板1と、ピット列が形成された反射膜からなる記録層L0〜L19と、その記録層間の中間層2とから構成される。記録層L0〜L19は基板1側からL0〜L19の順であり、記録層L0〜L19間には紫外線硬化樹脂からなる中間層2が形成されている。レーザ光が入射するディスク表面側に最も近い記録層(最手前層)L19が中間層2を介して位置する。記録層L0〜L19は誘電体、例えば、NbやTiOからなる。
記録層L0〜L19のビーム光のディスク入射表面への戻り光量が図3に示すようにL19〜L0の順に小さくなるようにしている。
例えば、記録層L19からの戻り光量は、ディスクへ入射する光量の1.20%、記録層L18からの戻り光量は1.17%、記録層L17からは1.14%、……と1記録層当たり約0.03%(=0.6/19)刻みで減少し、記録層L0からの戻り光量は記録層L19からの戻り光量の半分、すなわち0.06%になるように各記録層L0〜L19の反射率が決められている。
このように、光ビームの入射表面から奥に位置する記録層ほどその記録層で反射されて入射表面に達する戻り光量が小さくなるようにするため、記録層L19〜L0の反射率は図3に示すように、1.36%、1.42%、……、3.71%に設定する。
なお、ディスク入射表面の反射率は4.0%、中間層1層当たりの吸収率は2.2%、層間距離は10μm均一である。
記録層L0〜L19を形成する誘電体反射膜(Nbの場合)の膜厚と反射率との間には図4に示すように、膜厚40nm以下では膜厚が大となるほど反射率が大となる特性が存在する。例えば、Nbの屈折率を2.5とし、中間層2に用いる紫外線硬化樹脂の屈折率を1.6とした場合に、記録層L19は約7nmの厚さ、記録層L0は約12nmの厚さである。なお、図4では光ビームの波長は405nmである。よって、記録層L0〜L19の厚さはL0〜L19の順に小とされ、この結果、ディスク入射表面への戻り光量が図3に示すようにL19〜L0の順に低くなることが得られている。
かかる本発明による光ディスクは、図5(a)〜(c)に示すように、化学強化された基板11(例えば、外径φ120mm、内径φ15mm)上に紫外線硬化樹脂12を用いて形成される。このとき紫外線硬化樹脂12の厚さが記録層間の距離を決める中間層(上記の符号2)となる。紫外線硬化性樹脂12の表面にはピットが転写され信号転写層となる。この信号転写層表面に誘電体(Nb)13をスパッタリング法を用いて記録層が形成される。各記録層からの戻り光量は別途定めた条件で記録層毎にその厚さを変えることで設定する。
具体的には、紫外線硬化樹脂12で作成される中間層はスピン法で信号の転写と同時に形成される。図5(a)に示すように、基板上に紫外線硬化樹脂12を適量滴下しピットが形成されているスタンパ14を載せる。この状態で基板11を高速回転させて余分な紫外線硬化樹脂12が吹き飛ばされ、その回転数と時間によって定まる条件下で厚さの紫外線硬化樹脂層12が形成される。その後、図5(b)に示すように、紫外線を照射し紫外線硬化樹脂12を硬化させる。硬化後、図5(c)に示すように、スタンパ14を剥離し、誘電体13で反射膜を成膜して1層分の記録層が形成される。この記録上に更に紫外線硬化樹脂12を滴下し、上記の工程を繰り返し、最後にカバー層(図示せず)を形成することにより多層構造のディスクが作成される。なお、紫外線硬化樹脂を硬化させる紫外線は基板11側及びスタンパ14側のうちのどちらから照射させても良いが、スタンパ14側から照射させる場合にはスタンパ14を紫外線が透過する材料で作成する必要がある。一方、基板11側から照射させる場合には、記録層数が増加するに従い紫外線の透過能が落ちるため、紫外線の強度や積算光量を増加させる必要がある。
かかる本発明による光ディスクを再生するためのディスクドライブ装置は、再生光学系と信号処理系とを備えている。
図6に示すように、再生光学系は光源21、コリメータレンズ22、ビームスプリッタ23、エキスパンダレンズ24、対物レンズ25、集光レンズ26、及びディテクタ27を備えている。信号処理系はレーザ駆動回路30、信号処理回路31、コントローラ32、対物レンズ駆動回路33、球面収差補正素子駆動回路34及びメモリ35を備えている。なお、図6において上記の光ディスクは符号20で示している。
光源21はレーザビームを出射する半導体レーザ素子である。コリメータレンズ22は光源21によって出射されたレーザビームを平行光に変換してビームスプリッタ23に供給する。ビームスプリッタ23はコリメータレンズ22から供給された平行レーザビームをそのままエキスパンダレンズ24に供給する。エキスパンダレンズ24は球面収差補正素子であり、第1及び第2の補正レンズ24a,24bを備え、それらはアクチュエータ24c,24dによって駆動され、光軸方向に移動可能にされている。第1及び第2の補正レンズ24a,24b間の距離を調整して光ディスク20の記録層毎の球面収差補正が可能にされている。エキスパンダレンズ24によって球面収差補正されたレーザビームは対物レンズ25に供給される。対物レンズ25は平行光のレーザビームを収束させる。この対物レンズ25にはアクチュエータ25aが備えられている。アクチュエータ25aは対物レンズ25を光軸方向に移動させるフォーカシング部分と、対物レンズ25を光軸に垂直なディスク半径方向に移動させるトラッキング部分とからなる。フォーカシング部分により光ディスク20の記録層のいずれか1の記録層にレーザビームを合焦させることができ、トラッキング部分によりその1の記録層においてトラック上にレーザビームの光スポットを位置させることができる。
光ディスク20のいずれか1の記録層で反射したレーザビームは対物レンズ25、そしてエキスパンダレンズ24を介して平行光のレーザビームとしてビームスプリッタ23に戻る。ビームスプリッタ23はその反射レーザビームをその入射に対してほぼ90度の角度で反射して集光レンズ26に供給する。集光レンズ26は反射レーザビームをディテクタ27の受光面に集光させてそこにスポットを形成させる。ディテクタ27は例えば、4分割の受光面を有し、分割面毎に受光強度に応じたレベルの電圧信号を生成する。
信号処理系のレーザ駆動回路30はコントローラ32の指令に応じて光源21を駆動する。信号処理回路31はディテクタ27の出力電圧信号に応じて記録情報の読取信号であるRF信号の他に、フォーカスエラー信号、トラッキングエラー信号等のサーボ信号を生成する。フォーカスエラー信号の生成のためには例えば、非点収差法等の公知の信号生成方法を用いることができる。トラッキングエラー信号の生成のためには例えば、プッシュプル法等の公知の信号生成方法を用いることができる。
コントローラ32は信号処理回路31からサーボ信号を受け、対物レンズ25によるトラッキング及びフォーカシングの制御のために対物レンズ駆動回路33にトラッキング制御信号及びフォーカシング制御信号を供給し、エキスパンダレンズ24による球面収差補正制御のために球面収差補正素子駆動回路34に球面収差補正制御信号を供給する。球面収差補正制御信号としては合焦されるべき記録層に最適な球面収差補正値を示す信号が生成される。すなわち、記録層毎に最適な球面収差補正値がデータテーブルとしてメモリ35に記憶されており、合焦されるべき記録層に対応した球面収差補正値がそのデータテーブルから抽出されて抽出の球面収差補正値を示す球面収差補正制御信号が生成される。通常、トラッキング制御信号はトラッキングエラー信号がゼロレベルになるように生成され、フォーカシング制御信号はフォーカスエラー信号がゼロレベルになるように生成される。メモリ35にはコントローラ32の動作プログラムやデータテーブルが保存されている。
対物レンズ駆動回路33はトラッキング制御信号に応じてアクチュエータ25aのトラッキング部分を駆動して対物レンズ5を光軸に垂直なディスク半径方向に移動させ、フォーカシング制御信号に応じてアクチュエータ25aのフォーカシング部分を駆動して対物レンズ25を光軸方向に移動させる。球面収差補正素子駆動回路24は球面収差補正制御信号に応じてアクチュエータ24c,25dを駆動して第1及び第2の補正レンズ4a,4bをその光軸方向に移動させる。
RF信号は図示しない復調処理回路にて復調処理されてオーディオ信号及び映像信号とされる。
次に、光ディスクの入射表面への戻り光量を入射表面から奥にある記録層ほど小さくなるように定めることにより、多重反射を低減させることができる理由について説明する。ここでは、光ディスクの記録層の数を図1と同様に、8記録層、すなわち記録層L0〜L7としている。
図7は多層の光ディスクに入射した光が各記録層LN−1,LN−2で反射されて戻ってくる光量を説明するための図である。図7において、Riはi層からの戻り光量、rはi層の反射率、tはi層の透過率、rsuは表面反射率、tsuは表面透過率(rsu+tsu=1)、tspは中間層1層当たりの透過率、Nは記録層数である。
先ず、記録層LN−1(入射表面側に最も近いの再手前層)からの戻り光量について考える。簡単化のためディスクへ入射する光量は1.0とする。ディスクの入射表面を通過する光量をtsuとし、中間層1層当たりの透過率をtspとしたので、記録層LN−1に到達する光量はtsuspとなる。記録層LN−1の反射率はrN−1なので、記録層LN−1で反射した直後の光量はtsuspN−1となる。これが再び中間層を通ってtsusp N−1となり、ディスク表面を通過して最終的にディスクから戻ってくる光量RN−1はRN−1=tsu sp N−1となる。同様に記録層LN−2からの戻り光量を求めると、RN−2=tsu sp N−1 N−2となり、一般的に記録層Li層(i=0〜N−1)からの戻り光量は、
Figure 0005130366
と表すことができる。ここで、
Figure 0005130366
は、記録層Liに到達する光量を表している。
従来の多層の光ディスクにおいては、全ての記録層からの戻り光量が等しくなるように設計が行われる。すなわち、
Figure 0005130366
となるようにディスクが設計される。
数1と数3から各記録層の反射率rを求めると、
Figure 0005130366
となる。上記した8層のディスクの各層の反射率を計算すると図8に示すようになる。ただし、rsu=4%(tsu=96%),tsp=97.8%,Rref=5%とした。
図8から分かるように、各記録層からの戻り光量Rを等しくすると、各記録層の反射率rは入射表面から奥に位置する記録層ほど大きくなっている。すなわち、従来の多層光ディスクでは次式が成立するのである。
Figure 0005130366
記録層L0の再生時に各記録層で反射して戻ってくる各光線の経路は図9(a)に示すようになり、記録層L0,L1,L2各々で1回反射して戻ってくる光量R,R,Rは、
Figure 0005130366
の如く表すことができる。一方、図9(b)に示すように、第1共焦点を形成するように多重反射して戻ってくる光量をR 1stとすると、
Figure 0005130366
と表すことができる。記録層L0を再生する場合の多重反射CTの影響度合いはRとR 1stとの比で次のように表すことができる。
Figure 0005130366
全く同様に考えると、記録層L1を再生する場合の多重反射CTの影響度合いはRとR 1stとの比で次のように表すことができる。
Figure 0005130366
以上のことから、記録層Liを再生する場合の多重反射CTの影響度合いはRとR 1stとの比で次のように表すことができる。
Figure 0005130366
上記の数3、数5及び数10の各式より次式が得られる。
Figure 0005130366
従来の多層ディスクでは、奥の層ほど多重反射CTの影響が大きいことになる。なお、数11の式がN−3で終わっているのは、最手前の記録層LN−1及びその次の記録層LN−2では多重反射による共焦点が存在しないからである。
数10の式から、多重反射CTの影響を小さくするには各記録層の反射率ri+1,ri+2を小さくすれば良いことが分かる。更に、数4の式よりri+1,ri+2を小さくするためにはRrefを小さくすれば良いことが分かる。つまり、記録層から1回反射してくる光量を小さくするほど、多重反射CTの影響は小さくなるのである。しかしながら、Rrefを小さくするということは信号レベルを小さくするということと等価であるので、Rrefを小さくし過ぎると信号S/Nが悪化してしまう。
光ディスクシステムにおける信号S/Nには、電気的なS/Nと光学的なS/Nの2種類がある。前者は記録層からの信号光がディテクタ(光検出器)で光電変換された後の電気信号Seと電気回路系で発生する電気的ノイズNe(Neは回路系で決まるので一定)の比であり、Se/Neと示す。後者は記録面からの反射してくる信号光強度Soと記録面以外で反射する迷光強度Noの比であり、So/Noと示す。
電気信号Seは信号光強度Soに比例する。信号光強度Soは1回反射光量Rrefと入射光量の積で決まるので、多重反射CTの影響を小さくするためにRrefを下げた場合は、その分だけ入射光量を増やして、Rrefと入射光量の積を保存すればSe/Neが悪化することはない。
一方、記録面以外で反射する迷光強度Noは入射光量に比例する。従って、多重反射CTの影響を小さくするためにRrefを下げ、その分だけ入射光量を増やすとSo/Noは悪化してしまうのである。
記録面以外で反射する迷光としては、ディスク表面で生じる界面反射光や対物レンズなどの光学部品で反射する迷光などが考えられるが、通常の光学部品は迷光反射が生じないように反射防止膜を付けたり、反射が生じてもディテクタに到達しないように光軸を僅かに傾けたりすることで迷光強度Noに影響しないようにしているので、光ディスクシステムで最も大きなNo成分はディスクの表面反射光である。
光ディスクのDVDやBDでは、記録層が1層若しくは2層であったため共焦点が存在しないので、多重反射CTは存在しなかった。そのため、Rrefは設計可能な最大値近傍で設計されていた。よって、記録層からの反射光強度Soに対してディスク表面からの反射光強度Noは充分小さく、問題になることはなかったが、3層以上の多層ディスクになると設計可能なRrefが急激に小さくなることに加えて、多重反射CTを抑えるために更に反射率を下げたりすると、もはやディスクの表面反射光は無視できなくなる。
前述したように、迷光強度Noが無視できない場合は、Rrefを下げることで多重反射CTを小さくすることが難しくなるので、上記の特許文献1〜4に示された従来技術では層間距離を制御にして共焦点が存在しないように工夫している訳である。
しかしながら、層間距離を厳密に制御することは上記の「発明が解決しようとする課題」の欄で記述したように、ディスク製造上において様々なデメリットがある。そこで、層間距離を厳密に制御しなくても、S/Nを落とすことなく多重反射CTの影響を小さくするために本発明がされている。
図10は横軸にフォーカス位置(ディスク表面からの距離)をとって、ディテクタに入る表面反射光量をグラフにしたものである。ただし、表面反射率は4%、規格化ディテクタサイズ(=ディテクタ面積/倍率)は44[μm]とした。
この図10から、フォーカス位置がディスク表面から遠ざかると急激にディテクタに漏れ込む表面反射光が減少することが分かる。つまり、ディスクの入射表面側の記録層を再生する場合は迷光強度Noが無視できないが、入射表面から奥に位置する記録層を再生する場合は迷光強度Noが十分小さいのである。このことは、入射表面側の記録層では多重反射CTの影響を小さくするためにRrefをあまり小さくすることは出来ないが、奥側の記録層では多重反射CTの影響を小さくするためにRrefを充分小さくしても良いことを意味している。
従って、図3に示したように、本発明の多層の光ディスクにおいては、その入射表面側の記録層から最奥の記録層に向かって戻り光量Rが徐々に小さくなるように構成されている。
更に、本発明の多層の光ディスクでは多重反射CTを低減できることを数式を用いて説明する。ただし、簡単化のために、8記録層の光ディスクの最奥の記録層L0を再生したときの第1共焦点による多重反射CTの影響について示すことにする。
記録層L0を再生する場合の多重反射CTの影響度合いを表す上記の数8の式は、次のように変形することができる。
Figure 0005130366
更に、簡単化のために、記録層での吸収が充分小さい場合はr+t=1として数12の式は変形すると、次のようになり、その際,数2の式が適用されている。
Figure 0005130366
従来の多層ディスクでは数3の式が成り立つので、数13の式は次のように表すことができる。
Figure 0005130366
これに対して、本発明の光ディスクではR<R<…<RN−1=Rrefとしているが、簡単化のために、
Figure 0005130366
とする。この数15の式を数13の式に代入すると、次のようになる。
Figure 0005130366
数14及び数16各々で記録層L2に到達する光量T,T’はT’>Tである。このことは、本発明の光ディスクの方がより多くの光が奥の記録層まで届くということである。よって、仮に同じRを得る場合でも従来の光ディスクよりもr を小さくすることができるという副次的な効果が生まれる。結果としてRを小さくする効果は奥の記録層ほど指数関数的に増加する。
従来の光ディスク及び本発明の光ディスク各々における多重反射CTの影響を比較するために、数14の式と数16の式との比をとると、
Figure 0005130366
のようになり、この数17の値が1よりも小さければ、R<R<…<RN−1 とすることで多重反射CTの影響が小さくなるということである。α10<1は自明であるので,
Figure 0005130366
であれば,(数17の式)<1となる。先に述べたようにT’>Tであり、α10<1であることから,数17の式の分母の方が分子よりも大きいことは自明である。以上のことより、本発明の光ディスクは多重反射CTの影響が小さくできることが明らかである。
なお、説明を簡単にするために数15の各式のような関係に従って入射表面から奥に位置する記録層ほど戻り光量が小さくなる場合について説明したが、必ずしも数15の各式を満たす必要はない。一例として、光ディスクの入射表面に最も近い記録層から最奥の記録層まで戻り光量Rが図11に示すように線形に小さくなる場合についても、図12に示すように多重反射CTの影響度合いRi 1st/Riの値は従来に比して減少させることができる。
以上のように、本発明の多層の光ディスクを用いると、入射表面からは奥に位置する記録層で生じる多重反射の影響を抑えると同時に、入射表面に近い記録層を再生するときに問題となる表面反射の影響も抑えることができる。また、隣接する層間距離を積極的に変えることなく、多重反射CTを低減することができるので、ディスク製造時の歩留まりが高くなり、更にドライブ装置においても特別な制御ロジックが不要となる。
各記録層からの戻り光量が入射光量に対して1.2%均一になるような従来技術で設計された20層の従来の光ディスクと、本発明による20層の光ディスクを再生した時のジッタ値は図13に示すようになる。本発明による20層の光ディスクは主に奥側の記録層を再生する際に生じる多重反射CTを低減できるので、奥側の記録層のジッタ値が改善される。
また、光ディスクの最奥に位置する記録層のジッタ値の低減率(=本発明による光ディスクの最奥記録層のジッタ値/従来の光ディスクの最奥記録層のジッタ値)は、例えば、図14に示すようになり、記録層の数が大なるほどジッタ値の低減は大きいことが分かる。なお、図14の減衰率の特性を求めるに当たって、従来の光ディスクでは、記録層間距離10μm均一、各記録層の戻り光量均一とされ、本発明による光ディスクでは、記録層間距離10μm均一、最奥記録層からの戻り光量/最前記録層からの戻り光量=0.5で戻り光量が最奥記録層に向かって線形に減衰する場合とされている。
ところで、光ディスクのカバー層若しくは中間層の屈折率を1.5とすると、ディスク表面反射率は約4%程度になる。一方、20層の光ディスクでは入射表面に最も近い記録層の位置が表面から15μm程度になる。図10に示したフォーカス位置とディテクタに漏れ込む表面反射光との関係特性から考えて、入射表面に最も近い記録層L19を再生する際にディテクタに漏れ込む表面反射光は約0.1%程度であることが分かる。上記のSo/Noとして少なくとも20dB以上を確保するためには、記録層L19からの戻り光量R19としては少なくとも表面反射光の10倍すなわち1%以上が必要である。
図15は、記録層L19の戻り光量R19が1.0〜1.6%であってそこから奥の記録層に向かって線形に戻り光量が小さくなるとした場合に、最奥の記録層L0において多重反射CTが充分小さくなるようにするためには、最奥の記録層L0からの戻り光量Rをどの位小さくすれば良いのかを求めた結果である。
この図15から、戻り光量R19を大きくするほど、同じ効果を得るための戻り光量Rは小さくしなければならないことが分かる。戻り光量Rが小さくなると、同じSe/Neを確保するために必要な入射光量が増えることになる。入射光量を増やすことは消費電力が増えるばかりではなく、ディスクの耐光性能を高める必要性が出てきたりするので(繰り返しレーザ光が当たることでディスクが劣化するため)、戻り光量Rはあまり小さくしたくない。
以上のことを鑑みて、上記の実施例で示した20層の光ディスクでは記録層L19の反射率を1.2%、最奥の記録層L0の反射率を0.6%(すなわち記録層L19の戻り光量の1/2)として、その間の記録層については線形に反射率が小さくなるように設定している。
加えて図15からは、R19/Rの値を少なくとも0.8以下にしないと最奥の記録層L0のジッタ値が10%以下にならないことが分かる。システム成立条件としてジッタ10%が妥当かどうかは記録再生ドライブの性能によるので一概には言えないが、ジッタ値という指標で効果を得るためにはR19/R≦0.8が必要であるということが分かる。
線形に反射率を小さくすることは、どの記録層においても隣接層からの多重反射CTが極端に増加することがないというメリットもある。一方、記録層L19では戻り光量が大きく、記録層L0では戻り光量を小さくすれば良いということで、例えば、図16に示すように戻り光量が記録層L19〜L9では同一の1.2%、記録層L8〜L0では同一の0.6%にされて急激な変化の分布が考えられる。この戻り光量分布の場合には確かに多重反射CTの影響は小さくなる可能性があるが、記録層L8やL7を再生するときに、記録層L9からの通常の層間クロストーク光(1回反射光)が相対的に大きくなってしまうので、このように急激に戻り光量が変化するような分布は望ましくないことになる。
上記した実施例の光ディスクにおいては、記録層間の中間層の厚さは同一であるが、図17に示すように中間層の厚さを2種類(LA,LB)としそれが交互に配置された交互層構造にしても良い。
交互層構造の多層の光ディスクは多重反射で生じる共焦点の数が半分になるので均一層構造のディスクよりも多重反射CTの影響を小さくできるが、2層毎に共焦点が存在するので、各層反射率によっては多重反射CTの影響が取りきれない可能性がある。そのような場合は、本願の設計思想を取り入れ、手前から奥に向かって戻り光量が小さくなるように各層反射率を設計することで多重反射CTの影響を効果的に低減することが可能になる。
交互層にすることで多重反射CTの影響を低減する場合、ディスク製造誤差や再生ビームスポットの焦点深度などを考慮して、狭い層間距離LAと厚い層間距離LBの差は4μm以上とすることが望ましい。
また、図17の光ディスクでは最手前層と最奥層の距離が変わらないように、均一層構造の層間距離よりも狭い層間距離と広い層間距離の交互層構造について説明したが、層間距離を狭くすると通常の層間CT(1回反射CT)が増加してしまうため、実際には狭い方の層間を均一層構造の層間と等しくして、もう1つの層間を広げる必要がある。ただし、最手前層と最奥層の距離が増えてしまうと球面収差補正光学系のダイナミックレンジを広げる必要があるので、できるだけ広げたくないという制約もある。
以上のことを鑑みると、交互層構造にする場合、2種類の層間距離の差は4〜6μm程度が妥当である。
なお、上記した実施例においては、光記録媒体として8層或いは20層の記録層が積層された光ディスクについて説明したが、3層以上の記録層が積層される光ディスクであれば本発明を適用することができる。また記録層としてピットが転写された再生専用光ディスクについて説明したが、追記もしくは書き換え型の光ディスクに対しても本発明を適用することができる。また、光記録媒体の形状は円盤状でなくても良く、3層以上の記録層が積層された光メモリであっても良い。
多層光ディスクの最奥記録層にレーザ光の焦点を合わせた場合の光反射経路を示す図である。 本発明の実施例を示す断面図である。 図2の光ディスクの各記録層の反射率及び戻り光量を示す図である。 誘電体反射膜の膜厚保と反射率との関係を示す図である。 図2の光ディスクの製造方法を示す図である。 図2の光ディスクを駆動するディスクドライブ装置の構成を示す図である。 多層の光ディスクに入射した光が各記録層で反射されて戻ってくる光量を説明するための図である。 記録層毎の反射率を示す図である。 再生時に各記録層で反射して戻ってくる光線経路を示す図である。 フォーカス位置に対してディテクタに漏れ込む表面反射光量を示す図である。 従来の光ディスク及び本発明による光ディスクの戻り光量の違いを示す図である。 従来の光ディスク及び本発明による光ディスクの多重反射CTの影響度合いの違いを示す図である。 図2のディスクによるジッタ値の減少を示す図である。 最奥記録層のジッタ値減衰率を示す図である。 最奥記録層のジッタ値が10%以下になるための条件を示す図である。 2値に設定された戻り光量分布を示す図である。 交互層構造の多層の光ディスクを示す図である。
符号の説明
L0〜L19 記録層
20 光ディスク
21 光源
23 ビームスプリッタ
24 エキスパンダレンズ
25 対物レンズ
27 ディテクタ
31 信号処理回路
32 コントローラ
33 対物レンズ駆動回路
34 球面収差補正素子駆動回路

Claims (6)

  1. 少なくとも3つの記録層が積層された多層の光記録媒体であって、
    読み取り用の光ビームの入射表面から奥に位置する記録層ほどその記録層で反射されて前記入射表面に達する戻り光量が小さいことを特徴とする光記録媒体。
  2. 最も奥側の記録層から得られる戻り光量が前記入射表面にて最も手前側に位置する記録層の戻り光量の0.8倍以下であることを特徴とする請求項1記載の光記録媒体。
  3. 最も奥側の記録層から得られる戻り光量が前記入射表面にて最も手前側に位置する記録層の前記戻り光量の0.5倍以上であることを特徴とする請求項1乃至2記載の光記録媒体。
  4. 最も手前の記録層から最も奥の記録層まで線形に前記戻り光量が減少していくことを特徴とする請求項1乃至3のいずれか1項に記載の光記録媒体。
  5. 隣接する記録層の層間距離を交互に異ならせたことを特徴とする請求項1乃至4のいずれか1項に記載の光記録媒体。
  6. 交互に異なる前記層間距離の差異は、4〜6ミクロンであることを特徴とする請求項5記載の光記録媒体。
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