JP5111091B2 - インライン洗浄装置 - Google Patents

Description

本発明はインライン洗浄装置に関し、更に詳細には実質的に連続して搬入される被洗浄物を、密閉状態の洗浄槽内で洗浄するインライン洗浄装置に関する。

半導体装置等の電子部品の製造工程では、電子部品に付着した汚れ等を洗浄する洗浄工程が不可欠である。かかる電子部品の洗浄装置としては、通常、ベルトコンベア等の搬入手段によって連続的に搬入される電子部品を洗浄できるインライン洗浄装置が要望されている。
かかるインライン洗浄装置としては、従来、洗浄液が貯留され、被洗浄物の電子部品を洗浄する洗浄槽と、洗浄槽で洗浄された電子部品を乾燥する乾燥槽と、洗浄槽と乾燥槽とに電子部品を搬入する搬入手段とが設けられている（例えば、下記特許文献１参照）。
ところで、電子部品を洗浄する洗浄液としては、フッ素系、臭素系、塩素系等の有機溶液が用いられている。かかる有機溶液は、オゾン層の破壊等の環境破壊に関連するため、大気排出に規制が設けられつつある。
このため、従来のインライン洗浄装置においても、洗浄液として使用した有機溶剤の回収が試みられている。
しかしながら、搬入装置で連続して搬入されてくる電子部品の出入口を具備する洗浄槽及び乾燥槽が設けられている従来のインライン洗浄装置では、有機溶剤の漏洩を充分に防止することは極めて困難である。

一方、被洗浄物の洗浄液に有機溶媒を用いた場合であっても、有機溶媒の漏洩を充分に防止できる洗浄装置が、下記特許文献２に提案されている。
かかる洗浄装置の概要を図５に示す。図５に示す洗浄装置１００には、被洗浄物Ａが挿入されて密閉される容器１０２の底面に超音波発振器１０３が設けられた洗浄槽１０４と、減圧状態の容器１０２内に洗浄液としての有機溶媒を給液し、ポンプ１０５によって容器１０２から排出された有機溶媒を受け入れる貯留タンク１０６と、容器１０２内を減圧する真空ポンプ１０８と、真空ポンプ１０８で吸引した容器１０２内の有機溶媒ガス含有気体が導入され、加熱ヒータ１１０によってガス化された有機溶媒ガスと共に凝縮器１１２で凝縮された有機溶剤の凝縮液を給液タンク１０６に戻す蒸留器１１４とが設けられている。
特開２００３−７１３９８号公報 実公平６−４９５４号公報

図５に示す洗浄装置１００によれば、蓋が開放された容器１０２内に被洗浄物Ａを挿入してから蓋を閉めて密閉とした後、真空ポンプ１０８を駆動して容器１０２内を減圧状態として、貯留タンク１０６から洗浄液としての有機溶媒を容器１０２内に給液する。
次いで、有機溶媒に浸漬された被洗浄物Ａに対して、超音波発振器１０３から超音波を照射して超音波洗浄を施した後、容器１０２内の有機溶媒をポンプ１０５を駆動して貯留タンク１０６に排出する。
その後、真空ポンプ１０８を駆動して容器１０２内を減圧状態として、被洗浄物Ａを真空乾燥した後、容器１０２内に大気を吸引させて復圧させてから蓋を開放して被洗浄物Ａを取り出す。
この様に、洗浄装置１００によれば、容器１０２を密閉状態で被洗浄物Ａに洗浄を施すことができると共に、有機溶媒ガスも蒸留器１１４で回収できるため、被洗浄物Ａに対して有機溶媒の漏洩を充分に防止しつつ洗浄できる。
しかしながら、図５に示す洗浄装置１００の洗浄処理は、バッチ処理であって、連続的に搬入されてくる被洗浄物に洗浄を施すことができるインライン洗浄装置として用いることができない。
そこで、本発明は、連続的に搬入されてくる被洗浄物を洗浄できるものの、洗浄液として用いる有機溶媒が漏洩する従来のインライン洗浄装置、或いは洗浄液として用いる有機溶媒の漏洩を充分に防止できるものの、被洗浄物の洗浄をバッチ処理する従来の洗浄装置の課題を解決し、連続的に搬入されてくる被洗浄物を洗浄でき、且つ洗浄液の漏洩を充分に防止できるインライン洗浄装置を提供することを目的とする。

本発明者等は、前記課題を解決するには、図５に示す洗浄槽１０４を複数基設け、連続的に搬入されてくる被洗浄物を受け入れる洗浄槽を順次変更して洗浄を施すことが有効であると考え検討した結果、本発明に到達した。
すなわち、本発明は、連続的に搬入されてくる被洗浄物を、密閉状態の洗浄槽内で洗浄するインライン洗浄装置であって、洗浄液が貯留された１個の給液タンクと、上部に形成された開口部に蓋が開閉自在に被着されて密閉状態の内部に挿入された被洗浄物を減圧下で洗浄する３個の洗浄槽と、前記被洗浄物が挿入された洗浄槽内を減圧手段で減圧状態に保持して、前記被洗浄物に対し、前記給液タンクから給液手段により給液された洗浄液に浸漬し又は前記給液手段から供給された洗浄液を噴射して洗浄を施す洗浄手段と、前記洗浄手段によって洗浄された被洗浄物に対し、前記減圧状態を保持した洗浄槽内に洗浄液蒸気を導入して蒸気洗浄を施す蒸気洗浄手段と、前記蒸気洗浄が施された洗浄槽内の被洗浄物に対し、前記減圧手段により洗浄槽内を減圧状態にして真空乾燥を施す真空乾燥手段と、減圧状態から復圧手段によって蓋が開閉できるように復圧された前記３個の洗浄槽の各々に、前記蓋を開閉して被洗浄物の挿入又は取出を行う挿入・取出手段と、前記洗浄液を加熱して洗浄液蒸気を発生する加熱器と、前記洗浄液蒸気を凝縮する凝縮器とが設けられ、前記凝縮器で凝縮された洗浄液を前記給液タンクに戻すと共に、前記減圧手段によって吸引された洗浄槽内の洗浄液蒸気を含有するガスが導入され、前記凝縮器で凝縮されて回収される蒸留手段とを具備し、前記３個の洗浄槽は、円柱状の基台の周縁に沿って等間隔で配設されると共に、前記基台の中央部には前記挿入・取出手段が配設され、さらに、前記挿入・取出手段、減圧手段、給液手段、洗浄手段、蒸気洗浄手段及び真空乾燥手段を制御する制御部が設けられており、前記制御部では、前記被洗浄物に洗浄を施す一連の工程を、前記洗浄槽への前記被洗浄物の挿入・取出工程であるＡ工程、前記洗浄槽内を所定圧に減圧して前記洗浄液を給液し前記被洗浄物に洗浄を施す洗浄工程であるＢ工程、前記洗浄槽内の前記洗浄液を前記給液タンクに戻し、蒸気洗浄及び真空乾燥を行う洗浄液の排出・乾燥工程であるＣ工程の３つの工程に分け、前記Ａ〜Ｃの各工程の通過時間が等しくなるようにして、前記Ａ〜Ｃの各工程が前記３個の洗浄槽間で重複することなく順次進行するように、前記挿入・取出手段、減圧手段、給液手段、洗浄手段、蒸気洗浄手段及び真空乾燥手段を制御することを特徴とするインライン洗浄装置にある。

これによって、各洗浄槽での洗浄処理をスムーズに行うことができる。
また、蒸気洗浄手段には、貯留された洗浄液を加熱器で加熱して洗浄液蒸気を発生する洗浄蒸気発生手段を設けることによって、蒸気洗浄を容易に行うことができる。
更に、洗浄槽内の洗浄液に浸漬された被洗浄物に超音波を照射できるように、前記洗浄槽に超音波発振器を設けることによって、被洗浄物に超音波洗浄を施すことができる。或いは、洗浄槽内の被洗浄物に洗浄液を噴射して洗浄を施す洗浄手段に、前記洗浄槽内の被洗浄物に向けて洗浄液を噴射するシャワーノズルを設けることにより、被洗浄物にシャワー洗浄を施すことができる。
尚、洗浄液として、有機溶媒を好適に用いることができる。

本発明に係るインライン洗浄装置によれば、被洗浄物の挿入、洗浄、蒸気洗浄、真空乾燥及び取出の各工程が重複することなく順次進行するように制御された複数の洗浄槽の各々に、連続的に搬入されてくる被洗浄物を順次受け入れて洗浄を施すことができる。
しかも、各洗浄槽での一連の洗浄処理は、洗浄槽内を減圧状態として行われ、洗浄槽内の洗浄液ガスも蒸留手段の凝縮器によって凝縮されて給液タンクに戻る。
その結果、本発明に係るインライン洗浄装置によれば、洗浄液の漏洩を可及的に防止して、連続的に搬入されてくる被洗浄物を洗浄できる。

本発明に係るインライン洗浄装置の一例を図１に示す。図１（ａ）はインライン洗浄装置の平面図であり、図１（ｂ）はインライン洗浄装置の側面図である。図１に示すインライン洗浄装置には、円筒状の洗浄槽１０，２０，３０が円柱状の基台４０の周縁に沿って等間隔で配設され、基台４０の中央部には、搬入装置５０ａで搬入された被洗浄物Ａを洗浄槽１０，２０，３０のいずれかに挿入して洗浄を施し、洗浄が終了した被洗浄物Ａを取り出して搬送装置５０ｂに載置する挿入・取出手段としてのロボット６０が設けられている。
このロボット６０によって、洗浄槽１０，２０，３０の上部に形成された開口部に、蓋１０ａ，２０ａ，３０ａが着脱される。
図１に示すインライン装置の概要を図２に示す。図２に示す洗浄槽１０，２０，３０の各槽には、その底面に超音波発振器１０ｂ，２０ｂ，３０ｂが設けられており、洗浄槽１０，２０，３０の各槽に挿入された被洗浄物Ａに超音波を照射して超音波洗浄を施すことができる。

かかる洗浄槽１０，２０，３０には、洗浄槽１０，２０，３０よりも高い位置に設けられている給液タンク７０に貯留されている有機溶媒である洗浄液が、ヘッダー７２を経由して制御弁１０ｃ，２０ｃ，３０ｃを介して給液できる。制御弁１０ｃ，２０ｃ，３０ｃが開くと、給液タンク７０内の洗浄液は給液タンク７０と洗浄槽１０，２０，３０との圧力差や液等差による自重によって洗浄槽１０，２０，３０に給液される。洗浄槽１０，２０，３０内に設けられているフロート（図示せず）によって検出された洗浄液量が所定量に達したとき、制御弁１０ｃ，２０ｃ，３０ｃは閉じられる。
洗浄槽１０，２０，３０に給液された洗浄液は、洗浄槽１０，２０，３０の各底部から延出された配管に設けられた制御弁１０ｅ，２０ｅ，３０ｅ、ポンプ７５及び制御弁７９を介して給液タンク７０に戻すことができる。
また、洗浄槽１０，２０，３０の各槽は、真空ポンプ７４、ヘッダー７６及び制御弁１０ｄ，２０ｄ，３０ｄを介して接続されている。このため、洗浄槽１０，２０，３０のいずれかに対応する蓋が装着されて内部が気密状態となったとき、真空ポンプ７４が駆動されると共に、対応する制御弁１０ｄ，２０ｄ，３０ｄのいずれかが開となって、対応する洗浄槽内を減圧状態にできる。洗浄槽内が所定の真空度に到達したとき、真空ポンプ７４の駆動が停止されると共に、対応する制御弁が閉じられる。
この真空ポンプ７４の排気は、排気する洗浄槽内が大気である場合には、制御弁７７を開くと共に、制御弁７８を閉じて大気中に放出する。一方、排気する洗浄槽内に洗浄液ガスを含有する場合には、制御弁７７を閉じると共に、制御弁７８を開いて真空ポンプ７４の排気を蒸留器８０に導入する。蒸留器８０には、排気中の洗浄液蒸気（有機溶媒ガス）と底部に溜まった洗浄液８６を加熱器８４によって加熱して発生した洗浄液蒸気とを凝縮する凝縮器８２が設けられている。蒸留器８０の凝縮器８２で凝縮された洗浄液（有機溶媒）は、配管８３を介して給液タンク７０に戻される。かかる蒸留器８０には、給液タンク７０に貯留された洗浄液の一部が蒸留器８０に供給する配管７１が設けられている。

洗浄槽１０，２０，３０には、洗浄蒸気発生装置８８で発生した洗浄蒸気が制御弁１０ｆ，２０ｆ，３０ｆを介して導入され、洗浄槽１０，２０，３０内の被洗浄物Ａに蒸気洗浄を施すことができる。かかる洗浄蒸気発生装置８８には、容器８８ａ内に貯留された洗浄液中に加熱ヒータ８８ｂが設けられている。この容器８８ａには、給液タンク７０内の洗浄液が制御弁８９を介して供給され、容器８８ａ内の洗浄液は、制御弁９２，ポンプ７５及び制御弁７９を介して給液タンク７０に戻すことができる。
また、洗浄槽１０，２０，３０には、被着された蓋１０ａ，２０ａ，３０ａを開放できるように、減圧状態の洗浄槽内にヘッダー９０及び制御弁１０ｇ，２０ｇ，３０ｇを介して大気を吸引して復圧できる。この蓋１０ａ，２０ａ，３０ａの開放は、図１に示すロボット６０によって行うことができる。

図１に示す挿入・取出手段としてのロボット６０、図２に示す制御弁、真空ポンプ７４及びポンプ７５は、制御部５５によって制御されている。
かかる制御部５５による制御の一例を図３のフローチャートに示す。図３に示すフローチャートでは、先ず、被洗浄物を挿入する洗浄槽を選択する（Ｓ１０）。ここで、洗浄槽１０が選択されたとして、洗浄槽１０での洗浄工程を説明する。
洗浄槽１０には、図１に示すロボット６０によって、搬入装置５０ａで搬入された被洗浄物Ａを挿入し（Ｓ１２）、蓋１０ａを被着する（Ｓ１４）。蓋１０ａが洗浄槽１０に被着されたことは、近接スイッチ（図示せず）がＯＮされたことで判断する（Ｓ１６）。
蓋１０ａが被着されて密閉状態となった洗浄槽１０内の減圧を開始する（Ｓ１８）。洗浄槽１０内の減圧は、制御弁１０ｄ，７７を開くと共に、真空ポンプ７４を駆動する。洗浄槽１０内の空気は、制御弁７７を経由して大気中に放出される。洗浄槽１０内が予め設定されている真空度以上に到達したとき、制御弁１０ｄ，７７を閉じると共に、真空ポンプ７４を停止する。
所定の真空度以上に減圧状態となった洗浄槽１０には、給液タンク７０から洗浄液を給液する（Ｓ２２）。洗浄槽１０への洗浄液の給液は、制御弁１０ｃを開き、給液タンク７０からヘッダー７２を経由して行う。洗浄槽１０内の洗浄液レベルは、洗浄槽１０内に設けられたフロート（図示せず）によって検知でき、洗浄液レベルが設定値（Hi）に到達したとき、制御弁１０ｄを閉じ、洗浄液の給液を終了する（Ｓ２４）。

洗浄液の給液が終了した洗浄槽１０では、超音波発振器１０ｂを起動し超音波を発生させて、洗浄液中の被洗浄物Ａに超音波を照射する超音波洗浄を開始すると共に、洗浄タイマー（洗浄ＴＭ）をスタートする（Ｓ２６）。かかる超音波洗浄は、洗浄ＴＭがＵＰしたときに終了する（Ｓ２８，Ｓ３０）。
超音波洗浄が終了した洗浄槽１０の洗浄液は、給液タンク７０に抜き出す（Ｓ３２）。洗浄槽１０内の洗浄液の抜き出しは、制御弁１０ｅ，７９を開くと共に、ポンプ７５を駆動することによって行うことができる。かかる洗浄液の抜き出しは、洗浄槽１０内のフロート（図示せず）によって検知された洗浄液レベルが設定値（Low）に到達したとき終了する。
所定量の洗浄液が抜き出された洗浄槽１０内の被洗浄物Ａに対しては、洗浄液蒸気による蒸気洗浄を開始すると共に、蒸気洗浄タイマー（蒸気洗浄ＴＭ）をスタートする（Ｓ３６）。この洗浄液蒸気は、洗浄蒸気発生装置８８で発生させた洗浄蒸気は制御弁１０ｆを開いて洗浄槽１０内に導入する。かかる蒸気洗浄は、蒸気洗浄ＴＭがＵＰしたときに終了する（Ｓ３８，Ｓ４０）。

被洗浄物Ａに対する蒸気洗浄が終了した洗浄槽１０内に残留している洗浄液の排液を開始すると共に、排液タイマー（排液ＴＭ）をスタートする（Ｓ４２）。この洗浄液の排液は、制御弁１０ｅ，７９を開くと共に、ポンプ７５を駆動することによって行うことができる。かかる洗浄液の排液は、排液ＴＭがＵＰしたときに終了する（Ｓ４４，Ｓ４６）。
洗浄液の排液が終了した洗浄槽１０内の被洗浄物Ａに対しては、真空乾燥を施す（Ｓ４８）。この真空乾燥は、制御弁１０ｄ，７８を開くと共に、真空ポンプ７４を駆動して洗浄槽１０内を減圧する。かかる洗浄槽１０内を減圧する際には、洗浄槽１０内に洗浄液ガスが存在するため、制御弁７８を開くと共に、制御弁７７を閉じて、真空ポンプ７４の排気を蒸留器８０内に導入する。蒸留器８０内に導入された洗浄液ガスは、凝縮器８２で凝縮されて給液タンク７０に戻る。洗浄槽１０内が予め設定されている真空度以上に到達したとき、制御弁１０ｄ，７８を閉じると共に、真空ポンプ７４を停止する（Ｓ５０）。
かかる真空乾燥では、被洗浄物Ａが高温であるほど容易に乾燥できる。このため、真空乾燥前に蒸気洗浄を被洗浄物Ａに施して、被洗浄物Ａの温度を昇温しておくことにより、真空乾燥によって容易に乾燥できる。

被洗浄物Ａに真空乾燥を施した減圧状態の洗浄槽１０から蓋１０ａを開放し、被洗浄物Ａを取り出すことができない。このため、蓋１０ａを開放できるように、洗浄槽１０内を復圧する（Ｓ５２）。この復圧は、制御弁１０ｇを開いて、ヘッダー９０を経由して大気を吸引して行う。この復圧は、洗浄槽１０内が設定された復圧に到達したとき、制御弁１０ｇを閉じて終了する（Ｓ５４）。この設定復圧は、蓋１０ａを開放できる圧力に設定されている。
復圧された洗浄槽１０の蓋１０ａは、図１に示すロボット６０によって開放でき（Ｓ５６）、洗浄槽１０内の被洗浄物Ａもロボット６０によって取り出して、搬送装置５０ｂ（図１）に載置する（Ｓ５８）。

図３で説明した洗浄槽１０での一連の工程は、被洗浄物Ａの洗浄槽１０への挿入、取出工程及び待ち時間［Ｓ１２〜１６、Ｓ５６〜５８に対応］（Ａ工程）、洗浄槽１０内の空気排出、洗浄液の給液及び超音波洗浄［Ｓ１８〜３０に対応］（Ｂ工程）及び洗浄槽１０内の洗浄液の戻し、蒸気洗浄及び真空乾燥［Ｓ３２〜５２に対応］（Ｃ工程）に分けられる。
このＡ工程、Ｂ工程及びＣ工程の所要時間が略等しくなるように調整することが好ましい。
図２に示す制御部５５では、洗浄槽１０，２０，３０の各々を図３に示すフローチャートのように制御すると共に、洗浄槽１０，２０，３０の各々の工程を、下記表１に示すように制御し、洗浄槽１０，２０，３０の工程が重複することを防止しつつ、搬入装置５０ａ（図１）によって連続的に搬入されてくる被洗浄物Ａに洗浄を施すことができる。

図１及び図２に示すインライン洗浄装置によれば、搬入装置５０ａ（図１）によって連続的に搬入されてくる被洗浄物Ａに洗浄を施すことができ、その際に、洗浄液を気密状態で循環使用できる結果、洗浄液の無駄を省くことができると共に、洗浄液が漏洩することに因る環境への負荷を可及的に少なくできる。
図２に示すライン洗浄装置では、洗浄槽１０，２０，３０の底面に超音波発振器１０ｂ，２０ｂ，３０ｂを設けていたが、図４に示す様に、超音波発振器１０ｂ，２０ｂ，３０ｂに代えて、洗浄槽１０，２０，３０の各槽内の被洗浄物Ａに対してシャワー洗浄できるように、洗浄槽１０，２０，３０の各槽内に被洗浄物Ａに向けて洗浄液を噴出するシャワーノズル１０ｈ，２０ｈ，３０ｈを設けてもよい。この場合、被洗浄物Ａに対する所望強さのシャワー洗浄を施すことができるように、シャワーノズル１０ｈ，２０ｈ，３０ｈに洗浄液を供給する配管途中にポンプ９４を設けることが好ましい。
図４に示すインライン洗浄装置では、図２に示すインライン洗浄装置の構成部材と同一部材については、図２に示す構成部材と同一番号を付して詳細な説明を省略した。

本発明に係るインライン洗浄装置の一例を示す正面図及び側面図である。 図１に示すインライン洗浄装置を説明する説明図である。 図２に示すインライン洗浄装置を構成する洗浄槽での一例の洗浄工程を説明するフローチャートである。 本発明に係るインライン洗浄装置の他の例を説明する説明図である。 従来の洗浄装置を説明する概略図である。

符号の説明

１０，２０，２０ 洗浄槽
１０ｂ，２０ｂ，３０ｂ 超音波発振器
１０ｈ，２０ｈ，３０ｈ シャワーノズル
１０ａ〜１０ｇ 制御弁
２０ａ〜２０ｇ 制御弁
３０ａ〜３０ｇ 制御弁
４０ 基台
５０ｂ 搬送装置
５０ａ 搬入装置
５５ 制御部
６０ ロボット
７０ 給液タンク
７４ 真空ポンプ
７５，９４ ポンプ
７７，７９，８９，９２ 制御弁
８０ 蒸留器
８２ 凝縮器
８４ 加熱器
８８ 洗浄蒸気発生装置
Ａ 被洗浄物

Claims (5)

1. 連続的に搬入されてくる被洗浄物を、密閉状態の洗浄槽内で洗浄するインライン洗浄装置であって、
   洗浄液が貯留された１個の給液タンクと、
   上部に形成された開口部に蓋が開閉自在に被着されて密閉状態の内部に挿入された被洗浄物を減圧下で洗浄する３個の洗浄槽と、
   前記被洗浄物が挿入された洗浄槽内を減圧手段で減圧状態に保持して、前記被洗浄物に対し、前記給液タンクから給液手段により給液された洗浄液に浸漬し又は前記給液手段から供給された洗浄液を噴射して洗浄を施す洗浄手段と、
   前記洗浄手段によって洗浄された被洗浄物に対し、前記減圧状態を保持した洗浄槽内に洗浄液蒸気を導入して蒸気洗浄を施す蒸気洗浄手段と、
   前記蒸気洗浄が施された洗浄槽内の被洗浄物に対し、前記減圧手段により洗浄槽内を減圧状態にして真空乾燥を施す真空乾燥手段と、
   減圧状態から復圧手段によって蓋が開閉できるように復圧された前記３個の洗浄槽の各々に、前記蓋を開閉して被洗浄物の挿入又は取出を行う挿入・取出手段と、
   前記洗浄液を加熱して洗浄液蒸気を発生する加熱器と、前記洗浄液蒸気を凝縮する凝縮器とが設けられ、前記凝縮器で凝縮された洗浄液を前記給液タンクに戻すと共に、前記減圧手段によって吸引された洗浄槽内の洗浄液蒸気を含有するガスが導入され、前記凝縮器で凝縮されて回収される蒸留手段とを具備し、
   前記３個の洗浄槽は、円柱状の基台の周縁に沿って等間隔で配設されると共に、前記基台の中央部には前記挿入・取出手段が配設され、
   さらに、前記挿入・取出手段、減圧手段、給液手段、洗浄手段、蒸気洗浄手段及び真空乾燥手段を制御する制御部が設けられており、
   前記制御部では、前記被洗浄物に洗浄を施す一連の工程を、前記洗浄槽への前記被洗浄物の挿入・取出工程であるＡ工程、前記洗浄槽内を所定圧に減圧して前記洗浄液を給液し前記被洗浄物に洗浄を施す洗浄工程であるＢ工程、前記洗浄槽内の前記洗浄液を前記給液タンクに戻し、蒸気洗浄及び真空乾燥を行う洗浄液の排出・乾燥工程であるＣ工程の３つの工程に分け、前記Ａ〜Ｃの各工程の通過時間が等しくなるようにして、前記Ａ〜Ｃの各工程が前記３個の洗浄槽間で重複することなく順次進行するように、前記挿入・取出手段、減圧手段、給液手段、洗浄手段、蒸気洗浄手段及び真空乾燥手段を制御することを特徴とするインライン洗浄装置。
2. 蒸気洗浄手段には、貯留された洗浄液を加熱器で加熱して洗浄液蒸気を発生する洗浄蒸気発生手段が設けられている請求項１記載のインライン洗浄装置。
3. 洗浄槽内の洗浄液に浸漬された被洗浄物に超音波が照射されるように、前記洗浄槽に超音波発振器が設けられている請求項１または２記載のインライン洗浄装置。
4. 洗浄槽内の被洗浄物に洗浄液を噴射して洗浄を施す洗浄手段には、前記洗浄槽内の被洗浄物に向けて洗浄液が噴射されるシャワーノズルが設けられている請求項１〜３のいずれか一項記載のインライン洗浄装置。
5. 洗浄液が、有機溶媒である請求項１〜４のいずれか一項記載のインライン洗浄装置。

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