JP5110413B1 - ラジカル重合性組成物、硬化物及びプラスチックレンズ - Google Patents

Abstract

塗工に適した低粘度を有し、かつ、その硬化物が高屈折率を示し、プラスチックフィルム基材に対して高い付着性を発現し、高温高湿条件下であっても高い付着性を維持するラジカル重合性組成物、該組成物を硬化させてなる硬化物及びプラスチックレンズを提供する。フェニルベンジル（メタ）アクリレート（Ａ）と、分子構造中に芳香環を有するエポキシ（メタ）アクリレート（Ｘ）と、ラジカル重合開始剤（Ｙ）とを必須の成分として含有することを特徴とする。
【選択図】なし

Description

本発明はラジカル重合性組成物、該組成物を硬化させて得られる硬化物及び、該組成物を硬化させて得られるプラスチックレンズに関する。

プリズムレンズ等各種のプラスチックレンズは、金型に樹脂材料を流し込んだ上に透明プラスチック基材を重ね、加熱又は活性エネルギー線の照射により樹脂材料を硬化させる方法などにより製造される。従って、プラスチックレンズの製造に用いられる樹脂材料には、硬化物の屈折率が高いことや透明度に優れることなどの光学特性はもとより、樹脂材料が金型の細部にまで行渡り、型を忠実に再現できるよう無溶剤であっても低粘度であることや、透明プラスチック基材との付着性に優れることなどの性能も要求されている。

プラスチックレンズ用途に用いられる樹脂材料の中でも、フルオレン骨格を有する化合物は、高屈折率を示す硬化物が得られることから注目されてきたが、反面、ポリエチレンテレフタレートフィルム等のプラスチックフィルム基材に対する付着性が悪いため、他の化合物と混合して用いる必要があった。

フルオレン骨格を有する化合物を用いてポリエチレンテレフタレートフィルムへの付着性を向上させた技術としては、例えば、フルオレン骨格を有するジアクリレート化合物と、オルトフェニルフェノキシエチルアクリレートとを含有するプラスチックレンズ用樹脂組成物が知られている（特許文献１参照）。しかしながら、このような樹脂組成物を用いてなるプラスチックレンズは、製造直後の基材付着性は良好であるものの、経時的に基材付着性が低下してしまうものであり、保存安定性に劣るものであった。特に、船便での輸送時など、高温高湿環境下で保存された場合には、その付着性の低下は著しく、基材からの浮きや剥がれが生じてしまうものであった。

特開２００８−９４９８７号公報

したがって、本発明が解決する課題は、塗工に適した低粘度を有し、かつ、その硬化物が高屈折率を示し、プラスチックフィルム基材に対して高い付着性を発現し、高温高湿条件下であっても高い付着性を維持するラジカル重合性組成物、該組成物を硬化させてなる硬化物及びプラスチックレンズを提供することにある。

本発明者らは、上記の課題を解決するため鋭意検討した結果、フェニルベンジル（メタ）アクリレート（Ａ）と、分子構造中に芳香環を有するエポキシ（メタ）アクリレート（Ｘ）と、ラジカル重合開始剤（Ｙ）とを必須の成分として含有することを特徴とするラジカル重合性組成物が、無溶剤系であっても塗工に適した低い粘度を有し、かつ、その硬化物が高屈折率を示し、プラスチックフィルム基材に対して長期に渡り高い付着性を発現し、高温高湿条件下であっても高い付着性を維持することを見出し、本発明を完成するに至った。

即ち、本発明は、フェニルベンジル（メタ）アクリレート（Ａ）と、分子構造中に芳香環を有するエポキシ（メタ）アクリレート（Ｘ）と、ラジカル重合開始剤（Ｙ）と、ビフェニル構造がメチレンを介して結節された分子構造を有するビフェニル化合物（Ｃ）とを必須の成分として含有することを特徴とするラジカル重合性組成物に関する。

本発明は、更に、前記ラジカル重合性組成物を硬化させて得られる硬化物に関する。

本発明は、更に、前記ラジカル重合性組成物からなるプラスチックレンズに関する。

本発明によれば、無溶剤であっても塗工に適した低い粘度を有し、かつ、その硬化物が高屈折率を示し、プラスチックフィルム基材に対して長期に渡り高い付着性を発現し、高温高湿条件下であっても高い付着性を維持するラジカル重合性組成物、該組成物を硬化させてなる硬化物及びプラスチックレンズを提供することができる。

図１は製造例１で得られたオルトフェニルベンジルアクリレートの^１Ｈ−ＮＭＲスペクトルである。 図２は製造例２で得られたメタフェニルベンジルアクリレートの^１Ｈ−ＮＭＲである。 図３は製造例３で得られたパラフェニルベンジルアクリレートの^１Ｈ−ＮＭＲである。 図４は製造例４で得られた４，４‘−ビスアクリロイルメチルビフェニルの^１Ｈ−ＮＭＲである。 図５は製造例４で得られた４，４‘−ビスアクリロイルメチルビフェニルのマススペクトル。 図６は製造例６で得られた混合物（１）のガスクロトマトグラムである。

本発明のラジカル重合組成物は、フェニルベンジル（メタ）アクリレート（Ａ）を必須の成分として含有することにより、その硬化物が高い屈折率を示すものとなる。

前記フェニルベンジル（メタ）アクリレート（Ａ）は、オルトフェニルベンジル（メタ）アクリレート、メタフェニルベンジル（メタ）アクリレート及びパラフェニルベンジル（メタ）アクリレートが挙げられる。本発明のフェニルベンジル（メタ）アクリレート（Ａ）は、これらの化合物をそれぞれ単独で用いても良いし、２種以上を併用してもよい。このうち、オルトフェニルベンジル（メタ）アクリレート及びメタフェニルベンジル（メタ）アクリレートは、２５℃での液体の屈折率が１．５７以上であり、かつ、粘度が３０ｍＰａ・ｓ以下であり、比較的高屈折率でありながら、低粘度を示す点で好ましい。また、パラフェニルベンジルアクリレートは、常温で固体であるが、４０℃での液体の屈折率が１．５９以上と非常に高い値を示す点で好ましい。

中でも、組成物の低粘度性と、硬化物の高屈折率性とを高いレベルで兼備できることから、オルトフェニルベンジル（メタ）アクリレート、メタフェニルベンジル（メタ）アクリレート及びパラフェニルベンジル（メタ）アクリレートを併用することが好ましい。その際の配合比は、低粘度でありながら、硬化物における屈折率の高いラジカル重合性組成物が得られることから、オルトフェニルベンジル（メタ）アクリレート及びメタフェニルベンジル（メタ）アクリレートと、パラフェニルベンジル（メタ）アクリレートとのモル比［｛〔オルトフェニルベンジル（メタ）アクリレート〕＋〔メタフェニルベンジル（メタ）アクリレート〕｝／〔パラフェニルベンジル（メタ）アクリレート〕］が５５／４５〜１０／９０の範囲となるように用いることが好ましい。

更に、これらの中でも、オルトフェニルベンジル（メタ）アクリレート及びパラフェニルベンジル（メタ）アクリレートは、より製造が簡便であるため、これらを併用することが好ましい。その際の配合比は、低粘度でありながら、硬化物における屈折率の高いラジカル重合性組成物が得られることから、オルトフェニルベンジル（メタ）アクリレートと、パラフェニルベンジル（メタ）アクリレートとのモル比［〔オルトフェニルベンジル（メタ）アクリレート〕／〔パラフェニルベンジル（メタ）アクリレート〕］が、５５／４５〜１０／９０の範囲であることが好ましい。

前記フェニルベンジル（メタ）アクリレート（Ａ）の製造方法は、例えば、ビフェニルメタノールと（メタ）アクリル酸とをエステル化反応させる方法や、クロロメチルビフェニル、ブロモメチルビフェニルのようなハロゲン化メチルビフェニルと、（メタ）アクリル酸のカリウム、ナトリウム、リチウムなどのアルカリ金属塩とを反応させる方法などが挙げられる。

本発明のラジカル重合性組成物は、前記フェニルベンジル（メタ）アクリレート（Ａ）に加え、分子構造中に芳香環を有するエポキシ（メタ）アクリレート（Ｘ）を含有することにより、プラスチックフィルム基材に対して長期に渡り高い付着性を発現し、高温高湿条件下であっても高い付着性を維持する塗膜が得られることから好ましい。

前記エポキシ（メタ）アクリレート（Ｘ）は、その分子構造中に芳香環骨格を有することにより、屈折率の高い化合物となる。該エポキシ（メタ）アクリレート（Ｘ）の具体的な屈折率は、２５℃条件下での屈折率が１．５０以上であることが好ましい。

前記エポキシ（メタ）アクリレート（Ｘ）は、例えば、分子構造中に芳香環骨格及びエポキシ基を有する化合物（ｘ１）に、（メタ）アクリロイル基及びカルボキシル基を有する単量体（ｘ２）を付加反応させて得られるエポキシ（メタ）アクリレートが挙げられる。

前記分子構造中に芳香環骨格及びエポキシ基を有する化合物（ｘ１）は、例えば、ヒドロキノン、２−メチルヒドロキノン、１，４−ベンゼンジメタノール、３，３’−ビフェニルジオール、４，４’−ビフェニルジオール、ビフェニル−３，３’−ジメタノール、ビフェニル−４，４’−ジメタノール、ビスフェノールＡ、ビスフェノールＢ、ビスフェノールＦ、ビスフェノールＳ、１，４−ナフタレンジオール、１，５−ナフタレンジオール、１，６−ナフタレンジオール、２，６−ナフタレンジオール、２，７−ナフタレンジオール、ナフタレン−２，６−ジメタノール、４，４’，４’’−メチリジントリスフェノール等の芳香族ポリオールのポリグリシジルエーテル；

前記芳香族ポリオールと、エチレンオキシド、プロピレンオキシド、テトラヒドロフラン、エチルグリシジルエーテル、プロピルグリシジルエーテル、ブチルグリシジルエーテル、フェニルグリシジルエーテル、アリルグリシジルエーテル等の種々の環状エーテル化合物との開環重合によって得られるポリエーテル変性芳香族ポリオールのポリグリシジルエーテル；

前記芳香族ポリオールと、ε−カプロラクトン等のラクトン化合物との重縮合によって得られるラクトン変性芳香族ポリオールのポリグリシジルエーテル：

マロン酸、コハク酸、グルタル酸、アジピン酸、ピメリン酸等の脂肪族ジカルボン酸と、前記芳香族ポリオールとを反応させて得られる芳香環含有ポリエステルポリオールのポリグリシジルエーテル；

フタル酸、無水フタル酸、テレフタル酸、イソフタル酸、オルソフタル酸等の芳香族ジカルボン酸及びその無水物と、エチレングリコール、ジエチレングリコール、プロピレングリコール、１，３−プロパンジオール、１，４−ブタンジオール、１，３−ブタンジオール、３−メチル−１，３−ブタンジオール、１，５−ペンタンジオール、ネオペンチルグリコール、１，６−ヘキサンジオール、トリメチロールエタン、トリメチロールプロパン、グリセリン等の脂肪族ポリオール等の脂肪族ポリオールとを反応させて得られる芳香環含有ポリエステルポリオールのポリグリシジルエーテル；

ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＢ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＳ型エポキシ樹脂等のビスフェノール型エポキシ樹脂；

フェノールノボラック型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂等のノボラック型エポキシ樹脂などが挙げられる。これらはそれぞれ単独で用いても良いし、２種類以上を併用しても良い。

これらの中でも、より高い屈折率を示し、かつ、高温高湿条件下であっても、プラスチックフィルム基材に対し高い付着性を示す硬化塗膜が得られる点で、前記ビスフェノール型のエポキシ樹脂又は前記ノボラック型エポキシ樹脂が好ましく、前記ビスフェノール型エポキシ樹脂がより好ましい。また、ビスフェノール型エポキシ樹脂の中でも、より高屈折率かつ高硬度の塗膜が得られることから、エポキシ当量が１６０〜１，０００ｇ／ｅｑの範囲であるものが好ましく、１６５〜６００ｇ／ｅｑの範囲であるものがより好ましい。

前記（メタ）アクリロイル基及びカルボキシル基を有する単量体（ｘ２）は、例えば、（メタ）アクリル酸；β−カルボキシエチル（メタ）アクリレート、２ーアクリロイルオキシエチルコハク酸、２−アクリロイルオキシエチルフタル酸、２ーアクリロイルオキシエチルヘキサヒドロフタル酸及びこれらのラクトン変性物等エステル結合を有する不飽和モノカルボン酸；マレイン酸；無水コハク酸や無水マレイン酸等の無水酸をペンタエリスリトールトリアクリレート等の水酸基含有多官能（メタ）アクリレートモノマーと反応させて得られるカルボキシル基含有多官能（メタ）アクリレート等が挙げられる。これらはそれぞれ単独で用いても良いし、二種類以上を併用しても良い。

これらの中でも、硬化塗膜における表面硬度がより高いラジカル重合性組成物が得られることから、（メタ）アクリル酸が好ましく、更に、硬化性に優れるラジカル重合性組成物が得られることから、アクリル酸がより好ましい。

前記エポキシ（メタ）アクリレート（Ｘ）を製造する方法は、例えば、分子構造中に芳香環骨格及びエポキシ基を有する化合物（ｘ１）と、（メタ）アクリロイル基及びカルボキシル基を有する単量体（ｘ２）とを、前記化合物（ｘ１）が有するエポキシ基と、前記（ｘ２）が有するカルボキシル基とのモル比［（Ｅｐ）／（ＣＯＯＨ）］が、１／１〜１．０５／１の範囲となる割合で用い、１００〜１２０℃の温度範囲で、必要に応じてトリフェニルホスフィン等のエステル化触媒をもちいて反応させる方法が挙げられる。

このようにして得られる前記エポキシ（メタ）アクリレート（Ｘ）は、より低粘度の組成物が得られ、プラスチックフィルム基材に対して長期に渡り高い付着性を発現し、かつ、高温高湿条件下であっても高い基材付着性を示す硬化塗膜が得られる点で、重量平均分子量（Ｍｗ）が３５０〜５，０００の範囲であることが好ましく、５００〜４，０００の範囲であることがより好ましい。

尚、本発明において、重量平均分子量（Ｍｗ）は下記条件のゲルパーミアーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）により測定される値である。

測定装置 ；東ソー株式会社製 ＨＬＣ−８２２０ＧＰＣ
カラム ；東ソー株式会社製 ＴＳＫ−ＧＵＡＲＤＣＯＬＵＭＮ ＳｕｐｅｒＨＺ−Ｌ
＋東ソー株式会社製 ＴＳＫ−ＧＥＬ ＳｕｐｅｒＨＺＭ−Ｍ×４
検出器 ；ＲＩ（示差屈折計）
データ処理；東ソー株式会社製 マルチステーションＧＰＣ−８０２０ｍｏｄｅｌＩＩ
測定条件 ；カラム温度 ４０℃
溶媒 テトラヒドロフラン
流速 ０．３５ｍｌ／分
標準 ；単分散ポリスチレン
試料 ；樹脂固形分換算で０．２質量％のテトラヒドロフラン溶液をマイクロフィルターでろ過したもの（１００μｌ）

本発明のラジカル重合性組成物は、無溶剤系でありながら塗工に適した低粘度を有し、更に、その硬化物が高屈折率を示し、プラスチックフィルム基材に対して長期に渡り高い付着性を発現し、かつ、高温高湿条件下であっても高い基材付着性を示す硬化塗膜が得られる点で、前記フェニルベンジル（メタ）アクリレート（Ａ）１００質量部に対し、前記エポキシ（メタ）アクリレート（Ｘ）を５０〜１００質量部の範囲で含有することが好ましく、５５〜８５質量部の範囲で含有することがより好ましい。

本発明のラジカル重合性組成物は、更にラジカル重合開始剤（Ｙ）を含有する。該ラジカル重合開始剤は、例えば、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、１−〔４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル〕−２−ヒドロキシ−２−メチル−１−プロパン−１−オン、チオキサントン及びチオキサントン誘導体、２，２′−ジメトキシ−１，２−ジフェニルエタン−１−オン、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキシド、ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）フェニルホスフィンオキシド、２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルホリノ−１−プロパノン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）−ブタン−１−オン等が挙げられる。

これらラジカル重合開始剤の市販品は、例えば、「イルガキュア−１８４」、「イルガキュア−１４９」、「イルガキュア−２６１」、「イルガキュア−３６９」、「イルガキュア−５００」、「イルガキュア−６５１」、「イルガキュア−７５４」、「イルガキュア−７８４」、「イルガキュア−８１９」、「イルガキュア−９０７」、「イルガキュア−１１１６」、「イルガキュア−１６６４」、「イルガキュア−１７００」、「イルガキュア−１８００」、「イルガキュア−１８５０」、「イルガキュア−２９５９」、「イルガキュア−４０４３」、「ダロキュア−１１７３」（チバスペシャルティーケミカルズ社製）、「ルシリンＴＰＯ」（ビーエーエスエフ社製）、「カヤキュア−ＤＥＴＸ」、「カヤキュア−ＭＢＰ」、「カヤキュア−ＤＭＢＩ」、「カヤキュア−ＥＰＡ」、「カヤキュア−ＯＡ」（日本化薬株式会社製）、「バイキュア−１０」、「バイキュア−５５」（ストウファ・ケミカル社製）、「トリゴナルＰ１」（アクゾ社製）、「サンドレイ１０００」（サンドズ社製）、「ディープ」（アプジョン社製）、「クオンタキュア−ＰＤＯ」、「クオンタキュア−ＩＴＸ」、「クオンタキュア−ＥＰＤ」（ワードブレンキンソップ社製）等が挙げられる。

前記ラジカル重合開始剤は、十分な硬化性を発現するために、本願発明のラジカル重合性組成物１００質量部に対し、０．０５〜２０質量部の範囲であることが好ましく、０．１〜１０質量部の範囲であることがより好ましい。

本発明のラジカル重合性組成物を光重合にて硬化させる場合には、前記ラジカル重合開始剤に併せて種々の光増感剤を添加しても良い。前記光増感剤は、例えば、アミン類、尿素類、含硫黄化合物、含燐化合物、含塩素化合物またはニトリル類もしくはその他の含窒素化合物等が挙げられ、これらは単独で使用しても二種類以上を併用しても良い。これら光増感剤を添加する場合の添加量は、本願発明のラジカル重合性組成物１００質量部に対し、０．０１〜１０質量部の範囲であることが好ましい。

本願発明のラジカル重合性組成物は、低粘度でありながら、硬化物における屈折率の高いものとなることから、前記フェニルベンジル（メタ）アクリレート（Ａ）、前記分子構造中に芳香環を有するエポキシ（メタ）アクリレート（Ｘ）及び前記ラジカル重合開始剤（Ｙ）に加え、更に、前記ビス［（メタ）アクリロイルメチル］ビフェニル（Ｂ）又は前記ビフェニル構造がメチレンを介して結節された分子構造を有するビフェニル化合物（Ｃ）を含有することが好ましく、前記ビス［（メタ）アクリロイルメチル］ビフェニル（Ｂ）と、前記ビフェニル構造がメチレンを介して結節された分子構造を有するビフェニル化合物（Ｃ）との両方を含有することがより好ましい。

本発明で用いる前記ビス［（メタ）アクリロイルメチル］ビフェニル（Ｂ）は、分子構造中に芳香環を有すため、これを含有することにより高屈折率の硬化塗膜が得られる。また、分子構造中に（メタ）アクリロイル基を２つ有するため、ラジカル重合による硬化性が高く、得られる塗膜の強靭性を向上させる効果に寄与する。

前記ビス［（メタ）アクリロイルメチル］ビフェニル（Ｂ）は、例えば、２，２’−ビス（アクリロイルメチル）−１，１’−ビフェニル、３，３’−ビス（アクリロイルメチル）−１，１’−ビフェニル、４，４’−ビス（アクリロイルメチル）−１，１’−ビフェニル、２，４’−ビス（アクリロイルメチル）−１，１’−ビフェニル、２，４−ビス（アクリロイルメチル）−１，１’−ビフェニル、２，６−ビス（アクリロイルメチル）−１，１’−ビフェニル等が挙げられる。これらはそれぞれ単独で用いても良いし、２種類以上を併用しても良い。これらの中でも、製造が簡便である点で、２，２’−ビス（アクリロイルメチル）−１，１’−ビフェニル、３，３’−ビス（アクリロイルメチル）−１，１’−ビフェニル、４，４’−ビス（アクリロイルメチル）−１，１’−ビフェニルが好ましく、４，４’−ビス（アクリロイルメチル）−１，１’−ビフェニルがより好ましい。

前記ビス［（メタ）アクリロイルメチル］ビフェニル（Ｂ）を製造する方法は、例えば、ビフェニルジメタノールと（メタ）アクリル酸とをエステル化させる方法や、ビス（クロロメチル）ビフェニルやビス（ブロモメチル）ビフェニルのようなビス（ハロゲン化メチル）ビフェニルと、（メタ）アクリル酸とを反応させる方法等が挙げられる。

本発明で用いるビフェニル構造がメチレンを介して結節された分子構造を有するビフェニル化合物（Ｃ）は分子構造中に芳香環を有すため、これを含有することにより高屈折率の硬化塗膜が得られる。

前記ビフェニル構造がメチレンを介して結節された分子構造を有するビフェニル化合物（Ｃ）は、本発明のラジカル重合性組成物が含有する他の成分に対する溶解性に優れることから、分子構造中に含まれるビフェニル構造単位の数が２〜５の範囲であることが好ましい。

前記ビフェニル構造がメチレンを介して結節された分子構造を有するビフェニル化合物を製造する方法は、例えば、ビフェニルとｐ−ホルムアルデヒドとを酸触媒下で反応させる方法が挙げられる。

本発明のラジカル重合性組成物が前記ビス［（メタ）アクリロイルメチル］ビフェニル（Ｂ）又は前記ビフェニル構造がメチレンを介して結節された分子構造を有するビフェニル化合物（Ｃ）を含有する場合、無溶剤系でありながら塗工に適した低粘度を有し、更に、その硬化物が高屈折率を示し、靭性にも優れ、裁断時に割れや欠けの生じ難いものとなる点で、前記フェニルベンジル（メタ）アクリレート（Ａ）と、前記ビス［（メタ）アクリロイルメチル］ビフェニル（Ｂ）又はビフェニル構造がメチレンを介して結節された分子構造を有するビフェニル化合物（Ｃ）との合計１００質量部に対し、前記エポキシ（メタ）アクリレート（Ｘ）を５０〜１００質量部の範囲となる割合で含有すことが好ましく、５５〜８５質量部の範囲となる割合で含有することがより好ましい。

本願発明では、粘度が低く、硬化物が高い屈折率を示すラジカル重合性組成物が得られることから、前記フェニルベンジル（メタ）アクリレート（Ａ）と、前記ビス［（メタ）アクリロイルメチル］ビフェニル（Ｂ）と、前記ビフェニル構造がメチレンを介して結節された分子構造を有するビフェニル化合物（Ｃ）との合計１００質量部中に、フェニルベンジル（メタ）アクリレート（Ａ）を３０〜９５質量部の範囲となる割合で含有することが好ましく、３５〜８５の範囲となる割合で含有することがより好ましい。

また、本願発明では、硬化物が高い屈折率と、高い靱性とを示すラジカル重合性組成物が得られることから、前記フェニルベンジル（メタ）アクリレート（Ａ）と、前記ビス［（メタ）アクリロイルメチル］ビフェニル（Ｂ）と、前記ビフェニル構造がメチレンを介して結節された分子構造を有するビフェニル化合物（Ｃ）との合計１００質量部中に、ビス［（メタ）アクリロイルメチル］ビフェニル（Ｂ）を５〜７０質量部の範囲で含有することが好ましく、１５〜６５質量部の範囲で含有することが好ましい。

また、本願発明では、硬化物が高い屈折率を示すラジカル重合性組成物が得られることから、前記フェニルベンジル（メタ）アクリレート（Ａ）と、前記ビス［（メタ）アクリロイルメチル］ビフェニル（Ｂ）と、前記ビフェニル構造がメチレンを介して結節された分子構造を有するビフェニル化合物（Ｃ）との合計１００質量部中に、ビフェニル化合物（Ｃ）を０．５〜３０質量部の範囲で含有することが好ましく、１〜２５質量部の範囲で含有することがより好ましい。

本発明のラジカル重合性組成物は、高屈折率、低粘度であり、更に靱性にも優れるものとなることから、ラジカル重合性組成物の不揮発分１００質量部中における前記フェニルベンジル（メタ）アクリレート（Ａ）、前記ビス［（メタ）アクリロイルメチル］ビフェニル（Ｂ）及び前記ビフェニル構造がメチレンを介して結節された分子構造を有するビフェニル化合物（Ｃ）の合計の質量が４０〜７５質量部の範囲であることが好ましく、４５〜７０質量部の範囲であることが特に好ましい。

本願発明のラジカル重合性組成物が、前記フェニルベンジル（メタ）アクリレート（Ａ）、前記ビス（アクリロイルメチル）ビフェニル（Ｂ）及び前記ビフェニル構造がメチレンを介して結節された分子構造を有するビフェニル化合物（Ｃ）を含有する場合、これらを一度の反応で同時に製造することもできる。このようなラジカル重合性組成物は、例えば、ビフェニル、ハロゲン化水素、及びホルムアルデヒド誘導体を反応させて得られる反応混合物を、更に、アクリル酸又はアクリル酸アルカリ金属塩と反応させる工程を経て得られるラジカル重合性組成物が挙げられる。

このようなラジカル重合性組成物は、反応の副生成物として、前記フェニルベンジル（メタ）アクリレート（Ａ）、前記ビス［（メタ）アクリロイルメチル］ビフェニル（Ｂ）及び前記ビフェニル構造がメチレンを介して結節された分子構造を有するビフェニル化合物（Ｃ）以外の化合物を含有することがあるが、この場合、より高硬度かつ低粘度のラジカル重合性該組成物となることから、組成物１００質量部中に占める前記フェニルベンジル（メタ）アクリレート（Ａ）、前記ビス［（メタ）アクリロイルメチル］ビフェニル（Ｂ）及び前記ビフェニル構造がメチレンを介して結節された分子構造を有するビフェニル化合物（Ｃ）の合計の質量が、５０〜９５質量部の範囲であることが好ましく、６５〜８０質量部の範囲であることがより好ましい。

前記フェニルベンジル（メタ）アクリレート（Ａ）、前記ビス（アクリロイルメチル）ビフェニル（Ｂ）及び前記ビフェニル構造がメチレンを介して結節された分子構造を有するビフェニル化合物（Ｃ）を含有するラジカル樹脂組成物を一度の反応で同時に製造する方法は、より具体的には、例えば、ビフェニル、ハロゲン化水素及びホルムアルデヒド誘導体を酸触媒の存在下で反応させ、前記ビフェニル構造がメチレンを介して結節された分子構造を有するビフェニル化合物（Ｃ）や、ビフェニル、ビフェニルのメチルクロロ化合物などの混合物を得、更に、該混合物が含むビフェニルのメチルクロロ化合物と、アクリル酸又はアクリル酸アルカリ金属塩とを反応させて前記フェニルベンジル（メタ）アクリレート（Ａ）及び前記ビス［（メタ）アクリロイルメチル］ビフェニル（Ｂ）とを含む混合物を得る方法などが挙げられる。

このような方法で前記フェニルベンジル（メタ）アクリレート（Ａ）、前記ビス（アクリロイルメチル）ビフェニル（Ｂ）及び前記ビフェニル構造がメチレンを介して結節された分子構造を有するビフェニル化合物（Ｃ）を製造する場合、前記フェニルベンジル（メタ）アクリレート（Ａ）、前記ビス［（メタ）アクリロイルメチル］ビフェニル（Ｂ）及び前記ビフェニル構造がメチレンを介して結節された分子構造を有するビフェニル化合物（Ｃ）の含有比率は、反応に用いるホルムアルデヒド誘導体の使用量や、酸触媒および有機酸の種類および使用量を変更することにより適宜調製することができる。具体的には、これらの含有比率を上記した好ましい範囲に調製し易い点で、ビフェニル１モルに対し、ホルムアルデヒドを１〜２５モルの範囲で用いることが好ましく、１．５〜５モルの範囲で用いることがより好ましい。ここで、前記ホルムアルデヒド誘導体は、ホルマリン水溶液、パラホルムアルデヒド及びトリオキサン等が挙げられる。また、前記ハロゲン化水素はビフェニルに対して過剰のモル比で使用することが好ましく、例えば、濃塩酸及び塩化水素ガス等が挙げられる。該反応に用いられる酸触媒は、例えば、硫酸、リン酸、ポリリン酸、トリクロロ酢酸、ジクロロ酢酸、モノクロロ酢酸、メタンスルホン酸、ｐ−トルエンスルホン酸、塩化亜鉛などのルイス酸等が使用できる。また、該反応ではジメトキシエタン、ジオキサン、シクロペンチルメチルエーテル、酢酸等の有機溶媒を使用してもよい。反応温度は６０〜１８０℃の範囲であることが好ましく、７０〜１２０℃の範囲であることがより好ましい。また、反応時間は３〜６０時間の範囲であることが好ましく、１５〜４５時間の範囲であることが寄り好ましい。

また、このような方法で前記フェニルベンジル（メタ）アクリレート（Ａ）、前記ビス（アクリロイルメチル）ビフェニル（Ｂ）及び前記ビフェニル構造がメチレンを介して結節された分子構造を有するビフェニル化合物（Ｃ）を製造する場合、組成物中に未反応原料のビフェニルが残る場合がある。このとき、本願発明のラジカル重合性組成物は、高屈折率かつ低粘度の組成物が得られることから、その不揮発分１００質量部中にビフェニルを０．５〜１５質量部の範囲で含有することが好ましく、１〜１０質量部の範囲で含有することがより好ましい。

このような方法で得られるラジカル重合性組成物が含有する各成分の比率を測定する方法は、例えば、キャピラリーガスクロマトグラフ、液体クロマトグラフ、ゲルパーミネーションクロマトグラフなどが挙げられ、具体的には、アジレント社製『ＨＰ−１』（液相：１００％ジメチルポリシロキサン）などのキャピラリーカラムを用いて、５０℃から３２５℃昇温分析する方法が挙げられる。また、該生成物中に含まれる前記ビフェニル化合物（Ｃ）の重合度を同定する方法は、例えば、シリカゲルカラムクロマトグラフィーで前記フェニルベンジル（メタ）アクリレート（Ａ）及び前記ビス（アクリロイルメチル）ビフェニル（Ｂ）を除いた成分を、ガスクロマトグラフ質量分析計（ＧＣ−ＭＳ）や高速液体クロマトグラフ質量分析計（ＬＣ―ＭＳ）を用いて分析する方法が挙げられる。

本発明のラジカル重合性組成物は、前記フェニルベンジル（メタ）アクリレート（Ａ）、前記分子構造中に芳香環を有するエポキシ（メタ）アクリレート（Ｘ）及び前記ラジカル重合開始剤（Ｙ）に加え、更に、前記フェニルベンジル（メタ）アクリレート（Ａ）及び前記ビス［（メタ）アクリロイルメチル］ビフェニル（Ｂ）以外の（メタ）アクリレート化合物（Ｚ）を併用しても良い。

前記（メタ）アクリレート化合物（Ｚ）は、例えば、ｎ−ブチル（メタ）アクリレート、イソブチル（メタ）アクリレート、ｔｅｒｔ−ブチル（メタ）アクリレート、ｎ−ペンチル（メタ）アクリレート、ｎ−ヘキシル（メタ）アクリレート、ｎ−オクチル（メタ）アクリレート、イソオクチル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、フェノキシエチル（メタ）アクリレート、フェノキシジエチレングリコール（メタ）アクリレート、グリシジル（メタ）アクリレート、モルホリン（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ジプロピレングリコールモノ（メタ）アクリレート、２−メトキシエチル（メタ）アクリレート、メトキシジエチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシトリエチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、２−ブトキシエチル（メタ）アクリレート、ブトキシトリエチレングリコール（メタ）アクリレート、２−エトキシエチル（メタ）アクリレート、２−（２−エトキシエトキシ）エチル（メタ）アクリレート、エトキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、４−ノニルフェノキシエチレングリコール（メタ）アクリレート、テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、カプロラクトン変性テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシ−３−フェノキシプロピル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、シクロヘキシルメチル（メタ）アクリレート、シクロヘキシルエチル（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニロキシエチル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニロキシエチル（メタ）アクリレート、フェニルフェノキシエチルアクリレート等の単官能（メタ）アクリレート化合物；

エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、プロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ブチレングリコールジ（メタ）アクリレート、テトラブチレングリコールジ（メタ）アクリレート、１，４−ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、１，９−ノナンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡのエチレンオキサイド付加物のジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡのプロピレンオキサイド付加物のジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＦのエチレンオキサイド付加物のジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＦのプロピレンオキサイド付加物のジ（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニルジ（メタ）アクリレート、グリセロールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールヒドロキシピバリン酸エステルジ（メタ）アクリレート、カプロラクトン変性ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、テトラブロモビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート、ヒドロピバルアルデヒド変性トリメチロールプロパンジ（メタ）アクリレート、１，４−シクロヘキサンジメタノールジ（メタ）アクリレート等のジ（メタ）アクリレート化合物；

トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンのエチレンオキサイド付加物のトリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンのプロピレンオキサイド付加物のトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、グリセロールトリ（メタ）アクリレート、アルキル変性したジペンタエリスリトールのトリ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンのエチレンオキサイド付加物のテトラ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンのプロピレンオキサイド付加物のテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールのペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールのヘキサ（メタ）アクリレート等の３官能以上の（メタ）アクリレート化合物等が挙げられる。これらはそれぞれ単独で用いても良いし、２種以上を併用しても良い。

中でも、より屈折率の高いラジカル重合性組成物が得られることから、ベンジル（メタ）アクリレート、フェノキシエチル（メタ）アクリレート、フェニルフェノキシエチルアクリレート、ビスフェノールＡのエチレンオキサイド付加物のジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡのプロピレンオキサイド付加物のジ（メタ）アクリレートが好ましい。

本願発明のラジカル重合性組成物が前記（メタ）アクリレート化合物（Ｚ）を含有する場合、硬化物における屈折率が高く、かつ、低粘度の組成物が得られることから、ラジカル重合性組成物の不揮発分１００質量部中における前記フェニルベンジル（メタ）アクリレート（Ａ）、前記ビス［（メタ）アクリロイルメチル］ビフェニル（Ｂ）及びビフェニル構造がメチレンを介して結節された分子構造を有するビフェニル化合物（Ｃ）の合計の質量が４０〜７５質量部の範囲となるように用いることが好ましく、４５〜７０質量部の範囲となるように用いることがより好ましい。

本発明のラジカル重合性組成物は、必要に応じてその他各種の添加剤を含有しても良い。各種の添加剤としては、紫外線吸収剤、酸化防止剤、シリコーン系添加剤、フッ素系添加剤、レオロジーコントロール剤、脱泡剤、帯電防止剤、防曇剤等が挙げられる。これら添加剤を添加する場合の添加量は、添加剤の効果を十分発揮し、また紫外線硬化を阻害しない範囲で、本発明のラジカル重合性組成物１００質量部に対し、０．０１〜４０質量部の範囲であることが好ましい。

本発明のラジカル重合性組成物の粘度は、高速塗工条件下であっても該活性エネルギー線硬化型樹脂組成物が金型の細部にまで欠点なく行渡るものとなる点で、６，０００ｍＰａ・ｓ以下であることが好ましい。

本発明のラジカル重合性組成物の硬化は、活性エネルギー線を照射する方法と、加熱する方法のどちらであってもよい。

活性エネルギー線の照射によって硬化させる場合、該活性エネルギー線は、例えば、電子線、紫外線、可視光線等が挙げられる。活性エネルギー線として電子線を用いる場合には、コックロフトワルトン型加速器、バンデグラフ型電子加速器、共振変圧器型加速器、絶縁コア変圧器型、ダイナミトロン型、リニアフィラメント型および高周波型などの電子線発生装置を用いて本発明の硬化性組成物を硬化させることができる。また、活性エネルギー線として紫外線を用いる場合は、超高圧水銀灯、高圧水銀灯、低圧水銀灯等の水銀灯、キセノンランプ、カーボンアーク、メタルハイトランプ等により照射し、硬化させることができる。この際の紫外線の露光量は０．１〜１０００ｍＪ／ｃｍ^２の範囲であることが好ましい。

一方、加熱によって硬化させる場合、６０〜２５０℃の温度領域に加熱することによって硬化させることができる。

本発明の本発明のラジカル重合性組成物の硬化物は、高屈折率を示し、プラスチックフィルム基材への付着性にも優れるものである。このような特徴を生かし、例えば、眼鏡レンズ、デジタルカメラ用レンズ、フレネルレンズ、及びプリズムレンズ等のプラスチックレンズ、光学用オーバーコート剤、ハードコート剤、反射防止膜、光ファイバー、光導波路、ホログラム、プリズムレンズ、ＬＥＤ封止材料、太陽光電池用コーティング材等の各種光学材料に好適に使用することができ、これらのなかでも特に、液晶基板用プリズムレンズ等のプラスチックレンズ用に適している。

前記液晶基板用プリズムレンズとは、シート状成形体の片面に微細なプリズム形状部を複数有するものであって、通常、液晶表示素子の背面（光源側）に、該素子側にプリズム面が向くように配設され、更に、その背面に導光シートが配設されるように用いられるシート状レンズ、或いは前記プリズムレンズがこの導光シートの機能を兼ねているシート状レンズである。

ここで該プリズムレンズのプリズム部の形状は、プリズム頂角の角度θが７０〜１１０°の範囲であることが、集光性に優れ輝度が向上する点から好ましく、特に７５〜１００°の範囲、中でも８０〜９５°の範囲であることが特に好ましい。

また、プリズムのピッチは、１００μｍ以下であることが好ましく、特に７０μｍ以下の範囲であることが、画面のモアレ模様の発生防止や、画面の精細度がより向上する点から好ましい。また、プリズムの凹凸の高さは、プリズム頂角の角度θとプリズムのピッチの値によって決定されるが、好ましくは５０μｍ以下の範囲であることが好ましい。さらに、プリズムレンズのシート厚さは、強度面からは厚い方が好ましいが、光学的には光の吸収を抑えるため薄い方が好ましく、これらのバランスの点から５０μｍ〜１０００μｍの範囲であることが好ましい。

本発明のラジカル重合性組成物を用いて前記プリズムレンズを製造する方法は、例えば、該組成物をプリズムパターンが形成された金型あるいは樹脂型等の成形型に塗布し、組成物の表面を平滑化した後に透明基材を重ね合わせ、該透明基材側から活性エネルギー線を照射し、硬化させる方法が挙げられる。

ここで用いる透明基材は、アクリル樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリエステル樹脂、ポリスチレン樹脂、フッ素樹脂、ポリイミド樹脂からなるプラスチック基材や、ガラス等が挙げられる。本願発明のラジカル重合性組成物を用いた場合には、これらいずれの基材を用いた場合にも、高い付着性を発現することができる。

本発明のラジカル重合性組成物を前期プリズムレンズ用途等の光学材料に用いる場合には、その硬化物の屈折率は１．５５００以上であることが好ましく、１．５７００以上であることがより好ましい。

以下に実施例及び比較例を挙げて、本発明をより具体的に説明する。

尚、本発明では、重量平均分子量（Ｍｗ）を下記条件のゲルパーミアーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）により測定した。

測定装置 ；東ソー株式会社製 ＨＬＣ−８２２０ＧＰＣ
カラム ；東ソー株式会社製 ＴＳＫ−ＧＵＡＲＤＣＯＬＵＭＮ ＳｕｐｅｒＨＺ−Ｌ
＋東ソー株式会社製 ＴＳＫ−ＧＥＬ ＳｕｐｅｒＨＺＭ−Ｍ×４
検出器 ；ＲＩ（示差屈折計）
データ処理；東ソー株式会社製 マルチステーションＧＰＣ−８０２０ｍｏｄｅｌＩＩ
測定条件 ；カラム温度 ４０℃
溶媒 テトラヒドロフラン
流速 ０．３５ｍｌ／分
標準 ；単分散ポリスチレン
試料 ；樹脂固形分換算で０．２質量％のテトラヒドロフラン溶液をマイクロフィルターでろ過したもの（１００μｌ）

本発明で粘度は、Ｅ型回転粘度計（東機産業株式会社製「ＲＥ８０Ｕ」）を使用し、２５℃条件下で測定した。

本発明で屈折率は、アッべ屈折率計（アタゴ社製「ＮＡＲ−３Ｔ」）を用いて測定した。温度条件は通常２５℃とし、２５℃で固体のものに関しては、適当な温度を設定して測定した。

本発明では、水素原子のＮＭＲを日本電子株式会社製のＮＭＲ「ＧＳＸ２７０」を用い、３００ＭＨｚ、重クロロホルム溶媒の条件下で測定した。

本発明では、ガスクロマトグラフによるマススペクトルを、ガスクロマトグラフ質量分析計（ＧＣ−ＭＳ）（島津社製「ＧＣ−２０１０」、カラム：島津社製「Ｚｅｂｒｏｎ ＺＢ−５」）を用い、Ｈｅキャリアガス、流量１．４７ｍＬ／ｍｉｎ、カラムオーブン５０度、気化室３００度、昇温５０度から３００度（２５度／ｍｉｎ）の条件下で測定した。

本発明では、高速液体クロマトグラフ（ＬＣ）分析を、高速液体クロマトグラフ（Ｗａｔｅｒｓ社製「２６９５」、カラム：Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｅｖａｌｕａｔｉｏｎ ａｎｄ Ｒｅｓｅａｒｃｈ Ｉｎｓｔｉｔｕｔｅ製「Ｌ−Ｃｏｌｕｍｎ２ ＯＤＳ」）を用い、検出ＵＶ２４０ｎｍ、温度４０度、流速１ｍＬ／ｍｉｎ、アセトニトリル／水＝７０／３０〜１００／０の条件下で行った。

本発明では、ガスクロマトグラム（ＧＣ）分析を、ガスクロマトグラフ（Ａｇｉｌｅｎｔ社製「６８５０Ｓｅｒｉｅｓ」、カラム：Ａｇｉｌｅｎｔ社製「Ａｇｉｌｅｎｔ ＤＢ−１」）を用い、Ｈｅキャリアガス、流速１ｍＬ／ｍｉｎ、注入温度３００度、検出温度３００度、昇温５０度から３２５度（２５度／ｍｉｎ）の条件下で行った。

製造例１
オルトフェニルベンジルアクリレートの合成
攪拌機、温度計、冷却管、塩化カルシウム管を具備した２００ｍＬ３つ口フラスコに、オルトフェニルベンジルアルコール２０．０ｇ、脱水トルエン１００．０ｇ、トリエチルアミン１３．２ｇ、メトキノン７．８ｍｇを仕込み、氷浴で１０℃以下に冷却した。ここに、アクリル酸クロライド１１．８ｇを３０分間かけて滴下し、室温に戻し２時間反応を行った。反応終了後、反応溶液を水に注ぎ、５％ＮａＯＨ水溶液、食塩水で洗浄後、溶媒留去することにより、橙色液体を得た。これをシリカゲルカラムで精製し、２０．４４ｇのオルトフェニルベンジルアクリレートを得た。得られたオルトフェニルベンジルアクリレートは常温で無色透明の液体であり、２５℃における屈折率は１．５７７６、粘度は２７ｍＰａ・ｓであった。^１Ｈ−ＮＭＲでの測定結果を以下に示す。
^１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３，３００ＭＨｚ）： ７．５３−７．４９ （ｍ， １Ｈ ｏｆ Ｐｈ）， ７．４８−７．２８ （ｍ， ８Ｈ ｏｆ Ｐｈ）， ６．４１−６．３４ （ｑ， １Ｈ ｏｆ ＣＨ＝ＣＨ）， ６．３４−６．０７ （ｑ， １Ｈ ｏｆ ＣＨ＝ＣＨ）， ５．８２−５．７７ （ｑ， １Ｈ ｏｆ ＣＨ＝ＣＨ）， ５．１３ （ｓ， ２Ｈ ｏｆ ＣＨ_２−Ｐｈ）．

製造例２
メタフェニルベンジルアクリレートの合成
攪拌機、温度計、冷却管を具備した２００ｍＬ４つ口フラスコに、３−（ブロモメチル）ビフェニル２０．０ｇ、脱水ジメチルホルムアミド３９．３ｇ、無水炭酸カリウム１３．４ｇ、メトキノン６．２ｍｇを仕込み、室温でアクリル酸を添加した。炭酸ガスの発泡が収まった後、反応温度９０℃に加熱し２時間反応を行った。室温に冷却後水１２０ｍＬで希釈し、トルエン１００ｇで抽出を行い、水洗を行った。得られた粗反応物をシリカゲルカラムで精製し、１６．１ｇのメタフェニルベンジルアクリレートを得た。得られたメタフェニルベンジルアクリレートは常温で無色透明の液体であり、２５℃における屈折率は１．５８８８、粘度は２４ｍＰａ・ｓであった。^１Ｈ−ＮＭＲでの測定結果を以下に示す。
^１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３，３００ＭＨｚ）： ７．６０−７．３２ （ｍ， ９Ｈ ｏｆ Ｐｈ）， ６．５０−６．４２ （ｑ， １Ｈ ｏｆ ＣＨ＝ＣＨ）， ６．２２−６．１２ （ｑ， １Ｈ ｏｆ ＣＨ＝ＣＨ）， ５．８７−５．８２ （ｑ， １Ｈ ｏｆ ＣＨ＝ＣＨ）， ５．２６ （ｓ， ２Ｈ ｏｆ ＣＨ_２−Ｐｈ）．

製造例３
パラフェニルベンジルアクリレートの合成
合成例１のオルトフェニルベンジルアルコールをパラフェニルベンジルアルコールに代え、同様の手順で、２２．４ｇのパラフェニルベンジルアクリレートを得た。得られたパラフェニルベンジルアクリレートは常温で固形であり、融点は３２℃、４０℃における屈折率は１．５９２０であった。^１Ｈ−ＮＭＲでの測定結果を以下に示す。
^１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３，３００ＭＨｚ）： ７．６２−７．３２ （ｍ， ９Ｈ ｏｆ Ｐｈ）， ６．５０−６．４３ （ｑ， １Ｈ ｏｆ ＣＨ＝ＣＨ）， ６．２３−６．１２ （ｑ， １Ｈ ｏｆ ＣＨ＝ＣＨ）， ５．８８−５．８４ （ｑ， １Ｈ ｏｆ ＣＨ＝ＣＨ）， ５．２７ （ｓ， ２Ｈ ｏｆ ＣＨ_２−Ｐｈ）．

製造例４
４，４’−ビスアクリロイルメチルビフェニルの合成
攪拌機、温度計、冷却管を具備した２００ｍＬ４つ口フラスコに、４，４’−クロロメチルビフェニル１８．０ｇ、脱水ジメチルホルムアミド１００ｍＬ、無水炭酸カリウム２５．０ｇ、メトキノン１００ｍｇを仕込み、空気をバフリングしながら反応温度１２０℃に上昇し、１５分間反応を行った。５０℃冷却後、蒸留水３００ｍＬに反応液を注ぎ、析出した結晶を濾過、乾燥した。これを、８０ｍＬエタノールから再結晶し、１４．５ｇの４，４’−ビスアクリロイルメチルビフェニルを得た。得られた４，４’−ビスアクリロイルメチルビフェニルは融点６１〜６２℃の結晶であり、７０℃における屈折率は１．５６４８であった。^１Ｈ−ＮＭＲ及びマススペクトルでの測定結果を以下に示す。
^１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３，３００ＭＨｚ）： ７．６７−７．４６ （ｍ， ４Ｈ ｏｆ Ｐｈ）， ７．４４−７．２８ （ｍ， ４Ｈ ｏｆ Ｐｈ） ， ６．５０−６．４３ （ｑ， ２Ｈ ｏｆ ＣＨ＝ＣＨ）， ６．２３−６．１２ （ｑ， ２Ｈ ｏｆ ＣＨ＝ＣＨ）， ５．８８−５．８４ （ｑ， ２Ｈ ｏｆ ＣＨ＝ＣＨ）， ５．２７ （ｓ， ４Ｈ ｏｆ ＣＨ_２−Ｐｈ）．
ＧＣ-ＭＳ：［Ｍ＋Ｈ］^＋＝３２３

製造例５
ビフェニル化合物の合成
攪拌機、冷却管、温度計を具備した５Ｌ４つ口フラスコに、ジフェニル７０９ｇ、パラホルムアルデヒド２７６ｇ、酢酸１３８１ｇ、濃塩酸９５８ｇ、三塩化鉄１１７ｇを仕込み、８０℃まで昇温した。仕込み溶液が８０℃であることを確認後、１５時間反応を行った。反応中、固体が析出した。反応終了後、６０℃で反応液をろ過し、析出した固体を濾集した。この濾集した固体をメタノール５００ｍＬで洗浄、乾燥し、固体として９０ｇのビフェニル化合物を得た。液体クロマトグラムを測定したところ、分子構造中に含まれるビフェニル構造単位の数がそれぞれ２，３及び４であるビフェニル化合物が含まれていることを確認した。含有比率は以下の通りである。ビフェニル化合物（構造単位の数が２のもの）：９９．２４％（保持時間：１５．７３−１７．０８ｍｉｎ）、ビフェニル化合物（構造単位が３のもの）：０．５４％（保持時間：１９．９３−２０．５５ｍｉｎ）、ビフェニル化合物（構造単位が４のもの）：０．２２％（保持時間：２１．９９−２２．２３ｍｉｎ）

製造例６
フェニルベンジルメタアクリレート（Ａ）、ビス（アクリロイルメチル）ビフェニル（Ｂ）、ビフェニル及びビフェニル構造がメチレンを介して結節された分子構造を有するビフェニル化合物（Ｃ）の混合物（１）の製造
・クロロ中間体の合成
攪拌機、冷却管、温度計、塩化水素ガス導入装置を具備した５Ｌ４つ口フラスコに、ジフェニル７０９ｇ、パラホルムアルデヒド２７６ｇ、酢酸１３８１ｇ、濃塩酸９５８ｇを仕込み、８０℃まで昇温した。仕込み溶液が８０℃であることを確認後、木下式ガラスボールフィルターを使って塩化水素ガスを２０ｇ／ｈｒ速度で仕込み溶液に導入した。仕込み溶液への塩化水素ガスの溶解が飽和であることを確認後、リン酸１０６１ｇを１時間かけて滴下し、更に、３０時間反応を行った。反応終了後、直ちに反応溶液から下層を取り除き、有機層にトルエン２．３ｋｇを添加し、有機層を４００ｇの１２．５％水酸化ナトリウム水溶液、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、蒸留水で洗浄した。有機層を留去後、クロロ中間体を白色固体として９０８ｇ得た。
・アクリロイル化
上記で得られた中間体９０８ｇを反応溶媒であるＤＭＦ１６０３ｇに溶解し、炭酸カリウム３７２ｇおよびメトキノンを全量に対して３００ｐｐｍになるように添加した。中間体溶液を４０℃に昇温後、アクリル酸３２３ｇを１．５時間で中間体溶液に滴下した。滴下終了後、２時間かけて８０℃まで昇温し、８０℃にて３時間加熱撹拌した。得られた溶液に水３．４ｋｇおよびトルエン１．８ｋｇを添加し抽出を行った後、有機層を水層が中性になるまで洗浄した。有機層を濃縮して液状のサンプルを９９５ｇ得た。得られたサンプルを０℃条件下で２日間保管したところ、結晶の析出は観測されなかった。
・サンプルの分析
得られたサンプルの２５℃における液屈折率は１．５９２であり、粘度は３０ｍＰａ・ｓであった。サンプル１００質量部中に含まれる各成分の含有量を、ガスクロマトグラムを用いて測定したところ、フェニルベンジルアクリレート（Ａ）が６５．２質量部、ビス（アクリロイルメチル）ビフェニル（Ｂ）が１８．６質量部、ビフェニル構造がメチレンを介して結節された分子構造を有するビフェニル化合物（Ｃ）が２．３質量部、ビフェニルが５．８質量部含まれており、残りの８．１質量部にはビフェニル以外の未反応原料等が含まれていた。また、フェニルベンジルアクリレート（Ａ）の異性体の質量比（モル比も同等）［〔オルトフェニルベンジルアクリレート〕／〔メタフェニルベンジルアクリレート〕／〔パラフェニルベンジルアクリレート〕］は２０／１／７９であった。

製造例７
エポキシ（メタ）アクリレート（Ｘ−１）の製造
撹拌機、ガス導入管、コンデンサー、及び温度計を備えた１リットルのフラスコに、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂（ＤＩＣ株式会社製「エピクロン１０５５」、エポキシ当量４７８ｇ／ｅｑ）４８７．６質量部、ターシャリブチルヒドロキシトルエン１．６８質量部、メトキシハイドロキノン０．２８質量部を加えた後、アクリル酸７２．１質量部、トリフェニルホスフィン２．８質量部を添加し、空気を吹き込みながら１１０℃で１２時間エステル化反応を行ない、目的とするエポキシ（メタ）アクリレート（Ｘ−１）を得た。該エポキシアクリレート（Ｘ−１）の酸価は０．１ｍｇＫＯＨ／ｇ、エポキシ当量は１３，５００ｇ／ｅｑ、屈折率は１．５８５、重量平均分子量（Ｍｗ）は２，５００であった。

製造例８
エポキシ（メタ）アクリレート（Ｘ−２）の製造
撹拌機、ガス導入管、コンデンサー、及び温度計を備えた１リットルのフラスコに、オルソクレゾールノボラック型エポキシ樹脂（ＤＩＣ株式会社製「エピクロンＮ−６９５」エポキシ当量２１６ｇ／ｅｑ）２２０．３質量部、ターシャリブチルヒドロキシトルエン０．８８質量部、メトキシハイドロキノン０．１５質量部を加えた後、アクリル酸７２．１質量部、トリフェニルフォスフィン１．５質量部を添加し、空気を吹き込みながら１１０℃で１２時間エステル化反応を行ない、目的とするエポキシアクリレート（Ｘ−２）を得た。該エポキシ（メタ）アクリレート（Ｘ−２）の酸価は０．１ｍｇＫＯＨ／ｇ、エポキシ当量は１１，２００ｇ／ｅｑ、屈折率は１．５７４、重量平均分子量（Ｍｗ）は３，８００であった。

製造例９
エポキシ（メタ）アクリレート（Ｘ−３）の製造
撹拌機、ガス導入管、コンデンサー、及び温度計を備えた１リットルのフラスコに、ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂（ＤＩＣ株式会社製「エピクロン８３０」エポキシ当量１７２ｇ／ｅｑ）１７５．４質量部、ターシャリブチルヒドロキシトルエン０．７４質量部、メトキシハイドロキノン０．１２質量部を加えた後、アクリル酸７２．１質量部、トリフェニルフォスフィン１．２質量部を添加し、空気を吹き込みながら１１０℃で１２時間エステル化反応を行ない、目的とするエポキシ（メタ）アクリレート（Ｘ−３）を得た。該エポキシ（メタ）アクリレート（Ｘ−３）の酸価は０．１ｍｇＫＯＨ／ｇ、エポキシ当量は１２，８００ｇ／ｅｑ、屈折率が１．５６２、重量平均分子量（Ｍｗ）が６８０であった。

実施例１
・ラジカル重合性組成物の配合
製造例６で得た混合物１を１００質量部、製造例７で得たエポキシ（メタ）アクリレートを６０質量部及び光重合開始剤（チバスペシャリティケミカルズ製「イルガキュア１８４」）を６質量部配合し、ラジカル重合性組成物を得た。

・硬化フィルムの製造
上記配合により得たラジカル重合性組成物をクロムメッキ処理金属板上に塗布し、該組成物層の上から表面未処理の透明ＰＥＴフィルムを重ね、該組成物層が厚さ５０μｍとなるように調整した。高圧水銀灯により、５００ｍＪ／ｃｍ^２の紫外線を透明基材側から照射して硬化させ、積層体を得た。該積層体の金属板及び透明基材からラジカル重合性組成物の硬化層を剥離し、硬化フィルムを得た。

・基材付き硬化フィルム
上記基材を表面易接着処理済みの透明ＰＥＴフィルムに変えた以外は、硬化フィルムの製造と同様の手順で積層体を得、該積層体から金属板のみを剥離し、基材付き硬化フィルムを得た。

・評価
上記で得たラジカル重合性組成物、硬化フィルム及び基材付き硬化フィルムについて、以下に記載する種々の評価を行った。

評価１：屈折率の測定
上記実施例１で作成した硬化フィルムを、１−ブロモナフタレンをもちいてアッベ屈折率計（アタゴ社製「ＮＡＲ−３Ｔ」）のプリズムに密着させ、２５℃条件下での屈折率を測定した。

評価２：初期付着性
上記実施例１で作成した基材付き硬化フィルムの基材と硬化物層との付着性を、ＪＩＳ Ｋ５４００に準拠して測定した。升目が全て残存する時を◎、（９５〜９９）／１００の升目が残存する時を○、（８０〜９４）／１００の升目が残存する時を△とし、それ以下の時を×とした。

評価３：沸水付着性（基材付着性評価の促進試験）
上記実施例１で作成した基材付き硬化フィルムを９５℃以上の沸水に４時間浸漬させ、室温に取り出して２時間後放置した。沸水処理後の基材付き硬化フィルムについて、基材と硬化物層との付着性を、ＪＩＳ Ｋ５４００に準拠して測定した。升目が全て残存する時を◎、（９５〜９９）／１００の升目が残存する時を○、（８０〜９４）／１００の升目が残存する時を△とし、それ以下の時を×とした。

実施例２〜６
表１に示す配合とした以外は実施例１と同様にしてラジカル重合性組成物、硬化フィルム及び基材付き硬化フィルムを得、各種評価を行った。評価結果を表１に示す。

比較例１及び２
表２に示す配合とした以外は実施例１と同様にしてラジカル重合性組成物、硬化フィルム及び基材付き硬化フィルムを得、各種評価を行った。評価結果を表２に示す。尚、比較例２で得られた樹脂組成物は、非常に高粘度であり、粘度及び液屈折率の測定できなかった。また、塗工不能であったため、各種塗膜の評価も不可であった。

表２の脚注
フルオレン（９，９−ビス［４−（２−アクリロイルオキシエトキシ）フェニル］フルオレン）：新中村工業株式会社製「Ａ−ＢＰＥＦ」
ＯＰＰＥＡ（オルトフェニルフェノキシエチルアクリレート）：ＭＩＷＯＮ社製「ミラマーＭ１１４２」

Claims (9)

1. フェニルベンジル（メタ）アクリレート（Ａ）と、分子構造中に芳香環を有するエポキシ（メタ）アクリレート（Ｘ）と、ラジカル重合開始剤（Ｙ）と、ビフェニル構造がメチレンを介して結節された分子構造を有するビフェニル化合物（Ｃ）とを必須の成分として含有することを特徴とするラジカル重合性組成物。
2. 更に、ビス［（メタ）アクリロイルメチル］ビフェニル（Ｂ）を必須の成分として含有する請求項１記載のラジカル重合性組成物。
3. 前記フェニルベンジル（メタ）アクリレート（Ａ）として、オルトフェニルベンジル（メタ）アクリレートと、パラフェニルベンジル（メタ）アクリレートとを、これらのモル比［〔オルトフェニルベンジル（メタ）アクリレート〕／〔パラフェニルベンジル（メタ）アクリレート〕］が５５／４５〜１０／９０の範囲となるように含有する請求項１記載のラジカル重合性組成物。
4. 分子構造中に芳香環を有するエポキシ（メタ）アクリレート（Ｘ）が、分子構造中にビス（フェニレン）アルカン骨格を有するエポキシ（メタ）アクリレートである請求項１記載のラジカル重合性組成物。
5. 前記分子構造中に芳香環を有するエポキシ（メタ）アクリレート（Ｘ）の重量平均分子量（Ｍｗ）が３５０〜５，０００の範囲である請求項１記載のラジカル重合性組成物。
6. 前記フェニルベンジル（メタ）アクリレート（Ａ）、前記ビス［（メタ）アクリロイルメチル］ビフェニル（Ｂ）及び前記ビフェニル構造がメチレンを介して結節された分子構造を有するビフェニル化合物（Ｃ）の合計１００質量部に対して、前記フェニルベンジル（メタ）アクリレート（Ａ）を３０〜９５質量部の範囲となる割合で含有する請求項１又は２記載のラジカル重合性組成物。
7. 前記フェニルベンジル（メタ）アクリレート（Ａ）、前記ビス［（メタ）アクリロイルメチル］ビフェニル（Ｂ）及び前記ビフェニル構造がメチレンを介して結節された分子構造を有するビフェニル化合物（Ｃ）の合計１００質量部に対し、前記分子構造中に芳香環を有するエポキシ（メタ）アクリレート（Ｘ）を５０〜１００質量部の範囲となる割合で含有する請求項１又は２記載のラジカル重合性組成物。
8. 請求項１〜７のいずれか一つに記載のラジカル重合性組成物を硬化させてなる硬化物。
9. 請求項１〜７のいずれか一つに記載のラジカル重合性組成物を硬化させてなるプラスチックレンズ。

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