JP5107700B2 - 所望の凝集体粒子直径を有する凝集体金属酸化物粒子分散体の調製方法 - Google Patents
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Description
L(wt%)=[(%ΔDcirc ave)×(0.1ln(dp)(nm)
+0.2)]÷0.3
によって決定される工程、及び(d)高せん断ミキサーを用いて凝集体金属酸化物粒子の分散体を粉砕し、それにより凝集体金属酸化物粒子の凝集体粒子直径を低減して、ほぼ予め選択された平均凝集体粒子直径を有する凝集体金属酸化物粒子の分散体を提供する工程を含む方法を提供する。
100≧ηω2R2/2X2≧20kW/m3
を満たす半径(R)、特性ブレード長(X)及び角速度(ω)を有するブレードを含み、それによって凝集体金属酸化物粒子の平均凝集体粒子直径を低減する方法を提供する。
(1) Dcirc ave(nm)<52+2dp(nm)、及び
(2) σg(Dcirc)<1.44+0.011dp(nm)
の少なくとも一方を満たす分散体を提供する。
(1) Dcirc ave(nm)<35+1.8dp(nm)、及び
(2) σg(Dcirc)<1.39+0.011dp(nm)
の少なくとも一方を満たす分散体を提供する。
(I):L(wt%)=[(%ΔDcirc ave)×(0.1ln(dp)(nm)
+0.2)]÷0.3
式中、Lは分散体の固体濃度であり、%ΔDcirc aveは平均凝集体粒子直径の低下百分率であり、dpは凝集体金属酸化物粒子の平均一次粒子直径である。この点について、本発明は、標準が上の式(I)によって提供される凝集体金属酸化物粒子、特には凝集体シリカ粒子の分散体を調製するための先の方法を提供する。本発明はまた、予め選択された平均凝集体粒子直径を有する凝集体金属酸化物粒子の分散体を調製する方法であって、(a)平均一次粒子直径(dp)と平均凝集体粒子直径(Dcirc ave)を有する溶融一次粒子を含む凝集体金属酸化物粒子、特には凝集体シリカ粒子を提供する工程、(b)約10%〜約60%の平均凝集体粒子直径における所望の低下百分率(%ΔDcirc ave)を予め選択する工程、(c)凝集体金属酸化物粒子を水と組み合わせ、凝集体金属酸化物粒子の分散体を提供する工程であって、分散体中の凝集体金属酸化物粒子の量が0.8L〜1.2Lであり、Lが上の式(I)によって決定される工程、及び(d)高せん断ミキサーを用いて凝集体金属酸化物粒子の分散体を粉砕し、それにより凝集体金属酸化物粒子の凝集体粒子直径を低減して、ほぼ予め選択された平均凝集体粒子直径を有する凝集体金属酸化物粒子の分散体を提供する工程を含む方法も意図している。
80[0.1ln(dp)(nm)+0.2]<L(wt%)<100[0.1ln(dp)(nm)+0.2]
を満たすか又は以下の式
80[0.107ln(dp)(nm)+0.19]<L(wt%)<100[0.107ln(dp)(nm)+0.19]
を満たす。
(II):(NR1R2R3R4)OH
を有し、式中、R1、R2、R3及びR4のそれぞれは、C1〜C10アルキル、C1〜C10アルコキシ、C2〜C10アルケニル及びアリール基からなる群より独立して選択され、それらのいずれも、非置換であることができるか又はC1〜C10アルキル、ヒドロキシ、C1〜C10アルコキシ又はアリール基で置換することができる。好ましい化合物では、R1、R2、R3及びR4のそれぞれは独立してC1〜C3アルキル基である。より好ましくは、R1、R2、R3及びR4のそれぞれは独立してメチル又はエチル基である。この点において、本発明は、凝集体シリカ粒子の平均凝集体粒子サイズを低減する方法であって、(a)約115m2/g以上の表面積を有する溶融一次粒子を含む凝集体シリカ粒子を、約30wt%以上の凝集体シリカ粒子を含む分散体を提供するのに十分な量において水及び水酸化第四級アンモニウムと組み合わせる工程、並びに(b)該凝集体シリカ粒子を高せん断ミキサーによって粉砕し、それにより凝集体シリカ粒子の凝集体粒子直径を低減する工程を含む方法を提供する。
(III):100≧ηω2R2/2X2≧20kW/m3
を満たす半径(R)、特性ブレード長(X)及び角速度(ω)を有するブレードを含むことが好ましい。この点において、本発明は、凝集体金属酸化物粒子の凝集体粒子直径を低減する方法であって、(a)溶融一次粒子を含む凝集体金属酸化物粒子を提供する工程、(b)該凝集体金属酸化物粒子を酸又は水酸化第四級アンモニウムを含む水と組み合わせ、粘度(η)を有する分散体を提供する工程、及び(c)高せん断ブレード型ミキサーにおいて凝集体金属酸化物粒子の分散体を粉砕する工程を含み、該ミキサーが上記の式(III)を満たす半径(R)、特性ブレード長(X)及びP速度(ω)を有するブレードを含み、それによって凝集体金属酸化物粒子の平均凝集体粒子直径を低減する方法を提供する。
(1) Dcirc ave(nm)<52+2dp(nm)、及び
(2) σg(Dcirc)<1.44+0.011dp(nm)
の少なくとも一方を満たす分散体を提供する。
1.44+0.011dp(nm)>σg(Dcirc)>1.3+0.011dp(nm)
を満たす。
(1) Dcirc ave(nm)<35+1.8dp(nm)、及び
(2) σg(Dcirc)<1.39+0.011dp(nm)
の少なくとも一方を満たす分散体を提供する。
1.39+0.011dp(nm)>σg(Dcirc)>1.3+0.011dp(nm)
を満たす。
本例は、本発明による凝集体金属酸化物粒子の分散体の調製及び該分散体の平均凝集体粒子サイズの低減を例示するものである。本例はまた、本発明による分散標準の作成も例示している。
Lmax(%)=[0.107ln(dp)+0.19]×100
で表される。
%ΔDcirc ave=0.3Lmax=0.3[(L/Lmax)×100]
によって関係づけられることを示している。
L(wt%)=[(%ΔDcirc ave)×(0.107ln(dp)(nm)
+0.19)]÷0.3
が得られる。この関係式は、同じか又は異なる一次粒子サイズ(例えば、表面積)を有するヒュームドシリカの他の分散体に関する分散標準として利用することができる。
本例は、例1の分散標準を用いて粒子サイズにおける所望の低下百分率を有する凝集体金属酸化物粒子の分散体を調製できることを示すものである。
本例は、ヒュームドアルミナ粒子の平均凝集体粒子直径を低減するための本発明の方法の使用を例示するものである。
Claims (27)
- 予め選択された平均凝集体粒子直径を有する凝集体金属酸化物粒子の分散体を調製する方法であって、
(a)ある平均凝集体粒子直径とある平均一次粒子直径を有する溶融一次粒子から構成される凝集体金属酸化物粒子を提供する工程、
(b)該金属酸化物粒子の平均凝集体粒子直径における所望の低下百分率を予め選択し、予め選択された平均凝集体粒子直径を提供する工程、
(c)該凝集体金属酸化物粒子の分散体に関する分散標準であって、(i)該分散体の固体濃度と(ii)該分散体が高せん断ミキサーにおいて粉砕された場合に起こる凝集体金属酸化物粒子の凝集体粒子直径における低下百分率とを関連付ける分散標準を提供する工程、
(d)該分散標準を参照することにより金属酸化物粒子の平均凝集体粒子直径における予め選択された低下百分率と相関する固体濃度を決定する工程、
(e)工程(a)の凝集体金属酸化物粒子を水と組み合わせ、工程(d)において決定された固体濃度の10%以内の固体濃度を有する分散体を提供する工程、及び
(f)高せん断粉砕装置において分散体を粉砕し、予め選択された平均凝集体粒子直径を有する凝集体金属酸化物粒子の分散体を提供する工程
を含む、方法。 - (c−1)工程(a)の金属酸化物粒子と同じ粒子直径特性を有する金属酸化物粒子の3つ以上の分散体であって、それぞれが異なる固体濃度を有する分散体を調製する工程、
(c−2)該分散体を高せん断ミキサーにおいて粉砕する工程、
(c−3)粉砕された各分散体の平均凝集体粒子直径と粉砕前の分散体の平均凝集体粒子直径を比較することにより、各分散体の平均凝集体粒子直径における低下百分率を計算する工程、及び
(c−4)分散体の固体濃度と平均凝集体粒子直径における低下百分率の間の相関関係を記載する工程
を含む方法によって分散標準を提供する工程をさらに含む、請求項1に記載の方法。 - 前記凝集体金属酸化物粒子が、シリカ粒子、アルミナ粒子、セリア粒子又はそれらの混合物である、請求項1に記載の方法。
- 前記凝集体金属酸化物粒子がシリカ粒子である、請求項1に記載の方法。
- 前記分散標準が、以下の式
L(wt%)=[(%ΔDcirc ave)×(0.1ln(dp)(nm)
+0.2)]÷0.3
(式中、Lは分散体の固体濃度であり、%ΔDcirc aveは平均凝集体粒子直径の低下百分率であり、dpは凝集体金属酸化物粒子の平均一次粒子直径である)によって与えられる、請求項3に記載の方法。 - 前記凝集体金属酸化物粒子が、
(i)凝集体金属酸化物粒子の第1の分量を水に添加して第1の凝集体金属酸化物粒子分散体を提供する工程、
(ii)該第1の凝集体金属酸化物粒子分散体を粉砕する工程、
(iii)凝集体金属酸化物粒子の第2の分量を前記第1の金属酸化物粒子分散体に添加して第2の凝集体金属酸化物粒子分散体を提供する工程、及び
(iv)該第2の凝集体金属酸化物粒子分散体を粉砕する工程
を含む方法によって水と組み合わされる、請求項1に記載の方法。 - 前記第1の凝集体金属酸化物粒子分散体の粘度が、凝集体金属酸化物粒子の第2の分量を添加する前に5%以上低減される、請求項6に記載の方法。
- 前記所望の低下百分率が10〜60%である、請求項1に記載の方法。
- 前記凝集体金属酸化物分散体が、凝集体金属酸化物1kg当たり0.02〜2モルの酸を含む、請求項1に記載の方法。
- 前記凝集体金属酸化物分散体が、凝集体金属酸化物1kg当たり0.02〜2モルの水酸化第四級アンモニウムを含む、請求項1に記載の方法。
- 前記水酸化第四級アンモニウムが、以下の式
(NR1R2R3R4)OH
を有し、式中、R1、R2、R3及びR4のそれぞれが、C1〜C10アルキル、C1〜C10アルコキシ、C2〜C10アルケニル及びアリール基からなる群より独立して選択され、それらのいずれも、非置換であることができるか又はC1〜C10アルキル、ヒドロキシ、C1〜C10アルコキシ又はアリール基で置換することができる、請求項10に記載の方法。 - R1、R2、R3及びR4のそれぞれが独立してC1〜C3アルキル基である、請求項11に記載の方法。
- R1、R2、R3及びR4のそれぞれが独立してメチル又はエチル基である、請求項12に記載の方法。
- 前記凝集体金属酸化物粒子がアルミナ粒子である、請求項1に記載の方法。
- 前記分散体が0.1wt%〜1wt%の酸を含む、請求項14に記載の方法。
- 前記凝集体金属酸化物分散体を粉砕することにより、金属酸化物粒子の凝集体粒子直径の幾何標準偏差(σg(Dcirc))が20%以上低減される、請求項1に記載の方法。
- 前記凝集体金属酸化物粒子分散体が粘度ηを有し、該凝集体金属酸化物粒子分散体が高せん断ミキサーにおいて粉砕され、該ミキサーが以下の式
100≧ηω2R2/2X2≧20kW/m3
を満たす半径(R)、特性ブレード長(X)及び角速度(ω)を有するブレードを含む、請求項1に記載の方法。 - 予め選択された平均凝集体粒子直径を有する凝集体金属酸化物粒子の分散体を調製する方法であって、
(a)平均一次粒子直径(dp)と平均凝集体粒子直径(Dcirc ave)を有する溶融一次粒子を含む凝集体金属酸化物粒子を提供する工程、
(b)10%〜60%の平均凝集体粒子直径における所望の低下百分率(%ΔDcirc ave)を予め選択し、予め選択された平均凝集体粒子直径を提供する工程、
(c)凝集体金属酸化物粒子を水と組み合わせ、凝集体金属酸化物粒子の分散体を提供する工程であって、分散体中の凝集体金属酸化物粒子の量が0.8L〜1.2Lであり、Lが以下の式
L(wt%)=[(%ΔDcirc ave)×(0.1ln(dp)(nm)
+0.2)]÷0.3
によって決定される工程、及び
(d)高せん断ミキサーを用いて凝集体金属酸化物粒子の分散体を粉砕し、それにより凝集体金属酸化物粒子の凝集体粒子直径を低減して、予め選択された平均凝集体粒子直径を有する凝集体金属酸化物粒子の分散体を提供する工程
を含む、方法。 - 前記凝集体金属酸化物粒子が、シリカ粒子、アルミナ粒子、セリア粒子又はそれらの組み合わせである、請求項18に記載の方法。
- 前記凝集体金属酸化物粒子がシリカである、請求項19に記載の方法。
- 前記凝集体シリカ粒子が、
(i)凝集体シリカ粒子の第1の分量を酸性化された水に添加して第1の凝集体シリカ粒子分散体を提供する工程、
(ii)該第1の凝集体シリカ粒子分散体を粉砕する工程、
(iii)凝集体シリカ粒子の第2の分量を前記第1の凝集体シリカ粒子分散体に添加して第2の凝集体シリカ粒子分散体を提供する工程、及び
(iv)該第2の凝集体シリカ粒子分散体を粉砕する工程
を含む方法によって酸性化された水と組み合わされる、請求項20に記載の方法。 - 前記第1の凝集体シリカ粒子分散体の粘度が、凝集体シリカ粒子の第2の分量を添加する前に5%以上低減される、請求項21に記載の方法。
- 前記凝集体シリカ粒子の(数)平均凝集体粒子直径が10%以上低減される、請求項20に記載の方法。
- 前記凝集体シリカ粒子の(数)平均凝集体粒子直径が20%以上低減される、請求項23に記載の方法。
- 前記分散体が、凝集体シリカ粒子1kg当たり0.02〜2モルの酸を含む、請求項20に記載の方法。
- 前記凝集体シリカ分散体を粉砕することにより、凝集体シリカ粒子の凝集体粒子直径の幾何標準偏差(σg(Dcirc))が20%以上低減される、請求項20に記載の方法。
- 前記凝集体シリカ分散体が粘度(η)を有し、該凝集体シリカ分散体の粉砕が、以下の式
100≧ηω2R2/2X2≧20kW/m3
を満たす半径(R)、特性ブレード長(X)及び角速度(ω)を有するブレードを含む高せん断ブレード型ミキサーによって実施される、請求項20に記載の方法。
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