JPH11349926A - アルミナ分散研磨液およびアルミナ分散研磨液の製造方法 - Google Patents

アルミナ分散研磨液およびアルミナ分散研磨液の製造方法

Info

Publication number
JPH11349926A
JPH11349926A JP15790998A JP15790998A JPH11349926A JP H11349926 A JPH11349926 A JP H11349926A JP 15790998 A JP15790998 A JP 15790998A JP 15790998 A JP15790998 A JP 15790998A JP H11349926 A JPH11349926 A JP H11349926A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
alumina
acid
polishing liquid
dispersed
monocarboxylic acid
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP15790998A
Other languages
English (en)
Inventor
Kenji Kawada
研治 河田
Hirosuke Okura
宏祐 大藏
Tetsuya Ochiai
哲也 落合
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Taiho Kogyo Co Ltd
Original Assignee
Taiho Kogyo Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Taiho Kogyo Co Ltd filed Critical Taiho Kogyo Co Ltd
Priority to JP15790998A priority Critical patent/JPH11349926A/ja
Publication of JPH11349926A publication Critical patent/JPH11349926A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Colloid Chemistry (AREA)
  • Finish Polishing, Edge Sharpening, And Grinding By Specific Grinding Devices (AREA)
  • Mechanical Treatment Of Semiconductor (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 沈降及び凝集等がなくて長期保存性に優れ、
被加工物に表面欠陥を生じさせることのないアルミナ分
散研磨液及びその製造方法の提供。 【解決手段】 窒素原子含有モノカルボン酸、及び水系
分散媒に分散され、微細なアルミナを含有し、弱酸性に
調整されてなるアルミナ分散砥粒液、及び前記各成分を
混合し分散処理する製造方法。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】この発明は、アルミナ分散研
磨液及びその製造方法に関し、更に詳しくは、化学的機
械的研磨法(Chemical MechanicalPolishing、以下CM
Pと略称することがある。)に使用されることができ、
アルミナの沈降及び凝集を抑制することによってスクラ
ッチ発生等の諸問題を解消するアルミナ分散研磨液及び
その製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術及び発明が解決しようとする課題】アルミ
ナは古くから研磨材として使用されていた。元々は研磨
材として使用されていたのは、天然に算するコランダム
(α−アルミナ)であったが、その後に人造砥粒として
アランダム(α−アルミナ)が開発され、近年において
はA系あるいはWA系と称される多くのアルミナ研磨材
が使用されている。
【0003】これらのアルミナは研磨材として砥石及び
ラッピング等に用いられるのであるが、その平均粒径が
小さくとも1μm位迄であった。
【0004】ところが、最近の半導体製造プロセスにお
いては、砥粒として微細なアルミナが要求され、使用さ
れている。一方、最近の半導体デバイスは高密度高集積
化しており、配線の三次元化即ち多層配線構造が不可欠
になっている。そのような半導体デバイスのウエハーの
製造工程で、ウエハーの表面に微小な段差が発生する
と、そのような段差はパターン解像度並びに歩留まり及
び信頼性を低下させるので、ウエハーの表面を可能な限
り平坦化することが必要になり、そのような技術が重要
視されている。
【0005】その平坦化技術として、研磨による方法、
特にCMPが注目されている。CMPによりアルミニウ
ム、銅、タングステン等の配線金属材料を研磨する研磨
材として、微細アルミナを分散してなる研磨スラリー
が、使用されている。なお、CMPについての詳細は、
米国特許第4671851号、同特許第910155
号、同特許第4944836号、同特許第478964
8号、同特許第5209816号、同特許第51578
16号、同特許第5157876号、同特許第5137
544号、及び同特許第4956313号に係る明細
書、並びに特開平10−44047号公報に開示されて
いる。
【0006】前記研磨スラリーの組成は、主として、ア
ルミナと、分散媒としての水、化学的作用を付加するた
めの酸化剤とを含んで形成される。前記研磨スラリーに
は、アルミナの沈降及び凝集等を防止するために、分散
剤として界面活性剤及びポリマー安定剤等が添加される
こともある。
【0007】一般にアルミナ含有の研磨スラリーは、酸
化剤等の添加剤は所定の濃度に調整された酸化剤等の添
加剤を含有する水系溶媒混合物に、アルミナの高濃度分
散液が添加され、次いで所望のアルミナ濃度に希釈され
ることにより調整される。
【0008】前記CMPに使用されるアルミナ含有の研
磨スラリーにおける問題点の一つは、研磨スラリーの分
散安定性である。
【0009】研磨スラリーの分散安定性が悪いと、凝集
した二次粒子の径が増大して砥粒の機械的作用が大きく
なり過ぎ、スクラッチ、ピット、ディボット等が発生し
たり、そのために段差の修正能力が著しく低下する。ま
た、凝集した二次粒子が沈降することにより研磨スラリ
ー中の砥粒濃度が変動し、安定的な研磨加工が阻害され
ると言った種々の問題を誘発する。
【0010】さらに、例えば、平均一次粒子径が5〜1
00nmの微細アルミナ粉等を、その濃度が例えば15
重量%以上になるように水系分散媒に分散させようとし
ても、例えば、微細アルミナ粉が空気を抱き込むこと等
によって、砥粒スラリーを容易に得ることができないと
いう問題、得られる砥粒スラリーの粘度が著しく上昇し
てしまうという問題、得られる砥粒スラリーの取り扱い
性が悪いという問題、微細アルミナを所定の水系溶媒に
分散処理するのに長時間を要し、砥粒スラリーの生産効
率が低いという問題、アルミナ濃度のより高い砥粒スラ
リーを得ることが困難であるという問題等があった。
【0011】この発明は、従来の技術における問題点を
解消することを目的とする。
【0012】この発明の目的は、アルミナ分散字の増
粘、分散語のゲル化、沈降、凝集等に起因する不具合を
回避することができるアルミナ分散研磨液及びその製造
方法を提供することにある。
【0013】
【課題を解決するための手段】前記課題を解決するため
のこの発明は、窒素原子を含むモノカルボン酸、及び水
系分散媒に分散された5〜100nmの平均一次粒径を
有するアルミナを含有し、pH3〜6に調整されてなる
ことを特徴とするアルミナ分散研磨液であり、このアル
ミナ分散研磨液の好適な態様においては、前記窒素原子
を含むモノカルボン酸が、窒素原子を複素原子とする複
素環化合物、及びアミノ酸よりなる群から選択される少
なくとも一種であり、このアルミナ分散研磨液の更に好
適な態様においては、前記窒素原子を含むモノカルボン
酸が、ニコチン酸、ピコリン酸、プロリン及びグリシン
よりなる群から選択される少なくとも一種であり、この
アルミナ分散研磨液の好適な態様においては、前記アル
ミナがα−アルミナ、θ−アルミナ、γ−アルミナ及び
δ−アルミナよりなる群から選択される少なくとも一種
であり、前記課題を解決するための他の発明は、窒素原
子を含むモノカルボン酸、水系分散媒、及び5〜100
nmの平均一次粒径を有するアルミナを混合し、分散処
理することを特徴とするpH3〜6に調整されてなるア
ルミナ分散研磨液の製造方法であり、このアルミナ分散
研磨液の製造方法の好適な態様においては、前記窒素原
子を含むモノカルボン酸が、窒素原子を複素原子とする
複素環化合物、及びアミノ酸よりなる群から選択される
少なくとも一種であり、このアルミナ分散研磨液の製造
方法の好適な態様においては、前記窒素原子を含むモノ
カルボン酸が、ニコチン酸、ピコリン酸、プロリン及び
グリシンよりなる群から選択される少なくとも一種であ
り、このアルミナ分散研磨液の製造方法の好適な態様に
おいては、前記アルミナがα−アルミナ、θ−アルミ
ナ、γ−アルミナ及びδ−アルミナよりなる群から選択
される少なくとも一種である。
【0014】
【発明の実施の形態】−アルミナ分散研磨液− この発明におけるアルミナ分散研磨液は、水系分散媒に
分散され、微細なアルミナと、窒素原子を含むモノカル
ボン酸(以下において、窒素原子含有モノカルボン酸と
称することがある。)とを含有し、弱酸性に調整されて
なる。
【0015】この発明におけるアルミナとしては、例え
ば、無水アルミニウム酸化物、含水アルミニウム酸化物
等を挙げることができ、具体的には例えば、α−アルミ
ナ、δ−アルミナ、θ−アルミナ、χ−アルミナ等の無
水アルミナ、ベーマイト、ギブサイト、バイヤライト、
ノルストランダイト、ダイアスポア、トーダイト、アル
ミナゲル等のアルミナ水和物(「水酸化アルミニウム」
と称することもできる。)等を挙げることができる。な
お、この発明においては、特に断らない限り、「アルミ
ナ」の意味は「無水アルミナ」と「アルミナ水和物」と
を包含する。
【0016】これらの中でも好ましいアルミナは、α−
アルミナ、θ−アルミナ、γ−アルミナ及びδ−アルミ
ナであり、これらよりなる群から選択される少なくとも
一種を使用することができる。
【0017】前記アルミナの形態としては、例えば、所
定の粒子径を有する微細な粒子、微粒子、微細粒子、粉
体、微粉、微細粉等を採用することができ、その平均一
次粒子径は、5〜100nmであり、5〜60nmであ
るのが好ましい。このアルミナの平均一次粒径が前記範
囲内にあると、アルミナ分散砥粒液におけるアルミナの
分散が殊に良好になる。なお、この平均一次粒子径は、
例えば、電子顕微鏡を用いて測定される平均粒径であ
る。
【0018】この発明においては、アルミナ分散砥粒液
におけるアルミナの配合量は、通常、多くても60重量
%、好ましくは10〜60重量%、より好ましくは15
〜50重量%である。アルミナの配合量が上記範囲内に
あると、アルミナをより効果的に分散させることができ
る。前記アルミナ分散砥粒液におけるアルミナの配合量
が多くても60重量%であると、例えば、アルミナ分散
砥粒液中においてアルミナ同士の粒子間距離が短くなる
こと等に起因する増粘、ゲル化等をより効果的に抑制す
ることができる。
【0019】前記アルミナ分散砥粒液におけるアルミナ
の配合量が多くとも60重量%、特に10〜60重量%
であると、例えば、このアルミナ分散砥粒液の粘度を5
0〜1000cpsに容易に調節することができるの
で、取り扱い性に優れたアルミナ分散砥粒液を得ること
ができる。
【0020】この発明における水系分散媒としては非ア
ルカリ性の水系分散媒を挙げることができ、この非アル
カリ性の水系分散媒としては、例えば、水、メタノー
ル、エタノール、ノルマルプロピルアルコール、イソプ
ロピルアルコール、アセトン、メチルエチルケトン、酢
酸エチル、及び、エチレングリコールからなる群より選
択される少なくとも1種の水系溶媒、これらの中から選
択される2種以上を混合した水系混合溶媒等を挙げるこ
とができる。
【0021】前記水系混合溶媒としては、例えば、水と
イソプロピルアルコールとの混合溶媒、水とメタノール
及び/又はエタノールとの混合溶媒、水とエチレングリ
コールとイソプロピルアルコールとの混合溶媒、水とエ
チレングリコールとイソプロピルアルコールと酢酸エチ
ルとの混合溶媒等を挙げることができる。
【0022】なお、この発明の目的を阻害しない限りに
おいて、アルミナ及び窒素原子含有モノカルボン酸とを
混合する前の水系分散媒は、酸性物質を含有していても
良い。
【0023】この発明における窒素原子含有モノカルボ
ン酸は、分子内に少なくとも1個の窒素原子を含んでい
るモノカルボン酸であれば特に制限はなく、以下に示さ
れるような、有機化合物、生体アミン類、アミノ酸、糖
質類、脂質、ビタミン及び補酵素類、並びに、分析用有
機試薬からなる群より選択される少なくとも1種の窒素
原子含有モノカルボン酸の中から、前記水系溶媒又は水
系混合溶媒に容易に溶解し、酸性ないし中性を示す下記
化合物を適宜に選択することができる。
【0024】前記有機化合物としては、例えば、N−ア
セチルグリシン、o−アセトアミド安息香酸、m−アセ
トアミド安息香酸、p−アセトアミド安息香酸、o−ア
ミノ安息香酸(アントラニル酸)、m−アミノ安息香
酸、p−アミノ安息香酸、β−アミノイソ吉草酸、α−
アミノ吉草酸、γ−アミノ吉草酸、δ−アミノ吉草酸、
o−アミノケイ皮酸、m−アミノケイ皮酸、p−アミノ
ケイ皮酸、3−アミノサリチル酸、4−アミノサリチル
酸、5−アミノサリチル酸、2−アミノ−3−ニトロ安
息香酸、2−アミノ−5−ニトロ安息香酸、3−アミノ
−2−ニトロ安息香酸、3−アミノ−4−ニトロ安息香
酸、3−アミノ−5−ニトロ安息香酸、3−アミノ−6
−ニトロ安息香酸、4−アミノ−3−ニトロ安息香酸、
o−アミノフェニルグリオキシル酸(イサチン酸)、3
−アミノ−3−フェニルプロピオン酸、dl−α−アミ
ノ酪酸、L−α−アミノ酪酸、α−アミノ酪酸、β−ア
ミノ酪酸、γ−アミノ酪酸、アラニン、DL−アラニ
ン、アランツル酸、アルギニン、L−アルギニン、アレ
カイジン、アロキサン酸、アントラニル酸、アンピシリ
ン、イソニコチン酸、イソバリン、イソロイシン、L−
イソロイシン、3−インドリル酢酸、イミダゾールアク
リル酸(ウロカニン酸)、シュウ酸モノアニリド(オキ
サニル酸)、シュウ酸モノアミド(オキサミド酸)、オ
キサルル酸、o−カルボキシオキサニル酸、6−メトキ
シ−4−キノリンカルボン酸(キニン酸)、4−ヒドロ
キシ−2−キノリンカルボン酸(キヌレン酸)、3−キ
ノリンカルボン酸、4−キノリンカルボン酸(シンコニ
ン酸)、5−キノリンカルボン酸、グアニジノ酢酸(グ
リコシアミン)、グルタミン、グルタミン酸5−ナトリ
ウム、コハク酸モノアミド(スクシンアミド酸)、サル
コシン、シアノ酢酸、2−シアノプロピオン酸、2,3
−ジアミノ安息香酸、2,4−ジアミノ安息香酸、2,
5−ジアミノ安息香酸、3,4−ジアミノ安息香酸、
3,5−ジアミノ安息香酸、システイン、シトルリン、
2,4−ジニトロ安息香酸、2,5−ジニトロ安息香
酸、2,6−ジニトロ安息香酸、3,4−ジニトロ安息
香酸、3,5−ジニトロ安息香酸、p−(ジメチルアミ
ノ)安息香酸、α−ショウノウアミド酸、3,5−ジヨ
ードチロシン、スタキドリン、o−スルファモイル安息
香酸、p−スルファモイル安息香酸、セファロリジン、
セリン、チロシン、2,3,5−トリアミノ安息香酸、
3,4,5−トリアミノ安息香酸、2,4,6−トリニ
トロ安息香酸、トリプトファン、トレオニン、o−ニト
ロ安息香酸、m−ニトロ安息香酸、p−ニトロ安息香
酸、o−ニトロケイ皮酸、m−ニトロケイ皮酸、p−ニ
トロケイ皮酸、3−ニトロサリチル酸、5−ニトロサリ
チル酸、o−ニトロフェニルプロピオル酸、p−ニトロ
フェニルプロピオル酸、ノルバリン、ノルロイシン、N
−ベンゾイルグリシン(馬尿酸)、ヒスチジン、ヒダン
トイン酸、3−ヒドロキシ−2−インドールカルボン
酸、4−ヒドロキシ−2−キノリンカルボン酸、ヒドロ
キシプロリン、2−ピリジンカルボン酸(ピコリン
酸)、3−ピリジンカルボン酸(ニコチン酸)、4−ピ
リジンカルボン酸(イソニコチン酸)、ピロリジンモノ
カルボン酸、2−ピロールカルボン酸、L−α−ピロリ
ジンカルボキシル酸(プロリン)、フェニルアラニン、
N−フェニルアントラニル酸、2−フェニル−4−キノ
リンカルボン酸、N−フェニルグリシン、フタルアニル
酸、フタルアミド酸、ベタイン、ペニシリンG、ペニシ
リンV、ヘモピロールカルボン酸、o−ベンズアミド安
息香酸、メチオニン、N−メチルアントラニル酸、メチ
ルレッド、6−メトキシ−4−キノリンカルボン酸、リ
シン、リジン、ロイシン等を挙げることができる。
【0025】前記生体アミン類としては、例えば、カル
ニチン等を挙げることができる。
【0026】前記アミノ酸としては、例えば、アザセリ
ン、L−アスパラギン、L−2−アミノ酪酸、4−アミ
ノ酪酸、L−アラニン(α−アミノプロピオン酸)、β
−アラニン(β−アミノプロピオン酸)、L−アルギニ
ン、L−アロイソロイシン、L−アロトレオニン、L−
イソロイシン、L−エチオニン、エルゴチオネイン、L
−オルニチン、L−カナバニン、L−キヌレニン、グリ
シン(アミノ酢酸)、L−グルタミン、クレアチン、サ
ルコシン、L−システイン、L−システイン酸、L−シ
トルリン、β−(3,4−ジヒドロキシフェニル)−L
−アラニン、3,5−ジヨード−L−チロシン、L−セ
リン、L−チロキシン、L−チロシン、L−トリプトフ
ァン、L−トレオニン、L−ノルバリン、L−ノルロイ
シン、バリン、L−ヒスチジン、4−ヒドロキシ−L−
プロリン、δ−ヒドロキシ−L−リシン、L−フェニル
アラニン、L−プロリン、L−ホモセリン、L−メチオ
ニン、1−メチル−L−ヒスチジン、3−メチル−L−
ヒスチジン、L−リシン、L−ロイシン等を挙げること
ができる。
【0027】前記糖質類としては、例えば、D−ムラミ
ン酸、N−アセチルノイラミン酸等を挙げることができ
る。
【0028】前記ビタミン及び補酵素類としては、例え
ば、ビオチン、パントテン酸等を挙げることができる。
【0029】前記分析用有機試薬としては、例えば、カ
ルボキシアルセナゾ、キナルジン酸(2−キノリンカル
ボン酸)、2−(3,5−ジブロモ−2−ピリジルア
ゾ)−5−(ジメチルアミノ)安息香酸、5−スルホサ
リチル酸、3−ヒドロキシ−4−(2−ヒドロキシ−4
−スルホ−1−ナフチルアゾ)−2−ナフトエ酸、フェ
ニルチオヒダントイン酸、ローダミンB等を挙げること
ができる。
【0030】この発明において好適な窒素原子含有モノ
カルボン酸としては、窒素原子を複素原子とする複素環
にカルボン酸基を結合する複素環化合物およびアミノ酸
よりなる群から選択される少なくとも一種を挙げること
ができる。
【0031】前記複素環化合物としては、ピコリン酸、
ニコチン酸、キナルジン酸、及びピラジンモノカルボン
酸等の芳香族系複素環化合物、ピロリジンモノカルボン
及びプロリン酸等の5員環複素環化合物、並びにアミノ
酸等を挙げることができる。これら窒素原子含有モノカ
ルボン酸の中でも、窒素原子を複素原子とする複素環化
合物およびアミノ酸が好ましく、特にニコチン酸、ピコ
リン酸、プロリン及びグリシンよりなる群から選択され
る少なくとも一種が好ましい。
【0032】この中でも特に、ニコチン酸、グリシンを
より好適に採用することができる。前記ニコチン酸、グ
リシンは、例えば、生体に対する安全性が高い等の利点
も有する。
【0033】前記窒素原子含有モノカルボン酸は、例え
ば、前記アルミナ100重量部に対して、通常0.5〜
10重量部、好ましくは1〜5重量部添加することがで
きる。
【0034】この発明のアルミナ分散砥粒液には、前記
水系分散媒のpHが弱酸性、特に3〜6に調整されるよ
うに、前記窒素原子含有モノカルボン酸を添加すること
ができる。このとき、脂肪族オキシ酸及び芳香族オキシ
酸よりなる群から選択される少なくとも一種のオキシ酸
を、pH調整剤として、添加しても良い。
【0035】前記オキシ酸としては、グリコール酸、乳
酸、ヒドロアクリル酸、α−オキシ酪酸、グリセリン
酸、タルトロン酸、リンゴ酸、酒石酸、及びクエン酸等
の脂肪族オキシ酸、並びにサリチル酸、m−オキシ安息
香酸、p−オキシ安息香酸、没食子酸、マンデル酸、及
びトロバ酸等の芳香族オキシ酸を挙げることができる。
これらの中でも、脂肪族オキシ酸が好ましく、特にグリ
コール酸と乳酸とが好ましい。
【0036】この発明においては、この発明の目的を達
成することができる範囲内で、前記窒素原子含有モノカ
ルボン酸と、他の酸、例えば、無機酸、有機酸、分子内
に少なくとも2個のカルボキシル基を有するカルボン
酸、例えば、ジカルボン酸、トリカルボン酸等、分子内
に少なくとも1個の窒素原子を含み、少なくとも2個の
カルボキシル基を有するカルボン酸、例えば、含窒素原
子ジカルボン酸、含窒素原子トリカルボン酸等とを併用
することができる。
【0037】前記無機酸としては、例えば、一般の無機
酸、例えば、硫酸、塩酸、硝酸等を挙げることができ
る。
【0038】前記有機酸としては、例えば、水溶性の有
機酸、例えば、酢酸、蟻酸、安息香酸、オキシ酸等を挙
げることができる。
【0039】この発明においては、この発明における前
記窒素原子含有モノカルボン酸を採用せずに、少なくと
も2個のカルボキシ基を有するカルボン酸、例えば、含
窒素原子ジカルボン酸等の二塩基酸を採用した場合に
は、前記アルミナ分散砥粒液中においてアルミニウム原
子間で架橋反応が起こってしまうこと等により、アルミ
ナ分散砥粒液の過度の増粘、ゲル化等を抑制することが
できず、アルミナの分散性が極端に悪くなるという不具
合を生じる。
【0040】この発明における前記窒素原子含有モノカ
ルボン酸を採用せずに、硝酸あるいは塩酸を採用する場
合には、CMPにおいてアルミニウム、銅、タングステ
ン等の金属層に対する化学的作用が強くなり過ぎて肌荒
れを起こすことがある。また、溶媒として有機溶媒を使
用する場合には、硝酸と有機溶媒との反応によって爆発
性反応物が形成される恐れがある。また、ダイオキシン
等の環境問題、環境保全、公害防止等の観点からしても
塩酸の使用量は、極力低減することが望ましい。また、
酢酸、安息香酸、ぎ酸は臭気が激しくて作業環境を悪化
させるために望ましくない。
【0041】アルミナ分散砥粒液は、分子内に少なくと
も1個の窒素原子を含むモノカルボン酸を水系分散媒中
に添加した後に、弱酸性に調整した水系分散媒中で、ア
ルミナを分散させて、得ることができる。
【0042】この発明においては、前記アルミナを正に
帯電させることにより、前記アルミナを水系分散媒に効
果的に分散させることができる。前記アルミナは、前記
水系分散媒が酸性又は中性である場合に正に帯電し、こ
のアルミナにおける電位の絶対値が高いほどポテンシャ
ル障壁が高くなって、分散性がより向上する。
【0043】また、一般に、粉体は乾燥した状態であっ
ても凝集して二次粒子を形成している(「乾燥凝集して
いる」と言い換えることもできる)。これを分散媒中で
安定に分散させるには、二次粒子を一次粒子化する必要
がある。この二次粒子の一次粒子化においては、乾燥し
た状態の粉体表面に強固に吸着している空気を分散媒に
置換して、粉体表面を分散媒でぬらすこと(「粉体のぬ
れ性を向上させること」と言い換えることができる。)
が重要である。
【0044】この発明において、分子内に少なくとも1
個の窒素原子を含むモノカルボン酸による効果のメカニ
ズムは明らかではないが、上記濡性、及び電気的或いは
立体障害的反発力の増大(安定化)に寄与しているもの
と思われる。
【0045】この発明においては、水系分散媒の増粘、
アルミナの凝集及び沈降、分散後におけるゲル化等に起
因する不具合を回避することができる。
【0046】−アルミナ分散研磨液の製造方法− アルミナ分散研磨液は、前記窒素原子含有モノカルボン
酸と、アルミナと、水系分散媒とを混合し、必要に応じ
て超音波分散機、サンドミル、高圧分散機等を使用して
この混合液中のアルミナを均一に分散することにより、
得ることができる。
【0047】この発明においては、前記アルミナ分散砥
粒液のpHを弱酸性、特に3〜6に調整することによ
り、より効果的にアルミナを分散させることができる。
【0048】このアルミナ分散研磨液は、研磨の必要に
応じて研磨スラリーに調整される。例えば濃厚分散系、
例えばアルミナ含有量が10〜60重量%に調整された
アルミナ分散研磨液を原液として、これに水系媒体を適
宜に添加して粘度の調整及び研磨スラリー中のアルミナ
の濃度調整等を図って所望の研磨スラリーを得る。研磨
スラリー中のアルミナの濃度は、通常、1〜10重量
%、特に3〜6重量%である。また、CMPにおける化
学的作用を付加するための酸化剤、研磨レートを制御す
る薬剤等の公知の薬品を前記研磨スラリーに添加しても
良い。
【0049】
【実施例】(実施例1) −アルミナ分散液の調整− イオン交換水68重量部に、ニコチン酸2重量部を添加
し、δ−アルミナ(デグサ社製、商品名:A12O 3
C,平均一次粒径:13nm)30重量部をバタフライ
ミキサーを使用して粗混合した後に、ビーズミルを用い
て高速分散させることによりアルミナ分散液を得た。こ
のアルミナ分散液の製造直後の粘度は110cps(B
L型回転粘度形、測定温度:20℃)であった。このア
ルミナ分散液を常温で30日間静置後、同条件で測定し
た粘度は120cpsであった。この分散液中の2次粒
子径を、レーザー光散乱法により測定したところ平均直
径が162nmであった。その値を表1に示す。
【0050】−研磨スラリーの調整、および研磨実験− 次に、このアルミナ分散液を、イオン交換水で希釈し、
酸化剤として過酸化水素を添加して、アルミナ濃度5w
t%、H2O 2濃度2.5wt%に調整した研磨スラリー
を用いて、表2に示す加工条件で研磨実験を行った。そ
の結果、加工能率は0.15μm/minであった。能
率は、研磨前後の試料の厚みをマイクロメーターで測定
し、その差厚を研磨時間で割って算出し表3に示した。
また、金属顕微鏡で研磨後の試料表面を観察し、スクラ
ッチやピット、ディボットなどの表面欠陥の有無を確認
した。表面欠陥がみられない場合を○印、何らかの表面
欠陥が認められる場合を×印で表3に示した。
【0051】(実施例2)実施例1において、アルミナ
分散液の配合を、イオン交換水83重量部、ニコチン酸
2重量部、δ−アルミナ(デグサ社製、商品名:A12O
3−C,平均一次粒径:13nm)15重量部に変えた
以外は、前記実施例1と同様に実施した。評価結果を表
1および表3に示した。
【0052】(実施例3)実施例1において、アルミナ
分散液の配合を、イオン交換水68重量部、ニコチン酸
2重量部、θ−アルミナ(住友化学株式会社製、商品
名:AKP−G008、平均一次粒径:100nm以
下)30重量部に変えた以外は、前記実施例1と同様に
実施した。評価結果を表1および表3に示した。
【0053】(実施例4)実施例1において、アルミナ
分散液の配合を、イオン交換水68重量部、グリシン2
重量部、δ−アルミナ(デグサ社製、商品名:A12O 3
−C,平均一次粒径:13nm)30重量部に変えた以
外は、前記実施例1と同様に実施した。評価結果を表1
および表3に示した。
【0054】(比較例1)実施例1において、アルミナ
分散液の配合を、イオン交換水68重量部、グルタミン
酸(窒素原子含有ジカルボン酸)2重量部、δ−アルミ
ナ(デグサ社製、商品名:A12O 3−C,平均一次粒
径:13nm)30重量部に変えた以外は、前記実施例
1と同様に実施した。評価結果を表1および表3に示し
た。
【0055】(比較例2)実施例1において、アルミナ
分散液の配合を、イオン交換水68重量部、酢酸2重量
部、δ−アルミナ(デグサ社製、商品名:A12O 3
C,平均一次粒径:13nm)30重量部に変えた以外
は、前記実施例1と同様に実施した。評価結果を表1お
よび表3に示した。この配合では、臭気がひどく、作業
環境が劣悪であった。
【0056】(比較例3)実施例1において、アルミナ
分散液の配合を、イオン交換水68重量部、安息香酸2
重量部、δ−アルミナ(デグサ社製、商品名:A12O 3
−C,平均一次粒径:13nm)30重量部に変えた以
外は、前記実施例1と同様に実施した。評価結果を表1
および表3に示した。この配合では、臭気がひどく、作
業環境が劣悪であった。
【0057】(比較例4)実施例1において、アルミナ
分散液の配合を、イオン交換水68重量部、硫酸2重量
部、δ−アルミナ(デグサ社製、商品名:A12O 3
C,平均一次粒径:13nm)30重量部に変えた以外
は、前記実施例1と同様に実施した。評価結果を表1お
よび表3に示した。
【0058】
【表1】
【0059】
【表2】
【0060】
【表3】
【0061】
【発明の効果】この発明によると、(1) アルミナ粒子同
士の凝集を生じず、したがって増粘、沈降等を生じるこ
とがなくて保存安定性に優れたアルミナ分散研磨液を提
供することができ、また、(2) 研磨に際して、被加工物
にスクラッチ、ピット、ディボット等の表面欠陥を発生
させることのないアルミナ分散研磨液を提供することが
できる。この発明に係るアルミナ分散研磨液は、アルミ
ナの分散安定性が良好であるから、アルミナ分散研磨液
或いはこれから調製された研磨スラリー中のアルミナの
平均二次粒子の径が300nm以下になって沈降及び増
粘が抑制されているので、長期保存に耐えられる。
【0062】この発明によると、(3) 微細なアルミナを
分散する際に微細なアルミナが空気を抱き込むことによ
る増粘を起こすことなく安定したアルミナ分散研磨液を
製造する方法を提供することができ、また、(4) アルミ
ナの濃度の大きな、いわゆる高濃度のアルミナ分散液に
調製することができるアルミナ分散研磨液の製造方法を
提供することができる。
─────────────────────────────────────────────────────
【手続補正書】
【提出日】平成10年6月10日
【手続補正1】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正内容】
【発明の名称】アルミナ分散研磨液およびアルミナ分散
研磨液の製造方法

Claims (8)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 窒素原子を含むモノカルボン酸、及び水
    系分散媒に分散された5〜100nmの平均一次粒径を
    有するアルミナを含有し、pH3〜6に調整されてなる
    ことを特徴とするアルミナ分散研磨液。
  2. 【請求項2】 前記窒素原子を含むモノカルボン酸が、
    窒素原子を複素原子とする複素環化合物、及びアミノ酸
    よりなる群から選択される少なくとも一種である前記請
    求項1に記載のアルミナ分散研磨液。
  3. 【請求項3】 前記窒素原子を含むモノカルボン酸が、
    ニコチン酸、ピコリン酸、プロリン及びグリシンよりな
    る群から選択される少なくとも一種である前記請求項1
    に記載のアルミナ分散研磨液。
  4. 【請求項4】 前記アルミナがα−アルミナ、θ−アル
    ミナ、γ−アルミナ及びδ−アルミナよりなる群から選
    択される少なくとも一種である前記請求項1〜3のいず
    れか1項に記載のアルミナ分散研磨液。
  5. 【請求項5】 窒素原子を含むモノカルボン酸、水系分
    散媒、及び5〜100nmの平均一次粒径を有するアル
    ミナを混合し、分散処理することを特徴とするpH3〜
    6に調整されてなるアルミナ分散研磨液の製造方法。
  6. 【請求項6】 前記窒素原子を含むモノカルボン酸が、
    窒素原子を複素原子とする複素環化合物、及びアミノ酸
    よりなる群から選択される少なくとも一種である前記請
    求項5に記載のアルミナ分散研磨液の製造方法。
  7. 【請求項7】 前記窒素原子を含むモノカルボン酸が、
    ニコチン酸、ピコリン酸、プロリン及びグリシンよりな
    る群から選択される少なくとも一種である前記請求項5
    に記載のアルミナ分散研磨液の製造方法。
  8. 【請求項8】 前記アルミナがα−アルミナ、θ−アル
    ミナ、γ−アルミナ及びδ−アルミナよりなる群から選
    択される少なくとも一種である前記請求項5〜7のいず
    れか1項に記載のアルミナ分散研磨液の製造方法。
JP15790998A 1998-06-05 1998-06-05 アルミナ分散研磨液およびアルミナ分散研磨液の製造方法 Pending JPH11349926A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP15790998A JPH11349926A (ja) 1998-06-05 1998-06-05 アルミナ分散研磨液およびアルミナ分散研磨液の製造方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP15790998A JPH11349926A (ja) 1998-06-05 1998-06-05 アルミナ分散研磨液およびアルミナ分散研磨液の製造方法

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH11349926A true JPH11349926A (ja) 1999-12-21

Family

ID=15660108

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP15790998A Pending JPH11349926A (ja) 1998-06-05 1998-06-05 アルミナ分散研磨液およびアルミナ分散研磨液の製造方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH11349926A (ja)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6491843B1 (en) * 1999-12-08 2002-12-10 Eastman Kodak Company Slurry for chemical mechanical polishing silicon dioxide
US7666238B2 (en) 2001-06-21 2010-02-23 Kao Corporation Polishing composition
EP2213621A3 (en) * 2004-05-04 2010-11-03 Cabot Corporation Aqueous dispersion of aggregate alumina particles

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6491843B1 (en) * 1999-12-08 2002-12-10 Eastman Kodak Company Slurry for chemical mechanical polishing silicon dioxide
US6544892B2 (en) 1999-12-08 2003-04-08 Eastman Kodak Company Slurry for chemical mechanical polishing silicon dioxide
US7666238B2 (en) 2001-06-21 2010-02-23 Kao Corporation Polishing composition
EP2213621A3 (en) * 2004-05-04 2010-11-03 Cabot Corporation Aqueous dispersion of aggregate alumina particles
JP2012148973A (ja) * 2004-05-04 2012-08-09 Cabot Corp 所望の凝集体粒子直径を有する凝集体金属酸化物粒子分散体の調製方法

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR101982713B1 (ko) 코발트-함유 기판의 화학적 기계적 폴리싱(cmp)
TWI437083B (zh) 研磨組成物
CN100516157C (zh) 化学机械研磨用的水分散体
TWI628042B (zh) 含鈷之基材的化學機械硏磨
JP4628423B2 (ja) 基板の研磨及び製造方法
US9765239B2 (en) Use of a chemical-mechanical polishing (CMP) composition for polishing a substrate or layer containing at least one III-V material
TWI685553B (zh) 金屬化學機械平坦化(cmp)組合物及其方法
EP3315577A1 (en) Polishing composition
KR20170121155A (ko) 연마용 조성물 및 연마 방법
JP2020164877A (ja) 銅及びシリカ貫通電極(tsv)用途のための化学機械平坦化(cmp)組成物並びにその方法
JP2016524326A (ja) N,n,n’,n’−テトラキス−(2−ヒドロキシプロピル)−エチレンジアミンまたはメタンスルホン酸を含む化学機械研磨組成物
JPH11349926A (ja) アルミナ分散研磨液およびアルミナ分散研磨液の製造方法
JP3573628B2 (ja) アルミナ分散剤及びアルミナ分散液
CN117511415A (zh) 化学机械抛光组合物及其抛光方法
CN110819236B (zh) 化学机械研磨用水系分散体
JP4430331B2 (ja) 半導体ウェハ研磨用組成物
WO2021117428A1 (ja) 化学機械研磨用組成物及び研磨方法
KR101144839B1 (ko) 감마 알루미나가 표면-결합된 실리카를 포함하는 수성 연마슬러리 및 그 제조방법
JP6584114B2 (ja) 研磨用組成物
JP2007095842A (ja) 半導体集積回路の化学的機械的平坦化方法
WO2021095412A1 (ja) 化学機械研磨用組成物及び化学機械研磨方法
KR102590920B1 (ko) 표면 처리된 연마입자 및 연마 슬러리 조성물
TWI824226B (zh) 化學機械研磨漿料組成物和使用其研磨鎢圖案晶圓的方法
JPH11321078A (ja) インクジェット被記録材用処理剤及び被記録材
WO2021095415A1 (ja) 化学機械研磨用組成物及び化学機械研磨方法

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20050317

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20071101

A131 Notification of reasons for refusal

Effective date: 20071109

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20080314