JP5105033B1 - 光学フィルムのロール体、およびそれを用いた偏光板の製造方法 - Google Patents

Abstract

本発明の目的は、薄膜であっても、加工時に裂けにくい光学フィルムを提供することである。セルロースアセテートと、添加剤とを含有する、厚み２０〜５０μｍの光学フィルムを、フィルムの幅方向に対して垂直方向に巻き取って得られる光学フィルムのロール体であって、光学フィルムは幅方向両端部にエンボス部を有し、光学フィルムのエンボス部の表面上の、直径５ｍｍの円領域に１ｋｇの荷重を加えた状態で２３℃５５％ＲＨ下において１０分間保存した後のエンボス部の凸部の高さをＤとし、荷重を加える前のエンボス部の凸部の高さをＤ_０としたとき、下記式で示される耐つぶれ率が３０％以上であり、光学フィルムにおけるメタノールの残留量が、光学フィルムに対して１０〜１００質量ｐｐｍであり、かつ光学フィルムにおけるエタノールおよびブタノールのいずれの残留量よりも多い。
【数１】

【選択図】図１

Description

本発明は、光学フィルムのロール体、およびそれを用いた偏光板の製造方法に関する。

近年、液晶表示装置には、薄型化が求められている。液晶表示装置は、通常、液晶セルと、それを挟持する一対の偏光板と、バックライトとを有する。偏光板は、偏光子と、それを挟持する一対の保護フィルムとを有する。そして、液晶表示装置の構成部材である保護フィルムにも、さらなる薄膜化が求められている。

保護フィルムとしては、セルロースアセテートを含有するフィルムが提案されている（例えば、特許文献１〜３参照）。

このような保護フィルムは、通常、長さ方向に巻き取られたロール体として保存される。そのため、保護フィルムのロール体を保存している間の、保護フィルム同士の貼り付きなどを抑制するために、通常、保護フィルムの幅方向両端部には、エンボス加工が施されている（例えば特許文献４参照）。

特開２０１１−１２７０４６号公報 特開２０１１−１３７８６０号公報 特開２０１１−１０５９２４号公報 特開２００２−１２２７４１号公報

しかしながら、保護フィルムのロール体を一定条件下で保存した後、保護フィルムを巻き出して、所定の大きさに裁断したり、ハードコート層用塗布液を塗布したりするなどの加工を行う際に、保護フィルムが裂けやすいという問題があった。

本発明者らは、保護フィルムが裂けやすくなる原因の一つが、保護フィルムのロール体を保存している間に、保護フィルムの幅方向両端部のエンボス部がつぶれることにあることを見出した。即ち、保護フィルムのエンボス部がつぶれると、積層される保護フィルム同士が密着しやすくなり；保護フィルム同士の密着部分において、保護フィルムに含まれる添加剤（可塑剤など）が染み出しやすくなる。その結果、保護フィルムにおいて、密度が相対的に高い部分と、相対的に低い部分とが生じ；保護フィルムの加工時に保護フィルムが裂けやすくなると考えられる。また、添加剤の染み出しは、膜厚が薄いフィルムにおいてより生じやすく、保護フィルムが裂けやすかった。

エンボス部のつぶれは、膜厚が薄い保護フィルムや、高速で搬送しながらエンボス部が形成された保護フィルムにおいて特に生じやすかった。

本発明は、上記事情に鑑みてなされたものであり、厚みが薄くても、加工時に裂けにくい光学フィルムを提供することを目的とする。

［１］ セルロースアセテートと、添加剤とを含有する、厚み２０〜５０μｍの光学フィルムを、フィルムの幅方向に対して垂直方向に巻き取って得られる光学フィルムのロール体であって、前記光学フィルムは、幅方向両端部にエンボス部を有し、前記光学フィルムの前記エンボス部の表面上の、直径５ｍｍの円領域に１ｋｇの荷重を加えた状態で２３℃５５％ＲＨ下において１０分間保存した後の前記エンボス部の凸部の高さをＤとし、前記荷重を加える前の前記エンボス部の凸部の高さをＤ_０としたとき、下記式で示される耐つぶれ率が３０％以上であり、

前記光学フィルムにおけるメタノールの残留量が、前記光学フィルムに対して１０〜１００質量ｐｐｍであり、かつ前記光学フィルムにおけるエタノールおよびブタノールのいずれの残留量よりも多い、光学フィルムのロール体。
［２］ 前記セルロースアセテートのアセチル基の総置換度が、２．３以上２．９５以下である、［１］に記載の光学フィルムのロール体。
［３］ 前記光学フィルムの巻長が、１０００ｍ以上８０００ｍ以下である、［１］または［２］に記載の光学フィルムのロール体。
［４］ 前記添加剤は、ＳＰ値が９〜１１の可塑剤である、［１］〜［３］のいずれかに記載の光学フィルムのロール体。
［５］ 前記可塑剤が、トリフェニルホスフェート、エチルフタリルエチルグリコレートまたはポリエステル化合物である、［４］に記載の光学フィルムのロール体。
［６］ 前記ポリエステル化合物が、炭素数１〜４のジオールと、少なくとも芳香族ジカルボン酸を含有するジカルボン酸とを反応させて得られる化合物の分子末端を、芳香族基または脂肪族基でさらに封止したものである、［５］に記載の光学フィルムのロール体。
［７］ 前記可塑剤の含有量が、前記セルロースアセテートに対して１〜２０質量％である、［１］〜［６］のいずれかに記載の光学フィルムのロール体。

［８］ ［１］〜［７］のいずれかに記載の光学フィルムのロール体における、前記光学フィルムの前記エンボス部を除去するステップと、前記エンボス部が除去された前記光学フィルムと、偏光子とを貼り合わせるステップと、を有する、偏光板の製造方法。

本発明によれば、厚みが薄くても、加工時に裂けにくい光学フィルムを提供することができる。

光学フィルムのロール体の一例を示す模式図である。 光学フィルムのエンボス部近傍の一例を示す部分断面図である。 耐つぶれ率の測定におけるエンボス部の一例を示す部分断面図である。 エンボス部の凸部の耐つぶれ率の測定方法の一例を示す模式図である。 エンボス加工装置の一例を示す模式図である。 液晶表示装置の構成の一例を示す模式図である。

１．光学フィルムのロール体
本発明の光学フィルムのロール体は、長尺状の光学フィルムを、その長さ方向（フィルムの幅方向に対して垂直方向）に巻き取って得られるものである。

図１は、光学フィルムのロール体の一例を示す模式図である。図１に示されるように、光学フィルムのロール体１０は、巻芯１２と、その周囲に、フィルムの長さ方向に巻き取られた長尺状の光学フィルム１４とを有する。そして、ロール体１０において、積層される光学フィルム１４同士の密着を抑制するために、長尺状の光学フィルム１４の幅方向両端部には、エンボス部１６が形成されている。

図２は、光学フィルムのエンボス部近傍の一例を示す断面図である。図２に示されるように、エンボス部１６を構成する凸部１６Ａの高さＤ_０は、好ましくは１．０μｍ以上１０．０μｍ以下であり、より好ましくは２．０μｍ以上６．０μｍ以下である。凸部１６Ａの高さＤ_０とは、フィルム面Ｆ（エンボスが形成されていない部分のフィルム面）から凸部１６Ａの頂点までの高さをいう。凸部１６Ａの高さが１．０μｍ未満であると、光学フィルム同士が密着しやすいため、好ましくない。一方、凸部１６Ａの高さが大きすぎると、ロール体の幅方向中央部がたわみやすく、光学フィルムとしての平面性が保ちにくい。

凸部１６Ａの幅ｗは、０．０５〜５ｍｍ程度としうる。凸部１６Ａの幅ｗとは、エンボス部１６の断面において、凸部１６Ａが、フィルム面Ｆと交わる２点間の距離として表される。凸部１６Ａと凸部１６Ａの間隔ｂは、０．１〜５ｍｍであることが好ましく、０．５〜２ｍｍであることがより好ましい。凸部１６Ａと凸部１６Ａの間隔ｂは、エンボス部１６の断面において、２つの凸部１６Ａが、それぞれフィルム面Ｆと交わる点同士の距離で表される。

エンボス部１６の幅Ｗは、光学フィルムの幅に対して０．１２〜２．１％の範囲であることが好ましい。具体的には、エンボス部１６の幅Ｗは、光学フィルムの幅の大きさにもよるが、５〜２５ｍｍとし；好ましくは１０〜２０ｍｍとしうる。エンボス部１６の幅Ｗが大きすぎると、光学フィルムとして使用できる面積が少なくなる。一方、エンボス部１６の幅Ｗが小さすぎると、光学フィルム同士が密着しやすい。

光学フィルムのロール体では、巻芯近傍の光学フィルムのエンボス部の凸部が、積層される光学フィルムの重みによってつぶれやすい。エンボス部の凸部がつぶれると、積層される光学フィルム同士が密着しやすくなり；光学フィルム同士の密着部分において、光学フィルムに含まれる添加剤（例えば可塑剤）の染み出しが生じやすい。光学フィルム同士の密着部分において添加剤の染み出しが生じると、光学フィルムに、添加剤（例えば可塑剤）の粗な部分と密な部分とが生じ、光学フィルムを加工する際に裂けやすくなる。

このようなエンボス部の凸部のつぶれは、光学フィルムの膜厚を薄くしたり、光学フィルムを高速で搬送しながらエンボス加工を行ったりしたときに特に生じやすい。特に、光学フィルムを高速で搬送しながら形成されるエンボス部は、エンボス部の形成時間が短いため、エンボス部の強度が低くなりやすい。

そこで、光学フィルムのエンボス部に力が加わっても、エンボス部の凸部がつぶれにくいこと；即ち、エンボス部が、高い強度（高い弾性率）を有することが好ましい。具体的には、以下の方法で測定されるエンボス部の凸部の耐つぶれ率が、３０％以上であることが好ましく、５０％以上であることがより好ましい。

エンボス部の凸部の耐つぶれ率は、以下の方法で測定することができる。図３および４は、エンボス部の凸部の耐つぶれ率の測定方法の一例を示す部分断面図である。
１）光学フィルム１４のエンボス部１６を含む領域を切り出して、サンプルフィルム１４Ａを得る（図４参照）。そして、サンプルフィルム１４Ａのエンボス部１６の凸部の高さＤ_０（図３における、荷重を加える前の凸部の高さＤ_０）を、厚み測定機で測定する。
２）次いで、図４に示されるように、ステージ１５上にサンプルフィルム１４Ａを配置する。そして、フィルム面に対して垂直に載置された直径５ｍｍの金属製の円筒棒１８Ａと、その上に配置された分銅１８Ｂとからなる合計１ｋｇの重し１８を載せる。このようにして、エンボス部１６の表面上の直径５ｍｍの円領域に１ｋｇの荷重を加えた状態で、２３℃５５％ＲＨ下において１０分間保存する。その後、荷重を除いた（重しを除いた）ときの、エンボス部１６の凸部の高さＤ（図３における荷重を加えた後の凸部の高さＤ）を、厚み測定機で測定する。
３）前記１）で測定された荷重を加える前の凸部の高さＤ_０と、前記２）で測定された荷重を加えた後の凸部の高さＤとを、下記式に当てはめて、耐つぶれ率を算出する。

エンボス部の凸部の耐つぶれ率の調整は、エンボス加工条件；１）エンボスロールの表面温度、２）バックロールの表面温度、３）エンボスロールのロール径、および４）バックロールの材質のうち少なくとも二以上を種々組み合わせて調整することができる。なかでも、１）エンボスロールの表面温度と、２）バックロールの表面温度を調整することが好ましく；さらに３）エンボスロール径を調整することがより好ましく；さらに４）バックロールの材質を選択することが特に好ましい。エンボス部の凸部の耐つぶれ率を高めるためには、例えば１）エンボスロールの表面温度を高くし、かつ２）バックロールの表面温度を高くすることが好ましい。

前述の光学フィルム同士の密着部分における添加剤の染み出しは、光学フィルムの膜内で添加剤が移動することによって生じやすく、光学フィルムの膜内での添加剤の移動は、膜内に残存する溶剤によって促進されやすい。そのため、光学フィルム同士の密着部分における添加剤の染み出しを抑制するためには、光学フィルムの膜内に残留する溶剤のうち、添加剤との親和性が低いメタノールの含有割合が、添加剤との親和性が高いエタノールやブタノールよりも少ないことが好ましい。

そのため、ロール体を構成する光学フィルムに残留するメタノールの量（質量）が、エタノールまたはブタノールの量（質量）よりも多いことが好ましい。光学フィルムに残留するメタノールの量は、当該フィルムに対して好ましくは１０〜１００質量ｐｐｍであり、より好ましくは１０〜８０質量ｐｐｍであり、さらに好ましくは２０〜６０質量ｐｐｍである。

ロール体を構成する光学フィルムに残留するメタノールの量（質量）は、後述するように、光学フィルムを溶液流延法により製造する際のドープに含まれる溶剤組成や、延伸後のフィルムの乾燥温度および乾燥時間などによって調整されうる。

ロール体を構成する光学フィルムに残留する溶剤の量は、以下の方法によって測定することができる。
１）検量線の作成
測定対象となる溶剤の濃度が既知の試料を専用のバイアル瓶に入れ、セプタムとアルミキャップで密閉し、ヘッドスペースサンプラーにセットする。次いで、バイアル瓶を、下記のヘッドスペース加熱条件で加熱して揮発成分を生成させ、得られた揮発成分を、ガスクロマトグラフィーにて測定する。溶剤の濃度の異なる試料についても同様の測定を行う。各測定で得られたＧＣチャートにおける溶剤のピーク面積を算出し、溶剤の濃度とピーク面積のプロットを作成し、検量線を得る。
（ヘッドスペースサンプラー）
機器：ヒューレット・パッカード社製ヘッドスペースサンプラーＨＰ７６９４型
ヘッドスペース加熱条件：１２０℃で２０分
（ガスクロマトグラフィー）
機器：ヒューレット・パッカード社製５９７１型
カラム：Ｊ＆Ｗ社製 ＤＢ−６２４
検出器：水素炎イオン化検出器（ＦＩＤ）
ＧＣ昇温条件：４５℃で３分保持した後、８℃／分で１００℃まで昇温
ＧＣ導入温度：１５０℃
２）光学フィルムに残留する溶剤の測定
１０ｃｍ角に切り出したフィルムを、５ｍｍ程度に細かく刻んで専用のバイアル瓶に封入する以外は前記１）と同様にしてヘッドスペース加熱条件にて加熱処理し、得られた揮発成分を、ガスクロマトグラフィーにて測定する。
３）溶剤量の算出
得られたＧＣチャートから、溶剤のピーク面積を算出し、前記１）で得た検量線と照合して、フィルムに残留する溶剤の量を求める。フィルムに残留する溶剤の量は、フィルム全体に対する質量割合（質量％）として求められる。

本発明のロール体における光学フィルムの巻長は、通常、１０００ｍ以上８０００ｍ以下であり、好ましくは３８００ｍ以上６０００ｍ以下である。本発明のロール体における巻芯の径は、１００ｍｍ〜２５０ｍｍ程度としうる。本発明の光学フィルムのロール体における、光学フィルムの幅は、１．２〜４ｍ程度であり、好ましくは１．２〜２．５ｍ程度でありうる。

本発明によれば、光学フィルムの幅方向両端部に、強度の高いエンボス部を有する。そのため、巻長が大きい光学フィルムのロール体においても、巻芯近傍の光学フィルムのエンボス部の凸部が、積層される光学フィルムの重みによってつぶされにくくすることができる。それにより、光学フィルム同士の密着；および、それによる添加剤の染み出しを抑制でき、フィルム加工時に、フィルムが裂けるのを抑制できる。

また、本発明のロール体において、光学フィルムに残留するメタノールの量が所定の範囲に調整されている。そのため、仮に、エンボス部の凸部が、積層される光学フィルムの重みによってつぶされたとしても、光学フィルムの膜内における添加剤の移動を抑制することができる。それにより、ロール体の、光学フィルム同士の密着部分における添加剤の染み出しを抑制し；フィルム加工時に、フィルムが裂けるのを抑制できる。

２．光学フィルムの組成および物性について
光学フィルムは、セルロースエステルと、添加剤とを含有する。

セルロースエステルについて
セルロースエステルは、セルロースの水酸基を、脂肪族カルボン酸または芳香族カルボン酸でエステル化して得られる化合物である。

セルロースエステルに含まれるアシル基は、脂肪族アシル基または芳香族アシル基であり、好ましくは脂肪族アシル基である。なかでも、一定以上の位相差発現性を得るためには、炭素原子数２〜６の脂肪族アシル基が好ましく、炭素原子数２〜４の脂肪族アシル基がより好ましい。炭素原子数２〜４の脂肪族アシル基の例には、アセチル基、プロピオニル基、ブタノイル基などが含まれ、より好ましくはアセチル基である。

セルロースエステルの例には、セルロースアセテート、セルロースプロピオネート、セルロースブチレート、セルロースアセテートプロピオネート、セルロースアセテートブチレートなどが含まれ、好ましくはセルロースアセテートである。セルロースアセテートは、セルロースエステルに含まれるアシル基の全てがアセチル基であることが好ましい。

セルロースアセテートのアセチル基置換度（アシル基の総置換度）は、耐熱性が高く、かつ溶媒に対する溶解性が高く、製膜が比較的容易であることから、好ましくは２．３以上２．９５以下であり、より好ましくは２．５以上２．９５以下であり、さらに好ましくは２．８以上２．９５以下である。

アシル基の総置換度（アセチル基置換度）の測定方法は、ＡＳＴＭ−Ｄ８１７−９６に準じて測定することができる。

セルロースアセテートの数平均分子量は、機械的強度が高いフィルムを得るためには、３．０×１０^４以上２．０×１０^５未満であることが好ましく、４．５×１０^４以上１．５×１０^５未満であることがより好ましい。セルロースアセテートの重量平均分子量は、１．２×１０^５以上２．５×１０^５未満であることが好ましく、１．５×１０^５以上２．０×１０^５未満であることがより好ましい。

セルロースアセテートの分子量分布（重量平均分子量Ｍｗ／数平均分子量Ｍｎ）は、１．０〜４．５であることが好ましい。

セルロースアセテートの数平均分子量および重量平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）により測定することができる。測定条件は以下の通りである。
溶媒：メチレンクロライド
カラム：Ｓｈｏｄｅｘ Ｋ８０６、Ｋ８０５、Ｋ８０３Ｇ（昭和電工（株）製）を３本接続して使用する。
カラム温度：２５℃
試料濃度：０．１質量％
検出器：ＲＩ Ｍｏｄｅｌ ５０４（ＧＬサイエンス社製）
ポンプ：Ｌ６０００（日立製作所（株）製）
流量：１．０ｍｌ／ｍｉｎ
校正曲線：標準ポリスチレンＳＴＫ ｓｔａｎｄａｒｄポリスチレン（東ソー（株）製）Ｍｗ＝１．０×１０^６〜５．０×１０^２までの１３サンプルによる校正曲線を使用する。１３サンプルは、ほぼ等間隔に選択することが好ましい。

セルロースエステルは、公知の方法で合成することができる。具体的には、セルロースと、少なくとも酢酸または無水酢酸を含む、炭素原子数３以上の有機酸またはその無水物と、をエステル化反応させて合成することができる（特開平１０−４５８０４号公報に記載の方法を参照）。

セルロースアセテートの原料であるセルロースの例には、綿花リンター、木材パルプ（針葉樹由来、広葉樹由来）およびケナフなどが含まれる。原料となるセルロースは、一種類だけであってもよいし、二種類以上の混合物であってもよい。

添加剤について
光学フィルムに含まれる添加剤の例には、可塑剤、酸化防止剤、光安定剤、紫外線吸収剤、レターデーション調整剤、帯電防止剤、剥離剤などが含まれ、好ましくは可塑剤でありうる。

可塑剤の例には、ポリエステル化合物、多価アルコールエステル化合物、多価カルボン酸エステル化合物（フタル酸エステル化合物を含む）、グリコレート化合物、およびエステル化合物（脂肪酸エステル化合物やリン酸エステル化合物などを含む）が含まれる。これらは、単独で用いても、二種類以上を組み合わせて用いてもよい。

ポリエステル化合物は、ジカルボン酸とジオールを反応させて得られる繰り返し単位を含む化合物である。

ポリエステル化合物を構成するジカルボン酸は、芳香族ジカルボン酸、脂肪族ジカルボン酸または脂環式ジカルボン酸であり、好ましくは芳香族ジカルボン酸である。ジカルボン酸は、一種類であっても、二種類以上の混合物であってもよい。

ポリエステル化合物を構成するジオールは、芳香族ジオール、脂肪族ジオールまたは脂環式ジオールであり、好ましくは脂肪族ジオールであり、より好ましくは炭素数１〜４のジオールである。ジオールは、一種類であっても、二種類以上の混合物であってもよい。

なかでも、ポリエステル化合物は、少なくとも芳香族ジカルボン酸を含むジカルボン酸と、炭素数１〜４のジオールとを反応させて得られる繰り返し単位を含むことが好ましく；芳香族ジカルボン酸と脂肪族ジカルボン酸とを含むジカルボン酸と、炭素数１〜４のジオールとを反応させて得られる繰り返し単位を含むことがより好ましい。

ポリエステル化合物の分子の両末端は、封止されていても、封止されていなくてもよいが、フィルムの透湿性を低減する観点からは、封止されていることが好ましい。

ポリエステル化合物は、一般式（１）または（２）で表される化合物であることが好ましい。下記式において、ｎは１以上の整数である。
一般式（１）
Ｂ−（Ｇ−Ａ）ｎ−Ｇ−Ｂ
一般式（２）
Ｃ−（Ａ−Ｇ）ｎ−Ａ−Ｃ

一般式（１）および（２）のＡは、炭素原子数３〜２０（好ましくは４〜１２）のアルキレンジカルボン酸から誘導される２価の基、炭素原子数４〜２０（好ましくは４〜１２）のアルケニレンジカルボン酸から誘導される２価の基、または炭素原子数８〜２０（好ましくは８〜１２）のアリールジカルボン酸から誘導される２価の基を表す。

Ａにおける炭素原子数３〜２０のアルキレンジカルボン酸から誘導される２価の基の例には、１,２-エタンジカルボン酸（コハク酸）、１,３-プロパンジカルボン酸（グルタル酸）、１,４-ブタンジカルボン酸（アジピン酸）、１，５−ペンタンジカルボン酸（ピメリン酸）、１，８−オクタンジカルボン酸（セバシン酸）などから誘導される２価の基が含まれる。Ａにおける炭素原子数４〜２０のアルケニレンジカルボン酸から誘導される２価の基の例には、マレイン酸、フマル酸などから誘導される２価の基が含まれる。Ａにおける炭素原子数８〜２０のアリールジカルボン酸から誘導される２価の基の例には、１,２-ベンゼンジカルボン酸（フタル酸）、１,３-ベンゼンジカルボン酸、１,４-ベンゼンジカルボン酸、１,５-ナフタレンジカルボン酸などのナフタレンジカルボン酸などから誘導される２価の基が含まれる。

Ａは、一種類であっても、二種類以上が組み合わされてもよい。なかでも、Ａは、炭素原子数４〜１２のアルキレンジカルボン酸と炭素原子数８〜１２のアリールジカルボン酸との組み合わせが好ましい。

一般式（１）および（２）のＧは、炭素原子数２〜２０（好ましくは２〜１２）のアルキレングリコールから誘導される２価の基、炭素原子数６〜２０（好ましくは６〜１２）のアリールグリコールから誘導される２価の基、または炭素原子数４〜２０（好ましくは４〜１２）のオキシアルキレングリコールから誘導される２価の基を表す。

Ｇにおける炭素原子数２〜２０のアルキレングリコールから誘導される２価の基の例には、エチレングリコール、１,２-プロピレングリコール、１,３-プロピレングリコール、１,２-ブタンジオール、１,３-ブタンジオール、１,２-プロパンジオール、２-メチル-１,３-プロパンジオール、１,４-ブタンジオール、１,５-ペンタンジオール、２,２-ジメチル-１,３-プロパンジオール（ネオペンチルグリコール）、２,２-ジエチル-１,３-プロパンジオール（３,３-ジメチロールペンタン）、２-ｎ-ブチル-２-エチル-１,３-プロパンジオール（３,３-ジメチロールヘプタン）、３-メチル-１,５-ペンタンジオール、１,６-ヘキサンジオール、２,２,４-トリメチル-１,３-ペンタンジオール、２-エチル-１,３-ヘキサンジオール、２-メチル-１,８-オクタンジオール、１,９-ノナンジオール、１,１０-デカンジオール、および１,１２-オクタデカンジオール等から誘導される２価の基が含まれる。

Ｇにおける炭素原子数６〜２０のアリールグリコールから誘導される２価の基の例には、１,２-ジヒドロキシベンゼン（カテコール）、１,３-ジヒドロキシベンゼン（レゾルシノール）、１,４-ジヒドロキシベンゼン（ヒドロキノン）などから誘導される２価の基が含まれる。Ｇにおける炭素原子数が４〜１２のオキシアルキレングリコールから誘導される２価の基の例には、ジエチレングルコール、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコールなどから誘導される２価の基が含まれる。

Ｇは、一種類であっても、二種類以上が組み合わされてもよい。なかでも、Ｇは、炭素原子数２〜１２のアルキレングリコールであることが好ましい。

一般式（１）のＢは、芳香環含有モノカルボン酸または脂肪族モノカルボン酸から誘導される１価の基である。

芳香環含有モノカルボン酸から誘導される１価の基における芳香環含有モノカルボン酸は、分子内に芳香環を含有するカルボン酸であり、芳香環がカルボキシル基と直接結合したものだけでなく、芳香環がアルキレン基などを介してカルボキシル基と結合したものも含む。芳香環含有モノカルボン酸から誘導される１価の基の例には、安息香酸、パラターシャリブチル安息香酸、オルソトルイル酸、メタトルイル酸、パラトルイル酸、ジメチル安息香酸、エチル安息香酸、ノルマルプロピル安息香酸、アミノ安息香酸、アセトキシ安息香酸、フェニル酢酸、３−フェニルプロピオン酸などから誘導される１価の基が含まれる。

脂肪族モノカルボン酸から誘導される１価の基の例には、酢酸、プロピオン酸、ブタン酸、カプリル酸、カプロン酸、デカン酸、ドデカン酸、ステアリン酸、オレイン酸などから誘導される１価の基が含まれる。なかでも、アルキル部分の炭素原子数が１〜３であるアルキルモノカルボン酸から誘導される１価の基が好ましく、アセチル基（酢酸から誘導される１価の基）がより好ましい。

一般式（２）のＣは、芳香環含有モノアルコールまたは脂肪族モノアルコールから誘導される１価の基である。

芳香環含有モノアルコールは、分子内に芳香環を含有するアルコールであり、芳香環がＯＨ基と直接結合したものだけでなく、芳香環がアルキレン基などを介してＯＨ基と結合したものも含む。芳香環含有モノアルコールから誘導される１価の基の例には、ベンジルアルコール、３−フェニルプロパノールなどから誘導される１価の基が含まれる。

脂肪族モノアルコールから誘導される１価の基の例には、メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、ブタノール、イソブタノール、ペンタノール、イソペンタノール、ヘキサノール、イソヘキサノール、シクロヘキシルアルコール、オクタノール、イソオクタノール、２−エチルヘキシルアルコール、ノニルアルコール、イソノニルアルコール、ｔｅｒｔ−ノニルアルコール、デカノール、ドデカノール、ドデカヘキサノール、ドデカオクタノール、アリルアルコール、オレイルアルコールなどから誘導される１価の基が含まれる。なかでも、メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノールなどの炭素原子数１〜３のアルコールから誘導される１価の基が好ましい。

ポリエステル化合物の重量平均分子量は、３００〜１５００であることが好ましく、４００〜１０００であることがより好ましい。重量平均分子量が３００未満であるポリエステル化合物が、光学フィルムから染み出しやすいことがある。

ポリエステル化合物の具体例を、以下に示す。まず、「芳香族基」で両末端を封止したポリエステル化合物の具体例を示す。

次に、「脂肪族基」で両末端を封止したポリエステル化合物の具体例を、以下に示す。

Ｐ−１：アジピン酸／フタル酸／エタンジオール（１／１／２ モル比）からなる縮合物（重量平均分子量９５０）の両末端のアセチルエステル化体
Ｐ−２：コハク酸／フタル酸／エタンジオール／（１／１／２ モル比）からなる縮合物（重量平均分子量２５００）の両末端のアセチルエステル化体
Ｐ−３：グルタル酸／イソフタル酸／１，３−プロパンジオール（１／１／２ モル比）からなる縮合物（重量平均分子量１３００）の両末端のアセチルエステル化体
Ｐ−４： コハク酸／グルタル酸／アジピン酸／テレフタル酸／イソフタル酸／エタンジオール／１，２−プロパンジオール（１／１／１／１／１／３／２ モル比）からなる縮合物（数平均分子量３０００）の両末端のプロピルエステル化体
Ｐ−５： コハク酸／フタル酸／エタンジオール／（１／１／２ モル比）からなる縮合物（重量平均分子量２１００）の両末端のブチルエステル化体
Ｐ−６： アジピン酸／テレフタル酸／１，２−プロパンジオール（１／１／２ モル比）からなる縮合物（数平均分子量２５００）の両末端の２−エチルヘキシルエステル化体
Ｐ−７： コハク酸／テレフタル酸／ポリ（平均重合度５）プロピレンエーテルグリコール／１，２−プロパンジオール（２／１／１／２モル比）からなる縮合物（重量平均分子量３５００）の両末端の２−エチルヘキシルエステル化体

多価アルコールエステル化合物は、２価以上の脂肪族多価アルコールと、モノカルボン酸とのエステル化合物（アルコールエステル）であり、好ましくは２〜２０価の脂肪族多価アルコールエステルである。多価アルコールエステル化合物は、分子内に芳香環またはシクロアルキル環を有することが好ましい。

脂肪族多価アルコールの好ましい例には、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、１，２−プロパンジオール、１，３−プロパンジオール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール、１，２−ブタンジオール、１，３−ブタンジオール、１，４−ブタンジオール、ジブチレングリコール、１，２，４−ブタントリオール、１，５−ペンタンジオール、１，６−ヘキサンジオール、ヘキサントリオール、トリメチロールプロパン、ペンタエリスリトール、トリメチロールエタン、キシリトール等が含まれる。なかでも、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール、ソルビトール、トリメチロールプロパン、キシリトールなどが好ましい。

モノカルボン酸は、特に制限はなく、脂肪族モノカルボン酸、脂環式モノカルボン酸または芳香族モノカルボン酸等でありうる。フィルムの透湿性を高め、かつ揮発しにくくするためには、脂環式モノカルボン酸または芳香族モノカルボン酸が好ましい。モノカルボン酸は、一種類であってもよいし、二種以上の混合物であってもよい。また、脂肪族多価アルコールに含まれるＯＨ基の全部をエステル化してもよいし、一部をＯＨ基のままで残してもよい。

脂肪族モノカルボン酸は、炭素数１〜３２の直鎖または側鎖を有する脂肪酸であることが好ましい。脂肪族モノカルボン酸の炭素数はより好ましくは１〜２０であり、さらに好ましくは１〜１０である。脂肪族モノカルボン酸の例には、酢酸、プロピオン酸、酪酸、吉草酸、カプロン酸、エナント酸、カプリル酸、ペラルゴン酸、カプリン酸、２−エチル−ヘキサン酸、ウンデシル酸、ラウリン酸、トリデシル酸、ミリスチン酸、ペンタデシル酸、パルミチン酸、ヘプタデシル酸、ステアリン酸、ノナデカン酸、アラキン酸、ベヘン酸、リグノセリン酸、セロチン酸、ヘプタコサン酸、モンタン酸、メリシン酸、ラクセル酸等の飽和脂肪酸；ウンデシレン酸、オレイン酸、ソルビン酸、リノール酸、リノレン酸、アラキドン酸等の不飽和脂肪酸等が含まれる。なかでも、セルロースアセテートとの相溶性を高めるためには、酢酸、または酢酸とその他のモノカルボン酸との混合物が好ましい。

脂環式モノカルボン酸の例には、シクロペンタンカルボン酸、シクロヘキサンカルボン酸、シクロオクタンカルボン酸などが含まれる。

芳香族モノカルボン酸の例には、安息香酸；安息香酸のベンゼン環にアルキル基またはアルコキシ基（例えばメトキシ基やエトキシ基）を１〜３個を導入したもの（例えばトルイル酸など）；ベンゼン環を２個以上有する芳香族モノカルボン酸（例えばビフェニルカルボン酸、ナフタリンカルボン酸、テトラリンカルボン酸など）が含まれ、好ましくは安息香酸である。

多価アルコールエステル化合物の具体例を以下に示す。２価のアルコールエステル化合物の例には、以下のものが含まれる。

３価以上のアルコールエステル化合物の例には、以下の化合物が含まれる。

多価カルボン酸エステル化合物は、２価以上、好ましくは２〜２０価の多価カルボン酸と、アルコール化合物とのエステル化合物である。多価カルボン酸は、２〜２０価の脂肪族多価カルボン酸であるか、３〜２０価の芳香族多価カルボン酸または３〜２０価の脂環式多価カルボン酸であることが好ましい。

多価カルボン酸の例には、トリメリット酸、トリメシン酸、ピロメリット酸のような３価以上の芳香族多価カルボン酸またはその誘導体、コハク酸、アジピン酸、アゼライン酸、セバシン酸、シュウ酸、フマル酸、マレイン酸、テトラヒドロフタル酸のような脂肪族多価カルボン酸、酒石酸、タルトロン酸、リンゴ酸、クエン酸のようなオキシ多価カルボン酸などが含まれ、フィルムからの揮発を抑制するためには、オキシ多価カルボン酸が好ましい。

アルコール化合物の例には、直鎖もしくは側鎖を有する脂肪族飽和アルコール化合物、直鎖もしくは側鎖を有する脂肪族不飽和アルコール化合物、脂環式アルコール化合物または芳香族アルコール化合物などが含まれる。脂肪族飽和アルコール化合物または脂肪族不飽和アルコール化合物の炭素数は、好ましくは１〜３２であり、より好ましくは１〜２０であり、さらに好ましくは１〜１０である。脂環式アルコール化合物の例には、シクロペンタノール、シクロヘキサノールなどが含まれる。芳香族アルコール化合物の例には、ベンジルアルコール、シンナミルアルコールなどが含まれる。

多価カルボン酸エステル化合物の分子量は、特に制限はないが、３００〜１０００であることが好ましく、３５０〜７５０であることがより好ましい。多価カルボン酸エステル系可塑剤の分子量は、ブリードアウトを抑制する観点では、大きいほうが好ましく；透湿性やセルロースアセテートとの相溶性の観点では、小さいほうが好ましい。

多価カルボン酸エステル化合物の例には、トリエチルシトレート、トリブチルシトレート、アセチルトリエチルシトレート（ＡＴＥＣ）、アセチルトリブチルシトレート（ＡＴＢＣ）、ベンゾイルトリブチルシトレート、アセチルトリフェニルシトレート、アセチルトリベンジルシトレート、酒石酸ジブチル、酒石酸ジアセチルジブチル、トリメリット酸トリブチル、ピロメリット酸テトラブチル等が含まれる。

多価カルボン酸エステル化合物は、フタル酸エステル化合物であってもよい。フタル酸エステル化合物の例には、ジエチルフタレート、ジメトキシエチルフタレート、ジメチルフタレート、ジオクチルフタレート、ジブチルフタレート、ジ−２−エチルヘキシルフタレート、ジオクチルフタレート、ジシクロヘキシルフタレート、ジシクロヘキシルテレフタレート等が含まれる。

グリコレート化合物の例には、アルキルフタリルアルキルグリコレート類が含まれる。アルキルフタリルアルキルグリコレート類の例には、メチルフタリルメチルグリコレート、エチルフタリルエチルグリコレート、プロピルフタリルプロピルグリコレート、ブチルフタリルブチルグリコレート、オクチルフタリルオクチルグリコレート、メチルフタリルエチルグリコレート、エチルフタリルメチルグリコレート、エチルフタリルプロピルグリコレート、メチルフタリルブチルグリコレート、エチルフタリルブチルグリコレート、ブチルフタリルメチルグリコレート、ブチルフタリルエチルグリコレート、プロピルフタリルブチルグリコレート、ブチルフタリルプロピルグリコレート、メチルフタリルオクチルグリコレート、エチルフタリルオクチルグリコレート、オクチルフタリルメチルグリコレート、オクチルフタリルエチルグリコレート等が含まれ、好ましくはエチルフタリルエチルグリコレートである。

エステル化合物には、脂肪酸エステル化合物、クエン酸エステル化合物やリン酸エステル化合物などが含まれる。

脂肪酸エステル化合物の例には、オレイン酸ブチル、リシノール酸メチルアセチル、およびセバシン酸ジブチル等が含まれる。クエン酸エステル化合物の例には、クエン酸アセチルトリメチル、クエン酸アセチルトリエチル、およびクエン酸アセチルトリブチル等が含まれる。リン酸エステル化合物の例には、トリフェニルホスフェート、トリクレジルホスフェート、クレジルジフェニルホスフェート、オクチルジフェニルホスフェート、ビフェニルジフェニルホスフェート、トリオクチルホスフェート、およびトリブチルホスフェート等が含まれ、好ましくはトリフェニルホスフェートである。

なかでも、ポリエステル化合物、グリコレート化合物、リン酸エステル化合物が好ましく、ポリエステル化合物、エチルフタリルエチルグリコレート、トリフェニルホスフェートがより好ましい。

可塑剤とセルロースエステルとの相溶性を高めるためには、可塑剤のＦｅｄｏｒｓの溶解度パラメータ（ＳＰ値）が、セルロースエステルのそれと近い範囲にあることが好ましく、具体的には、９〜１１の範囲にあることがより好ましい。

本発明におけるＳＰ値は、Ｆｅｄｏｒｓのパラメーターを用いて計算により求めることができる。ＳＰ値の単位は、凝集エネルギー密度△Ｅをモル体積Ｖで除した値の平方根で、「（ｃｍ^３／ｃａｌ）^１／２」を用いることができる。Ｆｅｄｏｒｓのパラメーターは、参考文献：コーティングの基礎科学 原田勇次著 槇書店（１９７７）のｐ５４〜５７に記載されている。

可塑剤の含有量は、セルロースアセテートに対して好ましくは１〜２０質量％であり、より好ましくは１．５〜１５質量％である。可塑剤の含有量が１質量％未満であると、可塑性の付与効果が十分でないことがある。一方、可塑剤の含有量が２０質量％超であると、光学フィルムにおいて可塑剤が染み出しやすくなる。

微粒子（マット剤）
光学フィルムは、表面の滑り性を高めるためなどから、必要に応じて微粒子（マット剤）をさらに含有してもよい。

微粒子は、無機微粒子であっても有機微粒子であってもよい。無機微粒子の例には、二酸化珪素（シリカ）、二酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、炭酸カルシウム、炭酸カルシウム、タルク、クレイ、焼成カオリン、焼成ケイ酸カルシウム、水和ケイ酸カルシウム、ケイ酸アルミニウム、ケイ酸マグネシウムおよびリン酸カルシウムなどが含まれる。なかでも、二酸化珪素や酸化ジルコニウムが好ましく、得られるフィルムのヘイズの増大を少なくするためには、より好ましくは二酸化珪素である。

二酸化珪素の微粒子の例には、アエロジルＲ９７２、Ｒ９７２Ｖ、Ｒ９７４、Ｒ８１２、２００、２００Ｖ、３００、Ｒ２０２、ＯＸ５０、ＴＴ６００、ＮＡＸ５０（以上日本アエロジル（株）製）、シーホスターＫＥ−Ｐ１０、ＫＥ−Ｐ３０、ＫＥ−Ｐ５０、ＫＥ−Ｐ１００（以上日本触媒（株）製）などが含まれる。なかでも、アエロジルＲ９７２Ｖ、ＮＡＸ５０、シーホスターＫＥ−Ｐ３０などが、得られるフィルムの濁度を低く保ちつつ、摩擦係数を低減させうるため特に好ましい。

微粒子の一次粒子径は、５〜５０ｎｍであることが好ましく、７〜２０ｎｍであることがより好ましい。一次粒子径が大きいほうが、得られるフィルムの滑り性を高める効果は大きいが、透明性が低下しやすい。そのため、微粒子は、粒子径０．０５〜０．３μｍの二次凝集体として含有されていてもよい。微粒子の一次粒子またはその二次凝集体の大きさは、透過型電子顕微鏡にて倍率５０万〜２００万倍で一次粒子または二次凝集体を観察し、一次粒子または二次凝集体１００個の粒子径の平均値として求めることができる。

微粒子の含有量は、低置換度成分を含むセルロースアセテート全体に対して０．０５〜１．０質量％であることが好ましく、０．１〜０．８質量％であることがより好ましい。

光学フィルムの物性
光学フィルムの厚みは、熱や湿度によるレターデーションの変動を少なくするためなどから、好ましくは２００μｍ以下、より好ましくは１００μｍ以下であり、さらに好ましくは５０μｍ以下であり、特に好ましくは３５μｍである。一方、光学フィルムの厚みは、保護フィルムとして機能しうるフィルム強度やレターデーションを得るためには、好ましくは１０μｍ以上であり、より好ましくは２０μｍ以上である。なかでも、光学フィルムの厚みは、２０〜５０μｍであることが好ましい。

光学フィルムが、位相差調整機能を有しない保護フィルムである場合、２３℃、５５％ＲＨの環境下で、波長５９０ｎｍにて測定される面内方向のレターデーションＲｏは０ｎｍ以上３０ｎｍ以下であることが好ましく、０ｎｍ以上１０ｎｍ以下であることがより好ましい。厚み方向のレターデーションＲｔｈは、０ｎｍ以上７０ｍ以下であることが好ましく、０ｎｍ以上５０ｎｍ以下であることがより好ましい。

レターデーションＲｏおよびＲｔｈは、それぞれ以下の式で定義される。
式（Ｉ） Ｒｏ＝（ｎｘ−ｎｙ）×ｄ
式（II） Ｒｔｈ＝｛（ｎｘ＋ｎｙ）／２−ｎｚ｝×ｄ
（ｎｘ：フィルム面内の遅相軸方向ｘの屈折率、ｎｙ：フィルム面内において、遅相軸方向ｘに対して直交する方向ｙの屈折率、ｎｚ：フィルムの厚み方向ｚの屈折率、ｄ：フィルムの厚み（ｎｍ））

レターデーションＲ_０およびＲｔｈは、例えば以下の方法によって測定することができる。
１）光学フィルムを、２３℃５５％ＲＨで調湿する。調湿後の光学フィルムの平均屈折率をアッベ屈折計などで測定する。
２）調湿後の光学フィルムに、当該フィルム表面の法線に平行に測定波長５９０ｎｍの光を入射させたときのＲ_０を、ＫＯＢＲＡ２１ＡＤＨ、王子計測（株）にて測定する。
３）ＫＯＢＲＡ２１ＡＤＨにより、光学フィルムの面内の遅相軸を傾斜軸（回転軸）として、光学フィルムの表面の法線に対してθの角度（入射角（θ））から測定波長５９０ｎｍの光を入射させたときのレターデーション値Ｒ（θ）を測定する。レターデーション値Ｒ（θ）の測定は、θが０°〜５０°の範囲で、１０°毎に６点行うことができる。光学フィルムの面内の遅相軸は、ＫＯＢＲＡ２１ＡＤＨにより確認することができる。
４）測定されたＲ_０およびＲ（θ）と、前述の平均屈折率と膜厚とから、ＫＯＢＲＡ２１ＡＤＨにより、ｎｘ、ｎｙおよびｎｚを算出して、測定波長５９０ｎｍでのＲｔｈを算出する。レターデーションの測定は、２３℃５５％ＲＨ条件下で行うことができる。

光学フィルムの面内遅相軸とフィルムの幅方向とのなす角θ１（配向角）は、好ましくは−１°〜＋１°であり、さらに好ましくは−０．５°〜＋０．５°である。光学フィルムの配向角θ１の測定は、自動複屈折計ＫＯＢＲＡ−ＷＲ（王子計測機器）を用いて測定することができる。

光学フィルムの、ＪＩＳ Ｋ−７１３６に準拠して測定される内部ヘイズは、０．０１〜０．１であることが好ましい。光学フィルムの可視光透過率は、９０％以上であることが好ましく、９３％以上であることがより好ましい。

光学フィルムは、好ましくは液晶表示装置用の光学フィルムであり、その具体例には、偏光板保護フィルム、位相差フィルム（光学補償フィルム）、反射防止フィルム、防眩フィルム、ハードコートフィルムなどが含まれ、より好ましくは反射防止フィルム、防眩フィルム、ハードコートフィルムなどである。

２．光学フィルムのロール体の製造方法
本発明の光学フィルムのロール体は、１）少なくともセルロースアセテートと、添加剤とを溶剤に溶解させてドープを調製する工程、２）ドープを無端の金属支持体上に流延する工程、３）流延したドープから溶媒を蒸発させてウェブを得る工程、４）ウェブを金属支持体から剥離する工程、５）ウェブを乾燥後、延伸してフィルムを得る工程、６）フィルムの幅方向両端部にエンボス加工を施す工程、７）フィルムを巻き取る工程、を経て得ることができる。

１）ドープを調製する工程
溶解釜において、セルロースアセテートと、添加剤とを溶剤に溶解させてドープを調製する。

ドープに含まれる溶剤は、１種類でも２種以上を組み合わせたものでもよい。生産効率を高める観点では、セルロースアセテートの良溶剤と貧溶剤を組み合わせて用いることが好ましい。良溶剤とは、セルロースアセテートを単独で溶解する溶剤をいい、貧溶剤とは、セルロースアセテートを膨潤させるか、または単独では溶解しないものをいう。そのため、良溶剤および貧溶剤は、セルロースアセテートの平均アシル基置換度（アセチル基置換度）によって異なる。

良溶剤の例には、ジクロロメタン等の有機ハロゲン化合物、ジオキソラン類、アセトン、酢酸メチル、およびアセト酢酸メチルなどが含まれ、好ましくはジクロロメタンまたは酢酸メチルなどである。

貧溶剤の例には、メタノール（ＳＰ値１４．５）、エタノール（ＳＰ値１２．７）、ｎ−ブタノール（ＳＰ値１１．４）、シクロヘキサン、およびシクロヘキサノン等が含まれる。ロール体を構成する光学フィルムにおける添加剤の染み出しを抑制するためには、添加剤との親和性が低い貧溶剤；即ち、添加剤のＳＰ値との差の絶対値が大きい貧溶剤が好ましく、メタノールが好ましい。

貧溶剤は、一種類でも、二種類以上の混合物であってもよい。貧溶剤が二種類以上の貧溶剤の混合物である場合、添加剤のＳＰ値との差の絶対値が大きい貧溶剤の含有割合が最も多いことが好ましい。

良溶剤と貧溶剤を組み合わせて用いる場合、セルロースアセテートの溶解性を高めるためには、良溶剤が貧溶剤よりも多いことが好ましい。良溶剤と貧溶剤の混合比率は、良溶剤が７０〜９８質量％であり、貧溶剤が２〜３０質量％であることが好ましい。

ドープにおけるセルロースアセテートの濃度は、乾燥負荷を低減するためには高いほうが好ましいが、セルロースアセテートの濃度が高すぎるとろ過しにくい。そのため、ドープにおけるセルロースアセテートの濃度は、好ましくは１０〜３５質量％であり、より好ましくは１５〜２５質量％である。

セルロースアセテートを溶剤に溶解させる方法は、例えば加熱および加圧下で溶解させる方法、セルロースアセテートに貧溶剤を加えて膨潤させた後、良溶剤をさらに加えて溶解させる方法、および冷却溶解法などでありうる。

なかでも、常圧における沸点以上に加熱できることから、加熱および加圧下で溶解させる方法が好ましい。具体的には、常圧下で溶剤の沸点以上であり、かつ加圧下で溶剤が沸騰しない範囲の温度に加熱しながら攪拌溶解すると、ゲルやママコと呼ばれる塊状未溶解物の発生を抑制できる。

加熱温度は、セルロースアセテートの溶解性を高める観点では、高いほうが好ましいが、高過ぎると、圧力を高める必要があり、生産性が低下する。このため、加熱温度は、４５〜１２０℃であることが好ましく、６０〜１１０℃がより好ましく、７０℃〜１０５℃であることがさらに好ましい。

得られるドープには、例えば原料であるセルロースアセテートに含まれる不純物などの不溶物が含まれることがある。このような不溶物は、得られるフィルムにおいて輝点異物となりうる。このような不溶物等を除去するために、得られたドープをさらに濾過することが好ましい。

２）ドープを無端状の金属支持体上に流延する工程
ドープを、加圧ダイのスリットから無端状の金属支持体（例えばステンレスベルトや回転する金属ドラムなど）上に流延させる。

ダイは、口金部分のスリット形状を調整でき、膜厚を均一に調整しやすい加圧ダイが好ましい。加圧ダイの例には、コートハンガーダイ、Ｔ−ダイなどが含まれる。金属支持体の表面は、鏡面加工されていることが好ましい。

３）流延したドープから溶媒を蒸発させてウェブを得る工程
ドープ膜を金属支持体上で加熱して溶剤を蒸発させて、ウェブを得る。

ドープ膜の乾燥は、４０〜１００℃の雰囲気下で行うことが好ましい。ドープ膜を４０〜１００℃の雰囲気下で乾燥させるためには、４０〜１００℃の温風をウェブ上面に当てたり、赤外線などで加熱したりすることが好ましい。

溶媒を蒸発させる方法としては、ドープ膜の表面に風を当てる方法、ベルトの裏面から液体により伝熱させる方法、輻射熱により表裏から伝熱する方法などがあるが、乾燥効率が高いことから、ベルトの裏面から液体により伝熱させる方法が好ましい。

得られるウェブの面品質や透湿性、剥離性などを高める観点から、流延後、３０〜１２０秒以内で、ウェブを金属支持体から剥離することが好ましい。

４）ウェブを金属支持体から剥離する工程
得られたウェブを、金属支持体上の剥離位置で剥離する。金属支持体上の剥離位置における温度は、好ましくは１０〜４０℃であり、さらに好ましくは１１〜３０℃である。

金属支持体上の剥離位置で剥離する際のウェブの残留溶媒量は、乾燥条件や金属支持体の長さなどにもよるが、５０〜１２０質量％とすることが好ましい。残留溶媒量が多いウェブは、柔らか過ぎて平面性を損ないやすく、剥離張力による流延方向（ＭＤ方向）のシワやスジが発生し易い。そのような流延方向（ＭＤ方向）のシワやスジを抑制できるように、剥離位置でのウェブの残留溶媒量が設定されうる。
ウェブの残留溶媒量は、下記式で定義される。
残留溶媒量（％）＝（ウェブの加熱処理前質量−ウェブの加熱処理後質量）／（ウェブの加熱処理後質量）×１００
なお、残留溶媒量を測定する際の加熱処理とは、１１５℃で１時間の加熱処理を意味する。

金属支持体からウェブを剥離する際の剥離張力は、通常、３００Ｎ／ｍ以下としうる。

５）ウェブを乾燥後、延伸してフィルムを得る工程
金属支持体から剥離して得られたウェブを乾燥させる。ウェブの乾燥は、ウェブを、上下に配置した多数のロールにより搬送しながら乾燥させてもよいし、ウェブの両端部をクリップで固定して搬送しながら乾燥させてもよい。

ウェブの乾燥方法は、熱風、赤外線、加熱ロールおよびマイクロ波等で乾燥する方法であってよく、簡便であることから熱風で乾燥する方法が好ましい。ウェブの乾燥温度は、４０〜２５０℃程度、好ましくは４０〜１６０℃程度としうる。

ウェブの延伸により、所望のレターデーションを有する光学フィルムを得る。光学フィルムのレターデーションは、ウェブに掛かる張力の大きさを調整することで制御することができる。

ウェブの延伸は、幅方向（ＴＤ方向）、ドープの流延方向（ＭＤ方向）、または斜め方向の延伸であり、少なくとも幅方向（ＴＤ方向）に延伸することが好ましい。ウェブの延伸は、一軸延伸であっても、二軸延伸であってもよい。二軸延伸は、好ましくはドープの流延方向（ＭＤ方向）と幅方向（ＴＤ方向）への延伸である。二軸延伸は、逐次二軸延伸であっても同時二軸延伸であってもよい。

逐次二軸延伸には、延伸方向の異なる延伸を順次行う方法や、同一方向の延伸を多段階に分けて行う方法などが含まれる。逐次二軸延伸の例には、以下のような延伸ステップが含まれる。
流延方向（ＭＤ方向）に延伸−幅方向（ＴＤ方向）に延伸−流延方向（ＭＤ方向）に延伸−流延方向（ＭＤ方向）に延伸
幅方向（ＴＤ方向）に延伸−幅方向に延伸（ＴＤ方向）−流延方向（ＭＤ方向）に延伸−流延方向（ＭＤ方向）に延伸

同時二軸延伸には、一方向に延伸し、もう一方の方向の張力を緩和して収縮させる態様も含まれる。

延伸倍率は、得られる光学フィルムの厚みや、求められるレターデーション値にもよるが、最終的には、流延方向に０．８〜１．５倍、好ましくは０．８〜１．１倍とし；幅方向に１．１〜２．０倍、好ましくは１．３〜１．７倍としうる。

ウェブの延伸温度は、好ましくは１２０℃〜２００℃とし、より好ましくは１５０℃〜２００℃とし、さらに好ましくは１５０℃超１９０℃以下としうる。

ウェブの延伸方法は、特に制限されず、複数のロールに周速差をつけ、その間でロール周速差を利用して流延方向（ＭＤ方向）に延伸する方法（ロール延伸法）、ウェブの両端をクリップやピンで固定し、クリップやピンの間隔を流延方向（ＭＤ方向）に向かって広げて流延方向（ＭＤ方向）に延伸したり、幅方向（ＴＤ方向）に広げて幅方向（ＴＤ方向）に延伸したり、流延方向（ＭＤ方向）と幅方向（ＴＤ方向）の両方に広げて流延方向（ＭＤ方向）と幅方向（ＴＤ方向）の両方に延伸する方法など（テンター延伸法）などが挙げられる。これらの延伸方法は、組み合わせてもよい。

延伸開始時のウェブの残留溶媒は、好ましくは２０質量％以下とし、より好ましくは１５質量％以下としうる。

フィルムに残留する溶剤量を低減するために、延伸後に得られるフィルムを、さらに乾燥させる。乾燥温度は、１１０〜１９０℃であることが好ましく、１２０〜１７０℃であることがより好ましい。乾燥温度が低すぎると、溶剤を十分に蒸発除去させにくい。フィルムの乾燥方法は、例えばフィルムを搬送させながら、熱風を当てる方法などでありうる。

６）フィルムの幅方向両端部にエンボス加工を施す工程
延伸後に得られたフィルムの幅方向両端部にエンボス加工を施す。図５は、エンボス加工装置２０の一例を示す模式図である。図５に示されるように、エンボス加工装置は、エンボスロール２２と、光学フィルム１４を介してエンボスロール２２と対向配置されたバックロール２４とを有する。

エンボスロール２２のロール径は、３０〜６０ｃｍであることが好ましく、３０〜５０ｃｍであることがより好ましい。エンボスロールのロール径が６０ｃｍ超であると、（エンボスロールの内部に配置される）熱源とエンボスロールの表面との距離が大きすぎるため、エンボスロールの表面において温度ムラが生じることがある。そのため、形成されるエンボス部に弾性率が高い部分と低い部分とが生じ、弾性率が低い部分がつぶれやすい。一方、エンボスロールのロール径が３０ｃｍ未満であると、回転軸がブレやすく；形成されるエンボスの凸部の高さがばらつきやすい。設定した高さよりも高く形成されたエンボス部は、つぶれやすい傾向がある。

バックロールの材質は、エンボス部が形成されたフィルムを均一に冷却させるためなどから、金属製であることが好ましい。金属の種類は、例えばＳＵＳなどでありうる。金属製のバックロールは、例えばゴム製のバックロールよりも、フィルムを均一に冷却しやすいため、セルロースアセテートを均一に結晶化させやすく、高い強度（高い弾性率）を有するエンボス部を形成することができる。

エンボスロール２２とバックロール２４との間のクリアランスは、１μｍ〜３０μｍ程度とし、好ましくは１〜１５μｍ程度としうる。エンボスロール２２とバックロール２４とによるニップ圧は、１００〜１００００Ｐａ程度としうる。

そして、エンボスロール２２とバックロール２４とで、光学フィルム１４の幅方向両端部をニップして、フィルムの幅方向両端部にエンボス加工を施す。

エンボスロール２２の表面温度は、２５０〜３５０℃とすることが好ましく、２６０〜３００℃とすることがより好ましい。エンボスロール２２の表面温度が２５０℃未満であると、フィルムを十分に溶融させることができないため、冷却しても、セルロースアセテートを十分に結晶化させにくく、強度の高いエンボス部を形成しにくい。一方、エンボスロールの表面温度が３５０℃超であると、フィルムが溶融しすぎて、フィルムの溶融物がエンボスロールに貼り付きやすい。

バックロール２４の表面温度は、エンボスロール２２の表面温度にもよるが、５０〜１００℃とすることが好ましく、５０〜８０℃とすることがより好ましい。バックロールの表面温度が５０℃未満であると、フィルムが急速に冷却されすぎるため、セルロースアセテートを均一に結晶化させにくく、弾性率の高いエンボス部が得られにくい。一方、バックロールの表面温度が１００℃超であると、フィルムに含まれるセルロースアセテートを冷却しにくいことから、結晶化させにくいだけでなく、フィルムが熱膨張して、エンボス部付近のフィルムの表裏面が波打ちやすい。エンボス部付近のフィルムの表裏面の波打ちが生じると、フィルム同士が貼りつきやすく、フィルムが裂けやすくなる。

エンボス加工時のフィルムの搬送速度は、８０〜１２０ｍ／分であることが好ましく、９０〜１２０ｍ／分であることがより好ましい。フィルムの搬送速度が８０ｍ／分未満であると、生産性が低下しやすい。一方、フィルムの搬送速度が１２０ｍ／分超であると、エンボスロールの圧力や、エンボスロールやバックロールの熱がフィルムに均一に伝わりにくい。それにより、フィルムに含まれるセルロースアセテートを均一に結晶化させにくく、強度の高いエンボス部が得られにくい。

つまり、つぶれにくいエンボス部を形成するためには、１）エンボスロールでセルロースアセテートを十分に溶融させて、２）バックロールで溶融したセルロースアセテートをゆっくりと冷却して結晶化させることが重要と考えられる。そのためには、１）エンボスロールの表面温度、２）バックロールの表面温度、３）エンボスロールのロール径、および４）バックロールの材質のうち少なくとも二以上を種々組み合わせて調整することが好ましい。なかでも、１）エンボスロールの表面温度と２）バックロールの表面温度を、それぞれ前述の範囲に調整することが好ましく；さらに３）エンボスロール径を前述の範囲に調整することがより好ましく；さらに４）バックロールの材質を選択することが特に好ましい。

７）フィルムを巻き取る工程
得られた長尺状の光学フィルムを、巻き取り機を用いて、フィルムの長さ方向（幅方向に対して垂直方向）に巻き取る。

巻き取り方法は、特に制限されず、定トルク法、定テンション法、テーパーテンション法などでありうる。

光学フィルムを巻き取る際の、巻き取り張力は、５０〜１７０Ｎ程度としうる。

３．偏光板
本発明の偏光板は、偏光子と、その少なくとも一方の面に配置され、本発明の光学フィルムのロール体から得られる光学フィルムとを含む。本発明の光学フィルムのロール体から得られる光学フィルムは、エンボス部がスリット除去されて得られる光学フィルムである。光学フィルムは、偏光子上に直接配置されてもよいし、他のフィルムまたは層を介して配置されてもよい。

偏光子は、一定方向の偏波面の光のみを通過させる素子である。偏光子の代表的な例は、ポリビニルアルコール系偏光フィルムであり、ポリビニルアルコール系フィルムにヨウ素を染色させたものと、二色性染料を染色させたものと、がある。

偏光子は、ポリビニルアルコール系フィルムを一軸延伸した後、ヨウ素または二色性染料で染色して得られるフィルムであってもよいし、ポリビニルアルコール系フィルムをヨウ素または二色性染料で染色した後、一軸延伸したフィルム（好ましくはさらにホウ素化合物で耐久性処理を施したフィルム）であってもよい。偏光子の厚さは、５〜３０μｍであることが好ましく、１０〜２０μｍであることがより好ましい。

ポリビニルアルコール系フィルムは、ポリビニルアルコール水溶液を製膜したものであってもよい。ポリビニルアルコール系フィルムは、偏光性能および耐久性能に優れ、色斑が少ないなどことから、エチレン変性ポリビニルアルコールフィルムが好ましい。エチレン変性ポリビニルアルコールフィルムの例には、特開２００３−２４８１２３号公報、特開２００３−３４２３２２号公報等に記載されたエチレン単位の含有量１〜４モル％、重合度２０００〜４０００、けん化度９９．０〜９９．９９モル％のフィルムが含まれる。

二色性色素の例には、アゾ系色素、スチルベン系色素、ピラゾロン系色素、トリフェニルメタン系色素、キノリン系色素、オキサジン系色素、チアジン系色素およびアントラキノン系色素などが含まれる。

偏光子の一方の面に前述の光学フィルムが配置される場合、偏光子の他方の面には、前述の光学フィルム以外の透明保護フィルムが配置されてもよい。透明保護フィルムの例には、市販のセルロースエステルフィルム（例えば、コニカミノルタタック ＫＣ８ＵＸ、ＫＣ５ＵＸ、ＫＣ８ＵＣＲ３、ＫＣ８ＵＣＲ４、ＫＣ８ＵＣＲ５、ＫＣ８ＵＹ、ＫＣ６ＵＹ、ＫＣ４ＵＹ、ＫＣ４ＵＥ、ＫＣ８ＵＥ、ＫＣ８ＵＹ−ＨＡ、ＫＣ８ＵＸ−ＲＨＡ、ＫＣ８ＵＸＷ−ＲＨＡ−Ｃ、ＫＣ８ＵＸＷ−ＲＨＡ−ＮＣ、ＫＣ４ＵＸＷ−ＲＨＡ−ＮＣ、以上コニカミノルタオプト（株）製）が好ましく用いられる。

透明保護フィルムの厚みは、特に制限されないが、１０〜２００μｍ程度とすることができ、好ましくは１０〜１００μｍであり、より好ましくは１０〜７０μｍである。

本発明の偏光板は、本発明のロール体における光学フィルムのエンボス部を除去するステップと、エンボス部が除去された光学フィルムと、偏光子とを貼り合わせるステップと、を経て製造されうる。

貼り合わせに用いられる接着剤は、例えば完全鹸化型ポリビニルアルコール水溶液などが好ましく用いられる。

４．液晶表示装置
本発明の液晶表示装置は、液晶セルと、それを挟持する一対の偏光板とを有する。そして、一対の偏光板のうち少なくとも一方が、本発明の光学フィルムのロール体から得られる光学フィルムを含む。

図６は、本発明に係る液晶表示装置の一実施形態の基本構成を示す模式図である。図６に示されるように、液晶表示装置３０は、液晶セル４０と、それを挟持する第一の偏光板５０および第二の偏光板６０と、バックライト７０と、を有する。

液晶セル４０の表示方式は、特に制限されず、ＴＮ（Ｔｗｉｓｔｅｄ Ｎｅｍａｔｉｃ）方式、ＳＴＮ（Ｓｕｐｅｒ Ｔｗｉｓｔｅｄ Ｎｅｍａｔｉｃ）方式、ＩＰＳ（Ｉｎ−Ｐｌａｎｅ Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）方式、ＯＣＢ（Ｏｐｔｉｃａｌｌｙ Ｃｏｍｐｅｎｓａｔｅｄ Ｂｉｒｅｆｒｉｎｇｅｎｃｅ）方式、ＶＡ（Ｖｅｒｔｉｃａｌ Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）方式（ＭＶＡ；Ｍｕｌｔｉ−ｄｏｍａｉｎ Ｖｅｒｔｉｃａｌ ＡｌｉｇｎｍｅｎｔやＰＶＡ；Ｐａｔｔｅｒｎｅｄ Ｖｅｒｔｉｃａｌ Ａｌｉｇｎｍｅｎｔも含む）、ＨＡＮ（Ｈｙｂｒｉｄ Ａｌｉｇｎｅｄ Ｎｅｍａｔｉｃ）方式等がある。コントラストを高めるためには、ＶＡ（ＭＶＡ、ＰＶＡ）方式が好ましい。

ＶＡ方式の液晶セルは、一対の透明基板と、それらの間に挟持された液晶層とを有する。

一対の透明基板のうち、一方の透明基板には、液晶分子に電圧を印加するための画素電極が配置される。対向電極は、（画素電極が配置された）前記一方の透明基板に配置されてもよいし、他方の透明基板に配置されてもよく、開口率を高めるためには、（画素電極が配置された）前記一方の透明基板に配置されることが好ましい。

液晶層は、負または正の誘電率異方性を有する液晶分子を含む。液晶分子は、透明基板の液晶層側の面に設けられた配向膜の配向規制力により、電圧無印加時（画素電極と対向電極との間に電界が生じていない時）には、液晶分子の長軸が、透明基板の表面に対して略垂直となるように配向している。

このように構成された液晶セルでは、画素電極に画像信号（電圧）を印加することで、画素電極と対向電極との間に電界を生じさせる。これにより、透明基板の表面に対して垂直に初期配向している液晶分子を、その長軸が基板面に対して水平方向となるように配向させる。このように、液晶層を駆動し、各副画素の透過率および反射率を変化させて画像表示を行う。

第一の偏光板５０は、視認側に配置されており、第一の偏光子５２と、それを挟持する保護フィルム５４（Ｆ１）および５６（Ｆ２）とを有する。第二の偏光板６０は、バックライト７０側に配置されており、第二の偏光子６２と、それを挟持する保護フィルム６４（Ｆ３）および６６（Ｆ４）とを有する。保護フィルム５６（Ｆ２）と６４（Ｆ３）の一方は、必要に応じて省略されてもよい。

保護フィルム５４（Ｆ１）、５６（Ｆ２）、６４（Ｆ３）および６６（Ｆ４）のうち、保護フィルム５４（Ｆ１）と６６（Ｆ４）の少なくとも一方；好ましくは保護フィルム６６（Ｆ４）を、本発明の光学フィルムのロール体から得られる光学フィルムとすることが好ましい。

以下において、実施例を参照して本発明をより詳細に説明する。これらの実施例によって、本発明の範囲は限定して解釈されない。

１．フィルム材料の準備
１）セルロースアセテート
セルロースアセテート１：アセチル基置換度（アシル基の総置換度）２．９、重量平均分子量Ｍｗ＝１５２０００、数平均分子量Ｍｎ＝９００００、Ｍｗ／Ｍｎ＝１．７、ＳＰ値＝１５．７
セルロースアセテート２：アセチル基置換度（アシル基の総置換度）２．４５、重量平均分子量Ｍｗ＝１５１０００、数平均分子量Ｍｎ＝１０００００、Ｍｗ／Ｍｎ＝１．５

２）可塑剤
ＴＰＰ：トリフェニルホスフェート（ＳＰ値１０．７）

ＢＤＰ：ビフェニルジフェニルホスフェート（ＳＰ値１１．０）

ＥＰＥＧ：エチルフタリルエチルグリコレート（ＳＰ値１０．９）

ＴＭＰ−トリベンゾエート：トリメチロールプロパントリベンゾエート（ＳＰ値１１．０）

ポリエステル化合物Ａ（ｎ＝０〜５の混合物、Ｍｗ４００、ＳＰ値１０）

ポリエステル化合物Ｂ（ｍ＝０〜５、ｎ＝０〜５の混合物、Ｍｗ４００、ＳＰ値１０．１）

ポリエステル化合物Ｃ（ｍ＝１、ｎ＝１、Ｍｗ＝１０００、ＳＰ値＝１０）

ポリエステル化合物Ｄ

化合物のＳＰ値は、参考文献：コーティングの基礎科学 原田勇次著 槇書店（１９７７）のｐ５４〜５７に記載の計算方法に基づいて算出した。

２．光学フィルムの製造
（実施例１）
インライン添加液の調製
１０質量部のアエロジル９７２Ｖ（日本アエロジル社製、一次粒子の平均径１６ｎｍ、見掛け比重９０ｇ／リットル）と、９０質量部のメタノールとをディゾルバーで３０分間撹拌混合した後、マントンゴーリンで分散させて、微粒子分散液を得た。

得られた微粒子分散液に、８８質量部のジクロロメタンを撹拌しながら投入し、ディゾルバーで３０分間撹拌混合して、希釈した。得られた溶液をアドバンテック東洋社製ポリプロピレンワインドカートリッジフィルターＴＣＷ−ＰＰＳ−１Ｎで濾過して、微粒子分散希釈液を得た。

１５質量部のチヌビン９２８（ＢＡＳＦジャパン社製）と、１００質量部のジクロロメタンとを密閉容器に投入し、加熱攪拌して完全に溶解させた後、ろ過した。得られた溶液に、３６質量部の前記微粒子分散希釈液を撹拌しながら加えて３０分間さらに撹拌した後、６質量部のセルロースエステル１（アセチル基置換度２．９、Ｍｎ＝９００００、Ｍｗ＝１５２０００、Ｍｗ／Ｍｎ＝１．７）を撹拌しながら加えて６０分間さらに撹拌した。得られた溶液を、日本精線（株）製ファインメットＮＦで濾過して、インライン添加液を得た。濾材は、公称濾過精度２０μｍのものを用いた。

主ドープ液の調製
下記成分を密閉容器に投入し、加熱および撹拌しながら完全に溶解させた。得られた溶液を安積濾紙（株）製の安積濾紙Ｎｏ．２４で濾過して、主ドープ液を得た。
（主ドープ液の組成）
セルロースアセテート１（アセチル基置換度２．９（アシル基の総置換度２．９）、Ｍｎ＝９００００、Ｍｗ＝１５２０００、Ｍｗ／Ｍｎ＝１．７）：１００質量部
トリフェニルホスフェート（ＴＰＰ、ＳＰ値１０．７）：５質量部
ビフェニルジフェニルホスフェート（ＢＤＰ、ＳＰ値１１．０）：５質量部
ジクロロメタン（ＳＰ値９．７）：４３０質量部
メタノール（ＳＰ値１４．５）：４０質量部

１００質量部の主ドープ液と、２．５質量部のインライン添加液とを、インラインミキサー（東レ静止型管内混合機 Ｈｉ−Ｍｉｘｅｒ、ＳＷＪ）で十分に混合してドープ液を得た。

得られたドープ液を、ベルト流延装置を用いてステンレスバンド支持体上に、ドープ液温度３５℃、幅１．８ｍの条件で均一に流延させた。ステンレスバンド支持体上で、得られたドープ膜中の溶剤を、残留溶剤量が１００％になるまで蒸発させてウェブを得た後、ステンレスバンド支持体からウェブを剥離した。得られたウェブを、３５℃でさらに乾燥させた後、幅１．６５ｍとなるようにスリットした。その後、ウェブを、テンターでＴＤ方向（フィルムの幅手方向）に１．５倍に延伸しながら、１６０℃の乾燥温度で乾燥させた。延伸開始時のウェブの残留溶剤量は２０％であった。また、ステンレスバンド支持体の回転速度とテンターの運転速度から算出されるＭＤ方向の延伸倍率は１．０倍であった。その後、得られたフィルムを、乾燥装置内を多数のロールで搬送させながら１２５℃で１５分間乾燥させた後、２．２ｍ幅にスリットし、幅方向両端部に、凸部の高さが１０μｍ、凸部の幅ｗが１００μｍ、凸部同士の間隔が１０００μｍのエンボス部（エンボス部の幅Ｗ：１５ｍｍ）を形成した。エンボス加工は、以下の条件で行った。
（エンボス加工条件）
エンボスロール：
材質：ステンレス製
ロール径：３０ｃｍ
表面温度：２７０℃
バックロール：
材質：金属製（ステンレス製）
温度：６０℃
フィルムの搬送速度：９０ｍ／分
搬送張力：１２０Ｎ／ｍ
エンボスロールとバックロールとのクリアランス：２７μｍ
エンボスロールとバックロールとによるニップ圧：１５０Ｐａ

このようにして得られた、幅２．２ｍ、長さ４０００ｍ、厚み３０μｍの長尺状の光学フィルムを、長さ方向に巻き取って光学フィルムのロール体を得た。

（実施例２〜２２）
ドープ組成、延伸後のフィルムの乾燥温度、エンボス加工条件、巻長、および光学フィルムの厚みのうちいずれか一以上を、表１または３に示されるように変更した以外は、実施例１と同様にして光学フィルムのロール体を得た。ドープに含まれる添加剤が１種類である場合、添加剤の含有量は５質量部とし；２種類である場合、各添加剤の含有量をそれぞれ５質量部とした。

（比較例１〜３）
延伸後のフィルムの乾燥温度を表２に示されるように変更した以外は実施例１と同様にして光学フィルムのロール体を得た。

（比較例４〜５）
ドープに含まれる溶剤の種類を表２に示されるように変更した以外は、実施例１と同様にして光学フィルムのロール体を得た。このうち、比較例４では、実施例１におけるメタノール４０質量部をエタノール４０質量部に変更し；比較例５では、ブタノール／メタノール＝２０質量部／２０質量部（合計４０質量部）に変更した。

（比較例６〜１２）
エンボス加工条件を表２に示されるように変更した以外は実施例１と同様にして光学フィルムのロール体を得た。

（比較例１３）
光学フィルムの厚みが表４に示される値となるように、ドープの流延厚みを変更した以外は実施例１１と同様にして光学フィルムのロール体を得た。

実施例１〜２２の光学フィルムのロール体の製造条件を表１に示し；比較例１〜１３の光学フィルムのロール体の製造条件を表２に示す。

得られた光学フィルムに残留する溶剤の量、エンボスの耐つぶれ率、およびフィルムの裂けやすさを、以下の方法で評価した。

（残留する溶剤の量）
１）検量線の作成
メタノールの濃度が既知の試料を専用のバイアル瓶に入れ、セプタムとアルミキャップで密閉し、ヘッドスペースサンプラーにセットした。そして、バイアル瓶を、下記のヘッドスペース加熱条件にて加熱して揮発成分を生成させ、当該揮発成分を、ガスクロマトグラフィーにて測定した。メタノール濃度の異なる試料についても、同様の測定を行った。そして、各測定で得られたＧＣチャートにおける溶剤のピーク面積を算出し、溶剤の濃度とピーク面積のプロットを作成し、検量線を得た。同様にして、エタノール、ブタノールの検量線もそれぞれ作成した。
（ヘッドスペースサンプラー）
機器：ヒューレット・パッカード社製ヘッドスペースサンプラーＨＰ７６９４型
ヘッドスペース加熱条件：１２０℃で２０分
（ガスクロマトグラフィー）
機器：ヒューレット・パッカード社製５９７１型
カラム：Ｊ＆Ｗ社製 ＤＢ−６２４
検出器：水素炎イオン化検出器（ＦＩＤ）
ＧＣ昇温条件：４５℃で３分保持した後、８℃／分で１００℃まで昇温
ＧＣ導入温度：１５０℃

２）光学フィルムに残留する溶剤の測定
１０ｃｍ角に切り出したフィルムを、５ｍｍ程度に細かく刻んで専用のバイアル瓶に封入した以外は前記１）と同様にしてヘッドスペース加熱条件にて加熱処理し、得られた揮発成分をガスクロマトグラフィーにて測定した。

得られたチャートから、各溶剤のピーク面積を算出し、前記１）で得た検量線と照合して、フィルムに残留する各溶剤の量を求めた。フィルムに残留する溶剤の量は、フィルム全体に対する質量割合（質量％）として求めた。

（エンボスの耐つぶれ率）
得られた光学フィルムの、エンボス部が施された部分を切り取り、５ｃｍ角のサンプルフィルムを１０枚準備した。サンプルフィルムを、厚み測定機（Ｎｉｋｏｎ デジマイクロ ＭＨ-１５Ｍ）のステージ上に配置し、サンプルフィルムのエンボス部の高さＤ_０を測定した。次いで、図４に示されるように、サンプルフィルム１４Ａのエンボス部１６上に、フィルム面に対して垂直に載置された直径５ｍｍの金属製の円筒棒１８Ａと、その上に配置された分銅１８Ｂとからなる合計１ｋｇの重し１８を載せた。このように、フィルムのエンボス部１６の表面上の直径５ｍｍの円領域に１ｋｇの荷重を加えた状態で、２３℃５５％ＲＨ下において１０分間放置した。その後、円筒棒１８Ａと分銅１８Ｂからなる重し１８を除去して得られるサンプルフィルム１４Ａのエンボス部の高さＤを、前述と同様にして測定した。得られた測定値を、それぞれ下記式に当てはめて、耐つぶれ率を算出した。

同様の測定を、他の９枚のサンプルフィルムについても行い、耐つぶれ率を算出した。そして、１０回の測定で得られた耐つぶれ率の平均値を求めた。

（裂けやすさ）
得られた光学フィルムのロール体を、２３℃５５％ＲＨ下で２４時間保存した。その後、ロール体から光学フィルムを巻き出し、巻芯近傍の光学フィルムの幅方向中央部分を切り取って、幅５０ｍｍ×長さ６４ｍｍのサンプルフィルムを得た。得られたサンプルフィルムを、２３℃５５％ＲＨ下で２４時間調湿した後、ＩＳＯ６３８３／２−１９８３に準拠したエルメンドルフ引き裂き強度を測定した。

エルメンドルフ引き裂き強度は、東洋精機（株）Ｆ９経過重差だし引裂き試験機を用いて測定した。引き裂き強度は、２３℃５５％ＲＨ下で、フィルムの長さ方向（ＭＤ方向）に引き裂いた場合と、フィルムの幅方向（ＴＤ方向）に引き裂いた場合のそれぞれについて行い、それらの平均値を「引き裂き強度」とした。

裂けやすさを、以下の基準に基づいて評価した。
◎：引き裂き強度が５０ｍＮ以上
○：引き裂き強度が４０ｍＮ以上５０ｍＮ未満
○△：引き裂き強度が３０ｍＮ以上４０ｍＮ未満
△：引き裂き強度が２０ｍＮ以上３０ｍＮ未満
×：引き裂き強度が１０ｍＮ以上２０ｍＮ未満
××：引き裂き強度が１０ｍＮ未満

実施例１〜２２で得られた光学フィルムの評価結果を表３に示し；比較例１〜１３で得られた光学フィルムの評価結果を表４に示す。

表３および４に示されるように、エンボス部の凸部の耐つぶれ率が３０％以上であり、かつロール体の光学フィルムに残留するメタノール量が１０〜１００質量ｐｐｍの範囲にある実施例１〜２２の光学フィルムは、比較例１〜１３の光学フィルムよりもフィルムが裂けにくいことがわかる。

比較例１〜５の対比から、フィルムに残留するメタノール量が少なすぎても多すぎても、光学フィルムが裂けやすいことがわかる。即ち、残留するメタノール量が多すぎる比較例２および３の光学フィルムは、可塑剤がフィルム中を移動しやすくなり、光学フィルムに添加剤が疎な部分と密な部分とが形成されると考えられる。また、残留するメタノール量が少なすぎる比較例１の光学フィルムは、可塑剤の膜内での移動は抑制されるが、溶媒が存在しないことにより、フィルムの柔軟性が損なわれるため、フィルムが裂けやすくなると考えられる。

実施例１と比較例６および７との対比から、バックロールの表面温度を低くしすぎると、セルロースアセテートを均一に結晶化させにくいため、弾性率の高いエンボス部が形成されず、光学フィルムが裂けやすくなることが示唆される。また、フィルムが熱膨張して、エンボス部近傍のフィルムの表裏面が波打つため、フィルム同士が密着しやすくなり、光学フィルムが裂けやすいことがわかる。さらに、実施例１と比較例１１との対比から、ゴム製のバックロールを用いると、金属製のバックロールを用いるよりも、フィルムに熱を均一かつ十分に伝わらせにくいため、セルロースアセテートを十分に結晶化させることができず、得られる光学フィルムが裂けやすいことが示唆される。

本発明によれば、厚みが薄くても、加工時に裂けにくい光学フィルムを提供することができる。

１０ 光学フィルムのロール体
１２ 巻芯
１４ 光学フィルム
１４Ａ サンプルフィルム
１５ ステージ
１６ エンボス部
１８Ａ 円筒棒
１８Ｂ 分銅
１８ 重し
２０ エンボス加工装置
２２ エンボスロール
２４ バックロール
３０ 液晶表示装置
４０ 液晶セル
５０ 第一の偏光板
５２ 第一の偏光子
５４ 保護フィルム（Ｆ１）
５６ 保護フィルム（Ｆ２）
６０ 第二の偏光板
６２ 第二の偏光子
６４ 保護フィルム（Ｆ３）
６６ 保護フィルム（Ｆ４）
７０ バックライト
Ｄ、Ｄ_０ エンボス部の凸部の高さ

Claims (7)

1. セルロースアセテートと、ＳＰ値が９〜１１の可塑剤とを含有する、厚み２０〜５０μｍの光学フィルムを、フィルムの幅方向に対して垂直方向に巻き取って得られる光学フィルムのロール体であって、
   前記光学フィルムは、幅方向両端部にエンボス部を有し、
   前記光学フィルムの前記エンボス部の表面上の、直径５ｍｍの円領域に１ｋｇの荷重を加えた状態で２３℃５５％ＲＨ下において１０分間保存した後の前記エンボス部の凸部の高さをＤとし、前記荷重を加える前の前記エンボス部の凸部の高さをＤ_０としたとき、下記式で示される耐つぶれ率が３０％以上であり、
   

   

   前記光学フィルムにおけるメタノールの残留量が、前記光学フィルムに対して１０〜１００質量ｐｐｍであり、かつ前記光学フィルムにおけるエタノールおよびブタノールのいずれの残留量よりも多い、光学フィルムのロール体。
2. 前記セルロースアセテートのアセチル基の総置換度が、２．３以上２．９５以下である、請求項１に記載の光学フィルムのロール体。
3. 前記光学フィルムの巻長が、１０００ｍ以上８０００ｍ以下である、請求項１または２に記載の光学フィルムのロール体。
4. 前記可塑剤が、トリフェニルホスフェート、エチルフタリルエチルグリコレートまたはポリエステル化合物である、請求項１〜３のいずれか一項に記載の光学フィルムのロール体。
5. 前記ポリエステル化合物が、炭素数１〜４のジオールと、少なくとも芳香族ジカルボン酸を含有するジカルボン酸とを反応させて得られる化合物の分子末端を、芳香族基または脂肪族基でさらに封止したものである、請求項４に記載の光学フィルムのロール体。
6. 前記可塑剤の含有量が、前記セルロースアセテートに対して１〜２０質量％である、請求項１〜５のいずれか一項に記載の光学フィルムのロール体。
7. 請求項１〜６のいずれか一項に記載の光学フィルムのロール体における、前記光学フィルムの前記エンボス部を除去するステップと、
   前記エンボス部が除去された前記光学フィルムと、偏光子とを貼り合わせるステップと、
   を有する、偏光板の製造方法。

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