JP5102433B2 - 真空ポンプに組み入れられた、プラズマによる気体処置システム - Google Patents
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Description
1) CF4+2H2O → CO2+4HF
2) CF4+2H2O → CO+4HF+1/2O2
2 ポンプユニット
3 ポンプ入口
4 ポンプ出口
5、6、7、8、9 ステージ
10、11、12、13 ステージ間ライン
14 モータ
15、16、26、27 プラズマ源
17、18 高周波数発生装置
20、21 光学分光計
19 パージ回路
22 中和気体源
23 制御装置
24、25 光ファイバ
Claims (10)
- 少なくとも1つのポンプユニット(2)と、少なくとも1つの被ポンピング気体処置システムとを備える気体ポンピングおよび処置システムであって、
ポンプユニット(2)は、真空ポンプケーシングを備えており、複数のポンピングステージ(5、6、7、8、9)が、ポンプ入口とポンプ出口との間で、真空ポンプケーシングの内部に存在しており、複数のポンピングステージが、それぞれ固定子および回転子を有していると共に、真空ポンプケーシングの内部の各ステージ間ラインを介して、気体の流れの方向に順に直列に接続されており、
被ポンピング気体処置システムが、ポンプユニット(2)を通過する気体のいくらかを少なくとも部分的に分解するプラズマを、ステージ間ライン又はステージの内部空気空間において発生するために、ポンプユニット(2)の真空ポンプケーシングの内部に設置された少なくとも1つのプラズマ源(15、16、26、27)を備えている、前記気体ポンピングおよび処置システム。 - プラズマ源(26、27)が、ポンプユニット(2)の真空ポンプケーシングの内部のポンピングステージ(5、6)に設置される請求項1に記載の気体ポンピングおよび処置システム。
- プラズマ源(26、27)を含むポンピングステージ(5、6)が、低圧ステージである請求項2に記載の気体ポンピングおよび処置システム。
- プラズマ源(15、16)が、ポンプユニット(2)の真空ポンプケーシングの内部のステージ間ライン(10、11)に配置される請求項1に記載の気体ポンピングおよび処置システム。
- ステージ間ライン(10、11)が、ポンプユニット(2)の2つの低圧ステージ(5、6および6、7)を接続する請求項4に記載の気体ポンピングおよび処置システム。
- ポンプユニット(2)のポンピングステージ(5、6および6、7)間のいくつかの連続ステージ間ライン(10、11)内にそれぞれ挿入されたいくつかのプラズマ源(15、16)を備える請求項1に記載の気体ポンピングおよび処置システム。
- パージ回路(19)と、中和気体をポンプユニット(2)内に導入するために中和気体をパージ回路(19)に注入するのに適した中和気体源(22)を備える請求項1に記載の気体ポンピングおよび処置システム。
- プラズマによる気体種の変換率を増大させるために、ステージ間ライン(10、11)における内圧および各プラズマパラメータを最適化するように、ポンプユニットの回転速度を調節する制御装置(23)を備える請求項1に記載の気体ポンピングおよび処置システム。
- プラズマ誘起気体種変換収量を向上させるために、ポンピング速度に従ってプラズマ源(15、16、26、27)によって送り出されるプラズマ発生出力を調整する制御装置(23)を備える請求項1および8のいずれか一項に記載の気体ポンピングおよび処置システム。
- ポンプユニット(2)の速度、および/またはプラズマ源(15、16、26、27)の出力、および/または中和気体源(22)によってパージ回路(19)に注入される中和気体の量に関して作用することによって、ステージ間ライン(10、11)における気体反応を測定、監視および最適化する、少なくとも1つのプラズマ源(15、16、26、27)と組み合わされた少なくとも1つの光学分光プラズマ測定装置(20、21)を備える請求項1に記載の気体ポンピングおよび処置システム。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
FR0314176A FR2863103B1 (fr) | 2003-12-01 | 2003-12-01 | Systeme de traitement des gaz par plasma integre dans une pompe a vide |
FR0314176 | 2003-12-01 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2005205399A JP2005205399A (ja) | 2005-08-04 |
JP5102433B2 true JP5102433B2 (ja) | 2012-12-19 |
Family
ID=34451713
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2004345489A Expired - Fee Related JP5102433B2 (ja) | 2003-12-01 | 2004-11-30 | 真空ポンプに組み入れられた、プラズマによる気体処置システム |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US7998426B2 (ja) |
EP (1) | EP1538656B1 (ja) |
JP (1) | JP5102433B2 (ja) |
AT (1) | ATE408236T1 (ja) |
DE (1) | DE602004016445D1 (ja) |
FR (1) | FR2863103B1 (ja) |
Families Citing this family (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE102006039529A1 (de) * | 2006-08-23 | 2008-03-06 | Oerlikon Leybold Vacuum Gmbh | Verfahren zur Abreaktion selbstentzündlicher Stäube in einer Vakuumpumpvorrichtung |
FR2981705B1 (fr) | 2011-10-19 | 2013-11-22 | Adixen Vacuum Products | Dispositif de pompage et de traitement des gaz |
JP6472653B2 (ja) * | 2014-03-17 | 2019-02-20 | 株式会社荏原製作所 | 除害機能付真空ポンプ |
JP6441660B2 (ja) * | 2014-03-17 | 2018-12-19 | 株式会社荏原製作所 | 除害機能付真空ポンプ |
FR3019471B1 (fr) * | 2014-04-04 | 2016-05-06 | Thales Sa | Dispositif de conversion d'un effluent gazeux par plasma multi-source |
GB2540754A (en) | 2015-07-22 | 2017-02-01 | Edwards Ltd | Abatement system |
Family Cites Families (15)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0448750B1 (de) * | 1990-03-27 | 1996-05-01 | Leybold Aktiengesellschaft | Mehrstufige trockenverdichtende Vakuumpumpe und Verfahren zu ihrem Betrieb |
NL9200076A (nl) * | 1992-01-16 | 1993-08-16 | Leybold B V | Werkwijze, droge meertrapspomp en plasmascrubber voor het omvormen van reactieve gassen. |
US6187072B1 (en) * | 1995-09-25 | 2001-02-13 | Applied Materials, Inc. | Method and apparatus for reducing perfluorocompound gases from substrate processing equipment emissions |
JPH1176740A (ja) * | 1997-09-05 | 1999-03-23 | Mitsui Chem Inc | 有機フッ素系排ガスの分解処理方法及び分解処理装置 |
US6192287B1 (en) * | 1997-09-23 | 2001-02-20 | On-Line Technologies, Inc. | Method and apparatus for fault detection and control |
JP3709432B2 (ja) * | 1999-04-30 | 2005-10-26 | アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド | 排ガス処理装置及び基板処理装置 |
JP2000323466A (ja) * | 1999-04-30 | 2000-11-24 | Applied Materials Inc | 基板処理装置 |
JP2001079335A (ja) * | 1999-09-14 | 2001-03-27 | Univ Chuo | 排ガス処理方法及び装置 |
US6621227B1 (en) * | 2000-02-08 | 2003-09-16 | Canon Kabushiki Kaisha | Discharge generating apparatus and discharge generating method |
JP2001252527A (ja) * | 2000-03-13 | 2001-09-18 | Seiko Epson Corp | Pfcの処理方法および処理装置 |
JP2001314752A (ja) * | 2000-05-12 | 2001-11-13 | Hokushin Ind Inc | プラズマ反応容器及びガスプラズマ分解方法 |
FR2825295B1 (fr) * | 2001-05-31 | 2004-05-28 | Air Liquide | Application des plasmas denses crees a pression atmospherique au traitement d'effluents gazeux |
US6685803B2 (en) * | 2001-06-22 | 2004-02-03 | Applied Materials, Inc. | Plasma treatment of processing gases |
JP3758550B2 (ja) * | 2001-10-24 | 2006-03-22 | アイシン精機株式会社 | 多段真空ポンプ |
FR2925205B1 (fr) | 2007-12-12 | 2011-04-29 | Bernard Abel Andre Leuvrey | Insert d'identification et de tracabilite des arbres |
-
2003
- 2003-12-01 FR FR0314176A patent/FR2863103B1/fr not_active Expired - Fee Related
-
2004
- 2004-11-26 DE DE602004016445T patent/DE602004016445D1/de active Active
- 2004-11-26 AT AT04292798T patent/ATE408236T1/de not_active IP Right Cessation
- 2004-11-26 EP EP04292798A patent/EP1538656B1/fr not_active Not-in-force
- 2004-11-30 JP JP2004345489A patent/JP5102433B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2004-11-30 US US10/998,915 patent/US7998426B2/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
DE602004016445D1 (de) | 2008-10-23 |
ATE408236T1 (de) | 2008-09-15 |
EP1538656B1 (fr) | 2008-09-10 |
JP2005205399A (ja) | 2005-08-04 |
FR2863103B1 (fr) | 2006-07-14 |
US20050142000A1 (en) | 2005-06-30 |
EP1538656A1 (fr) | 2005-06-08 |
FR2863103A1 (fr) | 2005-06-03 |
US7998426B2 (en) | 2011-08-16 |
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Date | Code | Title | Description |
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A621 | Written request for application examination |
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|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20100803 |
|
A601 | Written request for extension of time |
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A602 | Written permission of extension of time |
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A521 | Request for written amendment filed |
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A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
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FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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